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氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏方法及測(cè)量過程

更新時(shí)間:2025-10-21 16:54:33 類型: 閱讀量:6458
導(dǎo)讀:氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏方法有許多種,目前比較成熟的檢漏方法有噴吹法、氦罩法、充壓法、吸槍法、檢漏盒法、累積檢漏法、背壓法及四極質(zhì)譜檢漏法等等。

  氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏方法有許多種,目前比較成熟的檢漏方法有噴吹法、氦罩法、充壓法、吸槍法、檢漏盒法、累積檢漏法、背壓法及四極質(zhì)譜檢漏法等等。

氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏方法

  氦質(zhì)譜檢漏儀通常采用較多且操作簡(jiǎn)便的檢漏方法方法有2種,一種為正壓法檢漏,另一種為負(fù)壓法檢漏。

  1、正壓法檢漏:示漏氣體He充入容器里面,處于正壓,然后用氦質(zhì)譜檢漏儀去檢測(cè),容器外圍是否有氣體He,如果容器外有氣體He,則容器有漏。用這種方式能檢測(cè)出漏點(diǎn),并能大概判斷泄漏的程度。這種檢漏方式叫Sniffer檢漏或正壓檢漏。

氦質(zhì)譜檢漏儀.jpg

  2、負(fù)壓法檢漏:示漏氣體He噴在容器外面,用氦質(zhì)譜檢漏儀去檢測(cè)容器里面是否有氣體He。這種方式能檢測(cè)出漏點(diǎn),并能測(cè)知漏率。這種檢漏方式叫負(fù)壓檢漏,也叫真空檢漏。

  氦質(zhì)譜檢漏儀如何選擇檢漏方式,與檢測(cè)對(duì)象的工作環(huán)境有很大關(guān)系,盡量做到與檢測(cè)對(duì)象的工作狀態(tài)一致。如檢測(cè)對(duì)象工作時(shí)內(nèi)部處于正壓,則用正壓模式,如檢測(cè)對(duì)象工作時(shí)內(nèi)部處于負(fù)壓,則用真空模式。

氦質(zhì)譜檢漏儀測(cè)量過程

  氦質(zhì)譜檢漏儀具有嗅探和抽真空2種檢漏模式,對(duì)應(yīng)正壓法檢漏和負(fù)壓法檢漏。詳細(xì)測(cè)量工作過程如下:

  在抽真空方式下,待檢漏的器件通過測(cè)試端口與氦質(zhì)譜檢漏儀相連,待測(cè)器件被氦質(zhì)譜檢漏儀內(nèi)部的粗抽泵和分子泵抽到一定的真空(如果待測(cè)器件容積較大,則需額外的泵組一起協(xié)同作業(yè)以提GX率)。只需測(cè)量待測(cè)器件外部大氣通過器壁的漏孔進(jìn)入器件內(nèi)部的氦的多少便可以判斷漏率的大小。如果需要得到精確的漏率數(shù)值,則必須等待整個(gè)測(cè)量系統(tǒng)的真空達(dá)到穩(wěn)態(tài),并預(yù)先根據(jù)環(huán)境中氦的含量對(duì)氦質(zhì)譜檢漏儀進(jìn)行標(biāo)定。若需在抽真空方式下準(zhǔn)確地找到漏孔的位置,可以通過對(duì)可疑位置噴氦并檢驗(yàn)漏率是否有明顯的上升來完成。

  與抽真空方式相反,嗅探方式是通過測(cè)量待測(cè)器件內(nèi)部氣體經(jīng)由器壁漏孔泄漏至器件外面的氦的多少來獲得漏率的大小的。預(yù)先向待測(cè)器件內(nèi)充入一定氦氣,封閉測(cè)試端口,將嗅探探頭連接至氦質(zhì)譜檢漏儀,用嗅探探頭對(duì)待測(cè)器件表面的可疑部位進(jìn)行掃描。如果發(fā)現(xiàn)漏率明顯的上升,便可判斷漏孔的位置。這種方式適合在待測(cè)器件內(nèi)部無法或者不能抽真空的情形下檢漏。但是,由于嗅探方式是通過檢測(cè)器壁外的大氣來進(jìn)行測(cè)量的,大氣中的氦會(huì)帶來一個(gè)較高的漏率本底。這個(gè)本底雖可通過置零來清除,但仍會(huì)降低嗅探方式的靈敏度(嗅探方式Z小可檢測(cè)漏率小于5×10-6Pa·L/s,而抽真空方式的小于5×10-10Pa·L/s)。

氦質(zhì)譜檢漏儀的逆向流技術(shù)和雙流技術(shù)

  2種方式下,Zda的可檢測(cè)漏率均為1hPa·L/s。從5×10-10Pa·L/s到1hPa·L/s,如此大的可檢測(cè)范圍是通過逆向流、雙流等技術(shù)得到的。

  氦質(zhì)譜檢漏儀開始檢漏后,閥門V2打開,粗抽泵對(duì)待測(cè)器件或者嗅探探頭進(jìn)行初步的抽真空。當(dāng)真空規(guī)管P2測(cè)得粗抽泵已將真空抽至氣壓小于15hPa后,閥門V1打開,由于分子泵A和B的壓縮能力與氣體分子的質(zhì)量相關(guān),較輕的氦可以部分地逆著分子泵氣流的方向到達(dá)氦傳感器,而重的氣體被阻擋在外,這就是逆向流技術(shù)。這時(shí)候雖然真空度并不高,但通過逆向流技術(shù),對(duì)氣流進(jìn)行采樣,也能夠?qū)Ψ浅8叩穆┞蔬M(jìn)行測(cè)量。

氦質(zhì)譜檢漏儀.jpg

  氦質(zhì)譜檢漏儀雙流技術(shù)分2個(gè)階段。當(dāng)P2氣壓低于5hPa時(shí),閥門V2關(guān)閉,V1和V3打開,分子泵B與粗抽泵級(jí)聯(lián),待測(cè)器件或者探頭被抽至高真空。此時(shí),只有分子泵A工作于逆向流方式,但由于真空度已經(jīng)較高(意味著較低的漏率),到達(dá)氦傳感器的氦仍然能夠得到有效的控制以確保不超出氦傳感器的測(cè)量范圍,這便是低雙流模式。當(dāng)P2氣壓低于0.5hPa時(shí),閥門V3關(guān)閉,V4打開,分子泵A和B均與粗抽泵級(jí)聯(lián),待測(cè)器件或探頭被抽至更高的真空(漏率更低),此時(shí),不再使用逆向流對(duì)氣體進(jìn)行采樣,而直接利用氦傳感器對(duì)漏率進(jìn)行測(cè)量,以達(dá)到極高的檢漏靈敏度,這便是高雙流模式。

  當(dāng)然,如果待檢測(cè)容器內(nèi)或者測(cè)試環(huán)境中氦濃度較高,氦質(zhì)譜檢漏儀也可以使用其他氣體比如He3,或者H2作為探測(cè)氣體。


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