本文由 美國perkinelmer有限公司 整理匯編

2013-07-17 00:00 316閱讀次數(shù)

收藏 評價 舉報

• 分享

立即下載

參與評論

評論

登錄后參與評論

登錄或新用戶注冊

• 微信登錄
• 密碼登錄
• 短信登錄

請用手機微信掃描下方二維碼
快速登錄或注冊新賬號

微信掃碼，手機電腦聯(lián)動

注冊登錄即表示同意《儀器網(wǎng)服務(wù)條款》和《隱私協(xié)議》

賬  號：

密  碼：

圖片碼： 看不清？
換一張？

手機和郵箱號注冊新賬號>> 忘記密碼？

手機號：

圖片碼： 看不清？
換一張？

短信碼： 獲取短信碼

手機和郵箱號注冊新賬號>> 忘記密碼？

更多資料

• NexION 300S ICP-MS測定半導(dǎo)體級TMAH中的雜質(zhì)

  NexION 300S ICP-MS測定半導(dǎo)體級TMAH中的雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2013-07-17 00:00

  其它

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• NexION 300S 測定半導(dǎo)體級TMAH中的雜質(zhì)

  四甲基氫氧化銨（TMAH）是一種廣泛用于半導(dǎo)體光刻工藝和液晶顯示器生產(chǎn)中形成酸性光阻的基本溶劑，因此對TMAH純度的檢測變得越來越重要。由于具有快速測定各種工藝化學(xué)品中超痕量濃度待測元素的能力，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）已成為了質(zhì)量控制不可缺少的分析工具。然而，解決由基體帶來的多原子干擾和由于含有碳造成的基體YZ效應(yīng)是非常重要的。本應(yīng)用報告證明了NexION?300SICP-MS去除干擾，從而在使用高溫等離子體的條件下通過一次分析就能夠?qū)MAH中全部痕量水平的雜質(zhì)元素進(jìn)行測定的能力。[詳細(xì)]

  2018-08-17 10:00

  產(chǎn)品樣冊

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• NexION 300S ICP-MS測定半導(dǎo)體級硝酸中的雜質(zhì)

  NexION 300S ICP-MS測定半導(dǎo)體級硝酸中的雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2024-09-12 18:28

  操作手冊

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• NexION 300S ICP-MS測定半導(dǎo)體級硫酸中的雜質(zhì)

  NexION 300S ICP-MS測定半導(dǎo)體級硫酸中的雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2024-09-15 17:52

  期刊論文

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• NexION 300S ICP-MS測定硅晶片中的雜質(zhì)

  NexION 300S ICP-MS測定硅晶片中的雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2013-07-17 00:00

  操作手冊

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• NexION 300S ICP-MS 對光刻膠中的Si的分析

  使用ICP、ICP-MS分析時存在光學(xué)干擾，而儀器的結(jié)構(gòu)又決定了Si的檢出限比其他元素更高，所以為了分析低濃度的Si，必須去除光學(xué)干擾或更換儀器進(jìn)樣系統(tǒng) ( 霧室、霧化器、ZX管、炬管 )。 本實驗的目的是利用NexION 的 DRC模式確定分析Si的**條件。 [詳細(xì)]

  2024-09-14 16:18

  應(yīng)用文章

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• 動態(tài)反應(yīng)池-ICP-MS分析半導(dǎo)體級鹽酸中雜質(zhì)

  動態(tài)反應(yīng)池-ICP-MS分析半導(dǎo)體級鹽酸中雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2013-08-06 00:00

  選購指南

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• NexION300S ICP-MS測定半導(dǎo)體行業(yè)中使用有機溶劑的雜質(zhì)

  NexION300S ICP-MS測定半導(dǎo)體行業(yè)中使用有機溶劑的雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2024-10-05 12:26

  實驗操作

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• 使用動態(tài)反應(yīng)池型的ICPMS分析半導(dǎo)體級TMAH的應(yīng)用報告

  使用動態(tài)反應(yīng)池型的ICPMS分析半導(dǎo)體級TMAH的應(yīng)用報告[詳細(xì)]

  2024-09-29 14:00

  報價單

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• 利用ICP-MS對半導(dǎo)體級鹽酸中的雜質(zhì)進(jìn)行分析

  在半導(dǎo)體設(shè)備的生產(chǎn)過程中，許多流程中都要用到各種酸類試劑。其中Z重要的是鹽酸（HCl），其主要用途是與過氧化氫和水配制成混合物用來清潔硅晶片的表面。由于半導(dǎo)體設(shè)備尺寸不斷縮小，其生產(chǎn)中使用的試劑純度變得越來越重要，這是因為即使是少量雜質(zhì)也會導(dǎo)致設(shè)備的失效。國際SEMI標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的是金屬雜質(zhì)的Zda濃度（SEMI標(biāo)準(zhǔn)C27-07081用于鹽酸），而半導(dǎo)體設(shè)備的生產(chǎn)商對雜質(zhì)濃度的要求往往更加嚴(yán)格，這樣就給試劑供應(yīng)商帶來了更大的挑戰(zhàn)。其結(jié)果是，分析儀器也必須能夠?qū)Ω蜐舛鹊碾s質(zhì)成分極ng確檢測。電感耦合等離子體質(zhì)譜（ICP-MS）具備極ng確測定納克/升（ng/L，PPT）甚至更低濃度元素含量的能力，是Z適合測量痕量及超痕量金屬的技術(shù)。然而，常規(guī)的測定條件下，氬、氧、氫離子會與酸基體相結(jié)合，對待測元素產(chǎn)生多原子離子干擾。[詳細(xì)]

  2018-08-17 10:00

  產(chǎn)品樣冊

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• 利用NexION 2000 對半導(dǎo)體級鹽酸中的雜質(zhì)進(jìn)行分析

  電感耦合等離子體質(zhì)譜（ICP-MS）具備極ng確測定納克/升（ng/L，PPT）甚至更低濃度元素含量的能力，是Z適合測量痕量及超痕量金屬的技術(shù)。然而，常規(guī)的測定條件下，氬、氧、氫離子會與酸基體相結(jié)合，對待測元素產(chǎn)生多原子離子干擾。[詳細(xì)]

  2018-08-17 10:00

  產(chǎn)品樣冊

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• NexION300S測定半導(dǎo)體行業(yè)中使用有機溶劑的雜質(zhì)

  半導(dǎo)體行業(yè)中Z常用的兩種有機溶劑是異丙醇（IPA）和丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）。兩種有機溶劑都必須檢測痕量金屬污染物的含量，因為這些物質(zhì)的存在將會對存儲設(shè)備的可靠性產(chǎn)生不利影響。由于具有快速測定各種工藝化學(xué)品中超痕量濃度待測元素的能力，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）已成為了質(zhì)量控制不可缺少的分析工具。本應(yīng)用報告證明了NexION300ICP-MS去除干擾，從而在使用高溫等離子體的條件下通過一次分析就能夠很容易的對IPA和PGMEA中全部痕量水平的雜質(zhì)元素進(jìn)行測定的能力。這一實驗在一次測定中同時使用標(biāo)準(zhǔn)模式和反應(yīng)模式可以得到**的分析結(jié)果。[詳細(xì)]

  2018-08-17 10:00

  產(chǎn)品樣冊

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• 使用NexION 5000 ICP-MS直接測定高純氧化釹中的稀土雜質(zhì) Application Note (706124_CHN _01)

  使用NexION 5000 ICP-MS直接測定高純氧化釹中的稀土雜質(zhì) Application Note (706124_CHN _01)[詳細(xì)]

  2024-09-12 16:02

  應(yīng)用文章

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• ICP-MS 用于NexION ICP-MS的全基體進(jìn)樣系統(tǒng) (AMS)

  ICP-MS 用于NexION ICP-MS的全基體進(jìn)樣系統(tǒng) (AMS) [詳細(xì)]

  2020-07-17 14:16

  應(yīng)用文章

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• ICP-MS 用于NexION ICP-MS的全基體進(jìn)樣系統(tǒng) (AMS)

  ICP-MS 用于NexION ICP-MS的全基體進(jìn)樣系統(tǒng) (AMS) [詳細(xì)]

  2024-09-10 22:38

  應(yīng)用文章

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• 采用NexION 2000 ICP-MS分析尿液中的微量元素

  在檢測尿液中的微量金屬元素時主要需要攻克兩大難關(guān)：基體產(chǎn)生的多原子離子干擾的存在和用于評估污染物接觸的某些元素的含量極低，包括砷（As）、鎘（Cd）、汞（Hg）等。PerkinElmerNexION2000ICP質(zhì)譜儀（ICP-MS）的通用池系統(tǒng)具有標(biāo)準(zhǔn)（Standard）、碰撞（KED）和反應(yīng)（DRC）三種模式，并具有三個氣路，可選擇的碰撞/反應(yīng)氣體種類也很豐富，所以NexION2000能夠Z有效地排除干擾，準(zhǔn)確地測定Zdi的濃度水平。[詳細(xì)]

  2018-08-17 10:00

  產(chǎn)品樣冊

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• NexION 5000 ICP-MS在血液分析中的應(yīng)用

  NexION 5000 ICP-MS在血液分析中的應(yīng)用 [詳細(xì)]

  2020-07-17 14:08

  應(yīng)用文章

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• NexION 5000 ICP-MS在血液分析中的應(yīng)用

  NexION 5000 ICP-MS在血液分析中的應(yīng)用 [詳細(xì)]

  2020-07-17 14:08

  應(yīng)用文章

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• NexION 5000 ICP-MS在超純水分析中的應(yīng)用

  NexION 5000 ICP-MS在超純水分析中的應(yīng)用[詳細(xì)]

  2024-09-13 05:07

  應(yīng)用文章

  |

  • 
  • 
  • 
  • 

• 使用NexION 5000 ICP-MS直接測定高純氧化釓中的稀土雜質(zhì) Application Note (745526 (705300)_CHN _01)

  使用NexION 5000 ICP-MS直接測定高純氧化釓中的稀土雜質(zhì) Application Note (745526 (705300)_CHN _01)[詳細(xì)]

  2024-09-14 06:17

  應(yīng)用文章

  |

  • 
  • 
  • 
  •