離子注入機是集成電路制造前工序中的關(guān)鍵設(shè)備，離子注入是對半導(dǎo)體表面附近區(qū)域進行摻雜的技術(shù)，其目的是改變半導(dǎo)體的載流子濃度和導(dǎo)電類型。離子注入與常規(guī)熱摻雜工藝相比可對注入劑量、注入角度、注入深度、橫向擴散等方面進行極ng確的控制，克服了常規(guī)工藝的限制，提高了電路的集成度、開啟速度、成品率和壽命，降低了成本和功耗。離子注入機廣泛用于摻雜工藝，可以滿足淺結(jié)、低溫和極ng確控制等要求，已成為集成電路制造工藝中必不可少的關(guān)鍵裝備。   

       離子注入機通常由離子源、離子引入和質(zhì)量分析器、加速管、掃描系統(tǒng)和工藝腔等組成。離子源是把需要注入的元素氣態(tài)粒子電離成離子，決定要注入離子的種類和束流強度。離子源直流放電或高頻放電產(chǎn)生的電子作為轟擊粒子，當(dāng)外來電子的能量高于原子的電離電位時，通過碰撞使元素發(fā)生電離。碰撞后除了原始電子外，還出現(xiàn)正電子和二次電子。正離子進入質(zhì)量分析器選出需要的離子，再經(jīng)過加速器獲得較高能量，由四級透鏡聚焦后進入靶室，進行離子注入。

       作為高真空設(shè)備，其出廠、安裝、維護都離不開氦質(zhì)譜檢漏儀。由于半導(dǎo)體行業(yè)生產(chǎn)需要高潔凈度，通常離子注入機設(shè)備都是選用干泵型的氦質(zhì)譜檢漏儀來滿足設(shè)備的出廠安裝以及維護需要，主要采用負(fù)壓噴氦法來查找設(shè)備可疑泄漏點。

       安徽歌博科技生產(chǎn)的干泵型氦質(zhì)譜檢漏儀廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體設(shè)備檢漏行業(yè)，如圖所示即為安徽歌博A500型氦質(zhì)譜檢漏儀在為某實驗室的離子注入機設(shè)備檢漏。安徽歌博科技氦質(zhì)譜檢漏儀憑借便捷的操控，zhuo越的性能, 以及高靈敏超穩(wěn)定等優(yōu)點被業(yè)內(nèi)工程人員廣泛認(rèn)可，已建立長期合作關(guān)系。