亚洲人成无码WWW久久小尤奈,国产日韩不卡免费精品视频

NexION 300S ICP-MS測定硅晶片中的雜質(zhì)

本文由美國perkinelmer有限公司整理匯編

2013-07-17 00:00 254閱讀次數(shù)

掃碼分享

文檔僅可預(yù)覽首頁內(nèi)容，請下載后查看全文信息！

收藏評價舉報

立即下載

NexION 300S ICP-MS測定硅晶片中的雜質(zhì)

參與評論

評論

登錄后參與評論

全部評論(0條)

登錄或新用戶注冊

微信登錄
密碼登錄
短信登錄

請用手機微信掃描下方二維碼
快速登錄或注冊新賬號

微信掃碼，手機電腦聯(lián)動

注冊登錄即表示同意《儀器網(wǎng)服務(wù)條款》和《隱私協(xié)議》

更多資料

NexION 300S ICP-MS測定硅晶片中的雜質(zhì)

NexION 300S ICP-MS測定硅晶片中的雜質(zhì)[詳細(xì)]
2013-07-17 00:00
操作手冊
|
NexION 300S ICP-MS測定半導(dǎo)體級TMAH中的雜質(zhì)

NexION 300S ICP-MS測定半導(dǎo)體級TMAH中的雜質(zhì)[詳細(xì)]
2013-07-17 00:00
其它
|
NexION 300S ICP-MS測定半導(dǎo)體級硝酸中的雜質(zhì)

NexION 300S ICP-MS測定半導(dǎo)體級硝酸中的雜質(zhì)[詳細(xì)]
2024-09-12 18:28
操作手冊
|
NexION 300S ICP-MS測定半導(dǎo)體級硫酸中的雜質(zhì)

NexION 300S ICP-MS測定半導(dǎo)體級硫酸中的雜質(zhì)[詳細(xì)]
2024-09-15 17:52
期刊論文
|
NexION 300S 測定半導(dǎo)體級TMAH中的雜質(zhì)

四甲基氫氧化銨（TMAH）是一種廣泛用于半導(dǎo)體光刻工藝和液晶顯示器生產(chǎn)中形成酸性光阻的基本溶劑，因此對TMAH純度的檢測變得越來越重要。由于具有快速測定各種工藝化學(xué)品中超痕量濃度待測元素的能力，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）已成為了質(zhì)量控制不可缺少的分析工具。然而，解決由基體帶來的多原子干擾和由于含有碳造成的基體YZ效應(yīng)是非常重要的。本應(yīng)用報告證明了NexION?300SICP-MS去除干擾，從而在使用高溫等離子體的條件下通過一次分析就能夠?qū)MAH中全部痕量水平的雜質(zhì)元素進行測定的能力。[詳細(xì)]
2018-08-17 10:00
產(chǎn)品樣冊
|
NexION 300S ICP-MS 對光刻膠中的Si的分析

使用ICP、ICP-MS分析時存在光學(xué)干擾，而儀器的結(jié)構(gòu)又決定了Si的檢出限比其他元素更高，所以為了分析低濃度的Si，必須去除光學(xué)干擾或更換儀器進樣系統(tǒng) ( 霧室、霧化器、ZX管、炬管 )。本實驗的目的是利用NexION 的 DRC模式確定分析Si的**條件。 [詳細(xì)]
2024-09-14 16:18
應(yīng)用文章
|
使用NexION 5000 ICP-MS直接測定高純氧化釹中的稀土雜質(zhì) Application Note (706124_CHN _01)

使用NexION 5000 ICP-MS直接測定高純氧化釹中的稀土雜質(zhì) Application Note (706124_CHN _01)[詳細(xì)]
2024-09-12 16:02
應(yīng)用文章
|
NexION300S ICP-MS測定半導(dǎo)體行業(yè)中使用有機溶劑的雜質(zhì)

NexION300S ICP-MS測定半導(dǎo)體行業(yè)中使用有機溶劑的雜質(zhì)[詳細(xì)]
2024-10-05 12:26
實驗操作
|
ICP-MS 用于NexION ICP-MS的全基體進樣系統(tǒng) (AMS)

ICP-MS 用于NexION ICP-MS的全基體進樣系統(tǒng) (AMS) [詳細(xì)]
2020-07-17 14:16
應(yīng)用文章
|
ICP-MS 用于NexION ICP-MS的全基體進樣系統(tǒng) (AMS)

ICP-MS 用于NexION ICP-MS的全基體進樣系統(tǒng) (AMS) [詳細(xì)]
2024-09-10 22:38
應(yīng)用文章
|
采用NexION 2000 ICP-MS分析尿液中的微量元素

在檢測尿液中的微量金屬元素時主要需要攻克兩大難關(guān)：基體產(chǎn)生的多原子離子干擾的存在和用于評估污染物接觸的某些元素的含量極低，包括砷（As）、鎘（Cd）、汞（Hg）等。PerkinElmerNexION2000ICP質(zhì)譜儀（ICP-MS）的通用池系統(tǒng)具有標(biāo)準(zhǔn)（Standard）、碰撞（KED）和反應(yīng)（DRC）三種模式，并具有三個氣路，可選擇的碰撞/反應(yīng)氣體種類也很豐富，所以NexION2000能夠Z有效地排除干擾，準(zhǔn)確地測定Zdi的濃度水平。[詳細(xì)]
2018-08-17 10:00
產(chǎn)品樣冊
|
NexION 5000 ICP-MS在血液分析中的應(yīng)用

NexION 5000 ICP-MS在血液分析中的應(yīng)用 [詳細(xì)]
2020-07-17 14:08
應(yīng)用文章
|
NexION 5000 ICP-MS在血液分析中的應(yīng)用

NexION 5000 ICP-MS在血液分析中的應(yīng)用 [詳細(xì)]
2020-07-17 14:08
應(yīng)用文章
|
NexION 5000 ICP-MS在超純水分析中的應(yīng)用

NexION 5000 ICP-MS在超純水分析中的應(yīng)用[詳細(xì)]
2024-09-13 05:07
應(yīng)用文章
|
使用NexION 5000 ICP-MS直接測定高純氧化釓中的稀土雜質(zhì) Application Note (745526 (705300)_CHN _01)

使用NexION 5000 ICP-MS直接測定高純氧化釓中的稀土雜質(zhì) Application Note (745526 (705300)_CHN _01)[詳細(xì)]
2024-09-14 06:17
應(yīng)用文章
|
乙醇中揮發(fā)性雜質(zhì)的測定

乙醇中揮發(fā)性雜質(zhì)的測定[詳細(xì)]
2024-09-24 02:03
產(chǎn)品樣冊
|
iCAP TQ ICP-MS 極ng確測定金屬和合金中的雜質(zhì)元素

iCAP TQ ICP-MS 極ng確測定金屬和合金中的雜質(zhì)元素[詳細(xì)]
2018-09-20 15:38
應(yīng)用文章
|
NexION ICP-MS 檢測土壤中鍶-90 Application Note (011824_CHN_01_-1

NexION ICP-MS 檢測土壤中鍶-90 Application Note (011824_CHN_01_-1[詳細(xì)]
2024-09-17 01:56
應(yīng)用文章
|
NexION ICP-MS 檢測土壤中鍶-90 Application Note (011824_CHN_01_

NexION ICP-MS 檢測土壤中鍶-90 Application Note (011824_CHN_01_[詳細(xì)]
2024-09-15 21:01
應(yīng)用文章
|
NexION 5000 ICP-MS新一代創(chuàng)新接口設(shè)計的優(yōu)勢

NexION 5000 ICP-MS在超純水分析中的應(yīng)用[詳細(xì)]
2024-09-13 23:05
應(yīng)用文章
|

該會員其他資料: 利用光譜技術(shù)鑒別中藥真?zhèn)?──美國PerkinElmer公司“中藥分析系統(tǒng)”的Zxin應(yīng)用; PerkinElmer氣相色譜儀發(fā)展歷程（PerkinElmer）; 全新熱脫附進樣系統(tǒng)---- 使分析結(jié)果更準(zhǔn)確（PerkinElmer）; 珀金埃爾默公司（PerkinElmer）－Total Solution for WEEE/RoHS; Diamond TG/DTA綜合熱分析儀應(yīng)用過程中的幾點研究（PerkinElmer）; DMA動態(tài)熱機能分析儀（PerkinElmer）; ATD圖片（PerkinElmer）; 美國珀金埃爾默公司用戶通訊（PerkinElmer）; 線型環(huán)型烷烴和高聚物的鏈段長度對熱力學(xué)性能的影響（PerkinElmer）; PerkinElmer-Chinalink2006年**期（PerkinElmer）

NexION 300S ICP-MS測定硅晶片中的雜質(zhì)

聯(lián)系我們

關(guān)注我們