暗場顯微技術(shù)采用光學(xué)顯微鏡結(jié)合特殊的照明和觀察方式，使得只有樣品大角度散射的光能夠進入物鏡并被探測到。采用暗場顯微技術(shù)，可以克服常規(guī)光學(xué)顯微（明場照明成像）針對均一樣品中的微小結(jié)構(gòu)成像時，透射或反射襯度不足的問題，使得微小的結(jié)構(gòu)在背景中得以突出呈現(xiàn)，特別適合顆粒、纖維、小尺度界面等的觀測。

圖1 同一樣品明場（A）、暗場（B）像對比 

位于襯底、溶液、膠體或細(xì)胞中的金屬納米顆粒/團簇是典型的均一樣品中的小尺度結(jié)構(gòu)，因此暗場顯微技術(shù)是一種非常有效的觀測手段。更為有趣也更為重要的特性是，因為納米顆粒的介觀特征、表面活性，它們對電磁波的響應(yīng)既不同于單獨的原子/分子，也不同于長程有序的晶體。因此除了暗場散射成像以外，進一步研究此類粒子散射光的光譜特征，有助于理解納米顆粒的尺度，狀態(tài)，動力學(xué)過程，以及與周邊環(huán)境的相互作用信息。暗場散射光譜廣泛用于金屬納米顆粒研究，表面納米結(jié)構(gòu)研究，納米管及納米線，以及Plasmon Ruler等。

1.通常的散射譜較寬，一般不需要太高的分辨率；
2.光譜儀通常要兼顧成像，所以需要影像矯正的光譜儀，并配置開度較大的入口狹縫；通常會在光柵位配置一面反射鏡用于成像，也可使用光柵的零級作為反射鏡來成像；

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