小尺度結(jié)構(gòu)研究必備—— 暗場(chǎng)散射光譜
 

圖1 同一樣品明場(chǎng)（A）、暗場(chǎng)（B）像對(duì)比
 

位于襯底、溶液、膠體或細(xì)胞中的金屬納米顆粒/團(tuán)簇是典型的均一樣品中的小尺度結(jié)構(gòu)，因此暗場(chǎng)顯微技術(shù)是一種非常有效的觀測(cè)手段。更為有趣也更為重要的特性是，因?yàn)榧{米顆粒的介觀特征、表面活性，它們對(duì)電磁波的響應(yīng)既不同于單獨(dú)的原子/分子，也不同于長(zhǎng)程有序的晶體。因此除了暗場(chǎng)散射成像以外，進(jìn)一步研究此類粒子散射光的光譜特征，有助于理解納米顆粒的尺度，狀態(tài)，動(dòng)力學(xué)過程，以及與周邊環(huán)境的相互作用信息。暗場(chǎng)散射光譜廣泛用于金屬納米顆粒研究，表面納米結(jié)構(gòu)研究，納米管及納米線，以及Plasmon Ruler等。

系統(tǒng)配置和關(guān)鍵部件

如同一般的微區(qū)光譜系統(tǒng)，暗場(chǎng)散射光譜可通過暗場(chǎng)顯微鏡（透射照明需配置暗場(chǎng)聚光器，落射照明需配置明暗場(chǎng)物鏡及落射暗場(chǎng)照明器），成像光柵光譜儀以及高靈敏度科研級(jí)CCD探測(cè)器構(gòu)成。除顯微部分外，暗場(chǎng)散射光譜儀的配置主要考慮以下因素：
 

1.通常的散射譜較寬，一般不需要太高的分辨率；
2.光譜儀通常要兼顧成像，所以需要影像矯正的光譜儀，并配置開度較大的入口狹縫；通常會(huì)在光柵位配置一面反射鏡用于成像，也可使用光柵的零級(jí)作為反射鏡來成像；

圖2 金納米顆粒透射暗場(chǎng)散射光譜示意圖

暗場(chǎng)散射光譜系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)由圖3所示。在暗場(chǎng)顯微鏡的影像出口轉(zhuǎn)接光柵光譜儀，顯微鏡成像于光譜儀入口。光譜儀入口狹縫開到*大，選擇反射鏡替代光柵（或?qū)⒐鈻挪ㄩL(zhǎng)設(shè)為“0”），可在光譜儀CCD上觀測(cè)暗場(chǎng)成像；選擇感興趣的顆粒使其位于視場(chǎng)中心，狹縫調(diào)小，光柵切換到適當(dāng)?shù)牟ㄩL(zhǎng)位置，即可獲得暗場(chǎng)光譜。

解決方案

先鋒科技針對(duì)暗場(chǎng)散射系統(tǒng)提供靈活配置，既可以為您提供獨(dú)立的純暗場(chǎng)散射系統(tǒng)，亦可在標(biāo)準(zhǔn)的RTS2共聚焦拉曼光譜系統(tǒng)上升級(jí)暗場(chǎng)散射功能。

暗場(chǎng)散射實(shí)測(cè)結(jié)果

1）金納米棒暗場(chǎng)散射圖像，長(zhǎng)徑比2:1 

2）金納米棒暗場(chǎng)散射光譜，中心波長(zhǎng)660nm