本文由 上海科學(xué)儀器有限公司 整理匯編

2018-08-17 10:00 404閱讀次數(shù)

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• 利用ICP-MS對(duì)半導(dǎo)體級(jí)鹽酸中的雜質(zhì)進(jìn)行分析

  在半導(dǎo)體設(shè)備的生產(chǎn)過程中，許多流程中都要用到各種酸類試劑。其中Z重要的是鹽酸（HCl），其主要用途是與過氧化氫和水配制成混合物用來(lái)清潔硅晶片的表面。由于半導(dǎo)體設(shè)備尺寸不斷縮小，其生產(chǎn)中使用的試劑純度變得越來(lái)越重要，這是因?yàn)榧词故巧倭侩s質(zhì)也會(huì)導(dǎo)致設(shè)備的失效。國(guó)際SEMI標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的是金屬雜質(zhì)的Zda濃度（SEMI標(biāo)準(zhǔn)C27-07081用于鹽酸），而半導(dǎo)體設(shè)備的生產(chǎn)商對(duì)雜質(zhì)濃度的要求往往更加嚴(yán)格，這樣就給試劑供應(yīng)商帶來(lái)了更大的挑戰(zhàn)。其結(jié)果是，分析儀器也必須能夠?qū)Ω蜐舛鹊碾s質(zhì)成分極ng確檢測(cè)。電感耦合等離子體質(zhì)譜（ICP-MS）具備極ng確測(cè)定納克/升（ng/L，PPT）甚至更低濃度元素含量的能力，是Z適合測(cè)量痕量及超痕量金屬的技術(shù)。然而，常規(guī)的測(cè)定條件下，氬、氧、氫離子會(huì)與酸基體相結(jié)合，對(duì)待測(cè)元素產(chǎn)生多原子離子干擾。[詳細(xì)]

  2018-08-17 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 利用NexION 2000 對(duì)半導(dǎo)體級(jí)鹽酸中的雜質(zhì)進(jìn)行分析

  電感耦合等離子體質(zhì)譜（ICP-MS）具備極ng確測(cè)定納克/升（ng/L，PPT）甚至更低濃度元素含量的能力，是Z適合測(cè)量痕量及超痕量金屬的技術(shù)。然而，常規(guī)的測(cè)定條件下，氬、氧、氫離子會(huì)與酸基體相結(jié)合，對(duì)待測(cè)元素產(chǎn)生多原子離子干擾。[詳細(xì)]

  2018-08-17 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 動(dòng)態(tài)反應(yīng)池-ICP-MS分析半導(dǎo)體級(jí)鹽酸中雜質(zhì)

  動(dòng)態(tài)反應(yīng)池-ICP-MS分析半導(dǎo)體級(jí)鹽酸中雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2013-08-06 00:00

  選購(gòu)指南

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• 使用 spICP-MS/MS 對(duì)半導(dǎo)體制程化學(xué)品進(jìn)行多元素納米顆粒分析

  使用 spICP-MS/MS 對(duì)半導(dǎo)體制程化學(xué)品進(jìn)行多元素納米顆粒分析[詳細(xì)]

  2021-04-08 11:06

  應(yīng)用文章

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• NexION 300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)TMAH中的雜質(zhì)

  NexION 300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)TMAH中的雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2013-07-17 00:00

  其它

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• NexION 300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)硝酸中的雜質(zhì)

  NexION 300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)硝酸中的雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2024-09-12 18:28

  操作手冊(cè)

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• NexION 300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)硫酸中的雜質(zhì)

  NexION 300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)硫酸中的雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2024-09-15 17:52

  期刊論文

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• 利用ICP-MS 對(duì)太陽(yáng)能（光伏）級(jí)硅塊進(jìn)行超痕量分析

  利用ICP-MS 對(duì)太陽(yáng)能（光伏）級(jí)硅塊進(jìn)行超痕量分析[詳細(xì)]

  2024-09-18 18:06

  應(yīng)用文章

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• NexION 300S ICP-MS測(cè)定硅晶片中的雜質(zhì)

  NexION 300S ICP-MS測(cè)定硅晶片中的雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2013-07-17 00:00

  操作手冊(cè)

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• 使用UPC2/MS進(jìn)行雜質(zhì)分析

  使用UPC2/MS進(jìn)行雜質(zhì)分析[詳細(xì)]

  2014-06-20 00:00

  其它

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• 液氧中雜質(zhì)的分析

  液氧中雜質(zhì)的分析[詳細(xì)]

  2024-09-29 08:56

  標(biāo)準(zhǔn)

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• 利用AAS 對(duì)飲用水樣中銫進(jìn)行分析

  采用Perkinelmer公司的PinAAcle900TAAS，可對(duì)飲用水樣中的Cs進(jìn)行測(cè)定，靈敏度高，穩(wěn)定性好，加標(biāo)回收率穩(wěn)定。Cs容易揮發(fā)，配置標(biāo)準(zhǔn)儲(chǔ)備液時(shí)一定要帶酸基質(zhì)，建議采用0.5%的硝酸以確保標(biāo)準(zhǔn)溶液的穩(wěn)定性。此外，采用0.2%（V/V）硫酸作為基體改進(jìn)劑可改善峰形，提高測(cè)量的重現(xiàn)性。[詳細(xì)]

  2018-08-17 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 利用 AAS 對(duì)飲用水樣中銫進(jìn)行分析

  采用 Perkinelmer 公司的 PinAAcle 900T AAS，可對(duì)飲用水樣 中的 Cs 進(jìn)行測(cè)定，靈敏度高，穩(wěn)定性好，加標(biāo)回收率穩(wěn)定。Cs 容易揮發(fā)，配置標(biāo)準(zhǔn)儲(chǔ)備液時(shí)一定要帶酸基質(zhì)，建議采用 0.5% 的硝酸以確保標(biāo)準(zhǔn)溶液的穩(wěn)定性。此外，采用 0.2%（V/ V）硫酸作為基體改進(jìn)劑可改善峰形，提高測(cè)量的重現(xiàn)性。[詳細(xì)]

  2024-09-19 19:56

  應(yīng)用文章

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• 利用 Agilent InfinityLab Poroshell 120 HPH-C8 色譜柱分析奧美拉唑中的雜質(zhì)

  利用 Agilent InfinityLab Poroshell 120 HPH-C8 色譜柱分析奧美拉唑中的雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2024-09-16 06:23

  應(yīng)用文章

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• 使用 Agilent 8900 ICP-MS/MS分析高純度銅中的超痕量雜質(zhì)

  使用 Agilent 8900 ICP-MS/MS分析高純度銅中的超痕量雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2024-09-29 01:36

  應(yīng)用文章

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• NexION 300S 測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)TMAH中的雜質(zhì)

  四甲基氫氧化銨（TMAH）是一種廣泛用于半導(dǎo)體光刻工藝和液晶顯示器生產(chǎn)中形成酸性光阻的基本溶劑，因此對(duì)TMAH純度的檢測(cè)變得越來(lái)越重要。由于具有快速測(cè)定各種工藝化學(xué)品中超痕量濃度待測(cè)元素的能力，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）已成為了質(zhì)量控制不可缺少的分析工具。然而，解決由基體帶來(lái)的多原子干擾和由于含有碳造成的基體YZ效應(yīng)是非常重要的。本應(yīng)用報(bào)告證明了NexION?300SICP-MS去除干擾，從而在使用高溫等離子體的條件下通過一次分析就能夠?qū)MAH中全部痕量水平的雜質(zhì)元素進(jìn)行測(cè)定的能力。[詳細(xì)]

  2018-08-17 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 利用Lab-X3500進(jìn)行硅樹脂涂層分析

  利用Lab-X3500進(jìn)行硅樹脂涂層分析[詳細(xì)]

  2024-09-29 05:18

  報(bào)價(jià)單

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• NexION300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體行業(yè)中使用有機(jī)溶劑的雜質(zhì)

  NexION300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體行業(yè)中使用有機(jī)溶劑的雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2024-10-05 12:26

  實(shí)驗(yàn)操作

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• 茶堿中雜質(zhì)分析

  茶堿中雜質(zhì)分析[詳細(xì)]

  2024-10-06 08:16

  標(biāo)準(zhǔn)

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• 鹽酸莫西沙星注射液中雜質(zhì)的檢測(cè)及結(jié)構(gòu)鑒定

  鹽酸莫西沙星注射液中雜質(zhì)的檢測(cè)及結(jié)構(gòu)鑒定[詳細(xì)]

  2015-07-06 00:00

  標(biāo)準(zhǔn)

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