本文由 復(fù)納科學(xué)儀器（上海）有限公司 整理匯編

2018-08-22 10:00 736閱讀次數(shù)

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• 利用掃描電鏡觀察氫氧化鉀蝕刻制備的硅微觀結(jié)構(gòu)

  氫氧化鉀蝕刻（KOH）是制造微型器件的一個(gè)重要工藝，用于從硅片上去除材料。選擇性地蝕刻硅片的某些部分，用一層二氧化硅或掩膜來(lái)保護(hù)剩下的部分。然而，殘留物的存在成為這種技術(shù)的一個(gè)缺點(diǎn)，因?yàn)樗鼤?huì)對(duì)器件的制造過(guò)程產(chǎn)生負(fù)面影響。在這篇博客中，我們提出了一種利用蝕刻殘留物的方法，將其作為后續(xù)蝕刻的掩膜，以制造兩層微結(jié)構(gòu)。我們還提供了如何有效地利用掃描電鏡SEM對(duì)這些微結(jié)構(gòu)進(jìn)行成像的例子。KOH化學(xué)硅蝕刻技術(shù)蝕刻是微加工中一個(gè)非常重要和關(guān)鍵的過(guò)程，在此過(guò)程中，材料通過(guò)蝕刻劑在硅片表面進(jìn)行化學(xué)去除。蝕刻有兩種:濕蝕刻，蝕刻劑是液體，和干蝕刻，蝕刻劑是等離子體。干蝕刻是各向異性的，因此在蝕刻材料中形成垂直側(cè)壁，如圖1a所示。在另一方面，濕蝕刻劑通常是各向同性，這意味著蝕刻在各個(gè)方向都是均勻的，產(chǎn)生圓壁和削弱效果，如圖1b所示。KOH是一種液相蝕刻劑，在晶體平面上是各向異性的。因此，它對(duì)硅片的晶體取向很敏感，產(chǎn)生梯形截面腔，如圖1c所示。KOH蝕刻的主要缺點(diǎn)之一是殘留物的沉積，這是由蝕刻劑和被移出材料之間的相互作用所造成的:是這項(xiàng)技術(shù)Z薄弱的一點(diǎn)。圖1:生成的基體橫截面示意圖，(a)wan美各向異性的侵蝕，(b)一個(gè)完全各向同性的侵蝕，(c)一個(gè)濕蝕刻的各向異性腐蝕劑[詳細(xì)]

  2018-08-22 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 利用SPM觀察高分子薄膜的層狀結(jié)構(gòu)

  利用SPM觀察高分子薄膜的層狀結(jié)構(gòu)[詳細(xì)]

  2004-05-14 00:00

  安裝說(shuō)明

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• 磁性樣品的掃描電鏡觀察與分析

  磁性樣品的掃描電鏡觀察與分析[詳細(xì)]

  2024-09-27 23:46

  其它

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• 油脂雙層體的微觀結(jié)構(gòu)測(cè)量

  油脂雙層體的微觀結(jié)構(gòu)測(cè)量[詳細(xì)]

  2024-09-28 01:15

  實(shí)驗(yàn)操作

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• 高聚物微觀結(jié)構(gòu)的固體NMR研究

  高聚物微觀結(jié)構(gòu)的固體NMR研究[詳細(xì)]

  2024-09-15 16:37

  標(biāo)準(zhǔn)

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• 利用掃描電鏡開(kāi)發(fā)新材料

  新一代材料的技術(shù)規(guī)格使我們的生產(chǎn)技術(shù)達(dá)到了一個(gè)全新水平，幫助我們創(chuàng)造出過(guò)去不可能實(shí)現(xiàn)的zhuo越產(chǎn)品。這些材料是材料科學(xué)不斷創(chuàng)新的產(chǎn)物，并且只有在復(fù)合材料的發(fā)明并將其引入工業(yè)領(lǐng)域的條件下才能實(shí)現(xiàn)。這篇文章描述了這些新材料是如何被開(kāi)發(fā)的同樣重要的是：如何分析它們的化學(xué)成分，以及它們的性能。如何開(kāi)發(fā)和保留復(fù)合材料的優(yōu)異性能某些材料具有一些優(yōu)異的性能，可以wan美地配合特定的應(yīng)用。不幸的是，有時(shí)候受環(huán)境的影響，不能輕易地使用這些材料。它們往往需要不斷的更換，減少了它們?cè)谑褂蒙纤哂械膬?yōu)勢(shì)。通過(guò)開(kāi)發(fā)多層結(jié)構(gòu)，或者噴鍍涂層，這些精致的復(fù)合材料可以被有效保護(hù)并投入使用。圖1：涂覆不同材料的玻璃片[詳細(xì)]

  2018-08-22 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 掃描電鏡中如何觀察含水樣品？

  掃描電鏡（SEM）用電子束掃描樣品表面，收集攜帶電子束與樣品相互作用信息的反射電子。如果樣品倉(cāng)內(nèi)殘留有空氣，空氣原子與電子束相互作用，部分偏轉(zhuǎn)電子，并在圖像上增加噪聲。這就是掃描電鏡成像前必須達(dá)到一定真空度的原因。但是，雖然高的真空對(duì)于準(zhǔn)確的分析來(lái)說(shuō)是至關(guān)重要的，但它也會(huì)對(duì)某些類型的材料成像產(chǎn)生負(fù)面影響，例如含有水分的樣品。閱讀這篇博客，了解如何在掃描電鏡的真空環(huán)境中觀察對(duì)真空敏感的樣品，并保持樣品結(jié)構(gòu)完整。SEM中的真空度首先，我們來(lái)談?wù)剴呙桦婄R（SEM）中的真空度。真空度（或壓力值）可由操作者控制。對(duì)于臺(tái)式掃描電鏡，真空度在1-10帕斯卡之間。用于比較的是：大氣壓是100000帕斯卡。當(dāng)壓力降到大氣壓值以下時(shí)，所有液體都會(huì)發(fā)生相變。因此所有掃描電鏡（SEM）的內(nèi)部必須采用不受高真空度影響的特殊材料。有些樣品會(huì)受到影響，并且它們的行為也會(huì)有所不同：Z敏感的是含水樣品。有內(nèi)部孔隙的樣品，或者是由含水材料制成的樣品，都可能會(huì)受到影響，因?yàn)樗鼈儠?huì)在成像過(guò)程中釋放出氣體。任何從樣品中釋放出的氣體都是成像工具的風(fēng)險(xiǎn)，因?yàn)樗赡軙?huì)污染鏡筒或探測(cè)器，損害儀器的功能，或影響圖像質(zhì)量。出于這個(gè)原因，飛納臺(tái)式掃描電鏡（PhenomDesktopSEM）通常配備一個(gè)保護(hù)程序，當(dāng)檢測(cè)到突然或意外增加的壓力水平時(shí)，會(huì)彈出樣品。[詳細(xì)]

  2018-08-22 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• TESCAN掃描電鏡應(yīng)用之孢子觀察

  地球環(huán)境的急劇變化導(dǎo)致全世界植物群很多物種逐漸消失。因此，對(duì)植物的嚴(yán)密監(jiān)護(hù)很有必 要。孢子來(lái)自于山腳區(qū)的角苔類，是很重要的植物物種之一。每種植物都有自己特有的孢子結(jié)構(gòu)，植物學(xué)家通過(guò)觀察植物孢子的結(jié)構(gòu)和形貌，便可確定該植物在自然界的存在情況。[詳細(xì)]

  2024-09-18 04:19

  應(yīng)用文章

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• 直銷氫氧化鉀濃度計(jì)

  直銷氫氧化鉀濃度計(jì)[詳細(xì)]

  2012-06-09 00:00

  課件

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• 掃描電鏡低電壓觀察在鋼鐵研究中的應(yīng)用

  掃描電鏡低電壓觀察在鋼鐵研究中的應(yīng)用[詳細(xì)]

  2024-09-11 17:56

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 利用掃描電鏡全面了解樣品

  樣品名稱鉛電池極片框架樣品類型金屬，固體是否噴金未噴金設(shè)備型號(hào)飛納臺(tái)式掃描電鏡PhenomPure+測(cè)試項(xiàng)目掃描電鏡：背散射探頭模式Topo模式3D粗糙度重建二次電子探頭能譜：EDSmapping測(cè)試目的表面鍍層質(zhì)量觀察[詳細(xì)]

  2018-08-22 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 利用JSM-7800F觀察CP加工的太陽(yáng)能電池截面

  利用JSM-7800F觀察CP加工的太陽(yáng)能電池截面[詳細(xì)]

  2016-01-05 00:00

  操作手冊(cè)

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• 兩種球磨技術(shù)制備Fe（Nb,Zr）合金的微觀結(jié)構(gòu)和磁性行為對(duì)比

  通過(guò)兩種不同運(yùn)動(dòng)方式的高能球磨機(jī)（行星式和振動(dòng)式）制備出和兩種納米晶合金。分別通過(guò)X射線衍射（XRD）、差熱熱重分析（DSC）、振動(dòng)磁強(qiáng)計(jì)（VSM）等手段測(cè)定研磨粉末的微觀結(jié)構(gòu)、熱效應(yīng)和磁性行為。相對(duì)來(lái)講，研磨方式的不同會(huì)影響Z終產(chǎn)物的微觀結(jié)構(gòu)和性能。結(jié)果顯示：生成的兩種納米晶合金的主要相是體心立方結(jié)構(gòu)的Fe基固溶體，且振動(dòng)式高能球磨帶來(lái)更高的能量輸入；通過(guò)SPEX8000振動(dòng)式高能球磨機(jī)制備的納米合金發(fā)現(xiàn)次生Nb(B)相，而FritschP7行星式球磨機(jī)制備的只觀察到了少量的Zr基次生相；納米晶晶粒尺寸為9.5-15.1nm，次生相則對(duì)應(yīng)著更低的晶粒尺寸；室溫下測(cè)量矯頑力值在28.636.9Oe。[詳細(xì)]

  2018-08-17 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 實(shí)驗(yàn)室專用氫氧化鉀濃度計(jì)

  實(shí)驗(yàn)室專用氫氧化鉀濃度計(jì)[詳細(xì)]

  2012-06-09 00:00

  標(biāo)準(zhǔn)

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• 如何避免掃描電鏡觀察過(guò)程中碳沉積現(xiàn)象

  在使用掃描電鏡進(jìn)行樣品觀察時(shí)，尤其是采用二次電子模式，隨著觀察時(shí)間的延長(zhǎng)，在觀察的區(qū)域會(huì)出現(xiàn)一塊黑的矩形的區(qū)域。 如下圖所示，對(duì)一塊空白的鋁制樣品臺(tái)進(jìn)行觀察時(shí)，一段時(shí)間后降低放大倍數(shù)，發(fā)現(xiàn)圖像中間有一明顯的黑色矩形，我們可以簡(jiǎn)單的稱這種現(xiàn)象叫做碳沉積。 [詳細(xì)]

  2020-06-30 13:24

  應(yīng)用文章

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• 綜合表征聚烯烴微觀結(jié)構(gòu)的交叉分離色譜（CFC）

  綜合表征聚烯烴微觀結(jié)構(gòu)的交叉分離色譜（CFC）[詳細(xì)]

  2024-09-18 18:07

  應(yīng)用文章

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• 超清晰成像，觀察菌落細(xì)微結(jié)構(gòu)

  超清晰成像，觀察菌落細(xì)微結(jié)構(gòu)[詳細(xì)]

  2024-09-27 23:57

  操作手冊(cè)

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• 徠卡 微觀結(jié)構(gòu)成分分析解決方案 DM6M LIBS產(chǎn)品樣冊(cè)

  徠卡 微觀結(jié)構(gòu)成分分析解決方案 DM6M LIBS產(chǎn)品樣冊(cè)[詳細(xì)]

  2024-09-18 18:10

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 馳奔-E系列掃描電鏡應(yīng)用-硅太陽(yáng)能電池

  馳奔-E系列掃描電鏡應(yīng)用-硅太陽(yáng)能電池[詳細(xì)]

  2016-09-08 00:00

  專利

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