快速退火爐LRTP-1200，采用紅外輻射加熱技術(shù)，可實現(xiàn)大尺寸樣品（4英寸）快速升溫和降溫，同時搭配超高精度溫度控制系統(tǒng)，可達到的溫場均勻性，對材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱...

紅外退火爐采用紅外輻射加熱技術(shù)同時搭配高精度溫度控制系統(tǒng)，極大程度上改善了電阻式加熱的弊病，同時可實現(xiàn)樣品快速升溫和退火?？蓮V泛應用于強誘導體薄膜的結(jié)晶化退火、注入離子后的擴散退火、半導體材料的燒成與...

石墨烯退火爐 GRTP-1200，是根據(jù)石墨烯材料（氧化石墨烯、石墨烯復合材料等）獨特的退火要求，專項研發(fā)出的一款快速退火爐。其采用紅外輻射加熱技術(shù)同時搭配高精度溫度控制系統(tǒng)，進一步升級改進了樣品裝夾...