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FS5 在新型 InP 量子點材料中的應用

來源:天美儀拓實驗室設備(上海)有限公司 更新時間:2021-04-14 16:07:37 閱讀量:787

前言

       半導體量子點(QDs)具有獨特的可調光致發(fā)光特性,可用于固態(tài)照明顯示、光電和生物醫(yī)學成像等重要技術領域。磷化銦(InP)量子點作為一種環(huán)境友好、無毒的替代物,已經(jīng)引起了廣泛的研究興趣。

       完全由 InP 組成的量子點由于在 InP 表面的阱態(tài)發(fā)生非輻射重組而無發(fā)射。為了獲得發(fā)射的量子點,在 InP 芯上涂覆一層高禁帶半導體,如硫化鋅(ZnS),形成核殼異質結構,使阱態(tài)大大鈍化,增加光致發(fā)光量子產(chǎn)率(圖 1)。為了進一步提高 InP/Zns 量子點的亮度、穩(wěn)定性和顏色范圍, 需要建立組成和光致發(fā)光性質之間的關系。在文中,使用 FS5 熒光光譜儀對新型 InP/ZnS 量子點進行了穩(wěn)態(tài)和時間分辨的測試。


圖 1. InP/ZnS 量子點的核-殼結構和能帶能圖.jpg

圖 1. InP/ZnS 量子點的核-殼結構和能帶能圖。 

測試方法與樣品 

       制備了 InP/ZnS QDs 甲苯溶液,在 500 nm 處吸光度為 0.15。測試儀器為愛丁堡一體化熒光光譜儀 FS5,能夠進行吸收光譜及光致發(fā)光光譜的測試。配置 SC-05 標準液體支架以及皮秒脈沖激光器 EPL-405,TCSPC 模塊以及 PMT-980 檢測器。


圖 2. FS5 穩(wěn)態(tài)瞬態(tài)熒光光譜儀配置 EPL 激光器 .png

圖 2. FS5 穩(wěn)態(tài)瞬態(tài)熒光光譜儀配置 EPL 激光器 

結果與討論 

       使用 FS5 對樣品進行吸收光譜和發(fā)射光譜的測試,如圖 3 所示。FS5 標配標吸收檢測器,可以在同一臺儀器中進行吸收和發(fā)射的測試。結果顯示 InP/Zns 量子點在 620nm 處有明顯的帶邊發(fā)光峰,半高寬為 65nm。除了基帶邊緣峰外,還有一條寬低能峰入近紅外區(qū)。FS5 配置了擴展范圍的光電倍增管探測器(PMT-980),其高靈敏度可至 950nm。PMT-980 的探測范圍比標準 PMT-900 擴展了 80nm,是長帶尾發(fā)射材料的理想選擇。在 InP/Zns 量子點中觀察到寬低能帶, 這表明其陷阱發(fā)射 1。


圖 3. InP/ZnS 量子點的吸收光譜(黑色)和光致發(fā)光光譜(紅色)溶液。吸收測試參數(shù): Δλex = 2nm。發(fā)射測試參數(shù): λex = 400 nm, Δλex = 8nm, Δλem = 3 nm.png

圖 3. InP/ZnS 量子點的吸收光譜(黑色)和光致發(fā)光光譜(紅色)溶液。吸收測試參數(shù): Δλex = 2nm。發(fā)射測試參數(shù): λex = 400 nm, Δλex = 8nm, Δλem = 3 nm。

       為了進一步確定陷阱的存在,利用 FS5 的 TCSPC 功能測量了樣品光致發(fā)光壽命;由于阱發(fā)射和帶邊發(fā)射在不同的時間尺度上發(fā)生。使用皮秒脈沖二極管激光器(EPL-405)作為激發(fā)光源,建立時間分辨的發(fā)射光譜(TRES),如圖 4 所示。TRES 圖清楚地表明,在較長的發(fā)射波長下,光致發(fā)光壽命顯著增加。

圖 4. 使用 TCSPC 技術測試 InP/ZnS 量子點溶液的時間分辨發(fā)射光譜(TRES),熒光強度在每 個波長下進行了歸一化。測試參數(shù): λex= 405 nm, Δλem= 15 nm.png

圖 4. 使用 TCSPC 技術測試 InP/ZnS 量子點溶液的時間分辨發(fā)射光譜(TRES),熒光強度在每 個波長下進行了歸一化。測試參數(shù): λex= 405 nm, Δλem= 15 nm。 

       為了確定光致發(fā)光壽命,用更高的時間分辨率測試了帶邊發(fā)射峰(620 nm)和尾發(fā)射峰 (775 nm)的衰退曲線,使用 FSS 的 Fluoracle 軟件(圖 5)進行擬合符合四指數(shù)衰減。結果表明,帶邊發(fā)射峰的平均發(fā)光壽命為 31.2ns,而尾發(fā)射峰的平均發(fā)光壽命為 348ns。


圖 5. 使用 TCSPC 技術在 620nm(a)和 775nm(b)處測試的衰減曲線。擬合結果符合 4 指數(shù)衰減 , 計算強度加權平均壽命 。 實驗參數(shù) : λ ex=405nm , λ em=620nm/775nm , Δ λ em=10nm.png

圖 5. 使用 TCSPC 技術在 620nm(a)和 775nm(b)處測試的衰減曲線。擬合結果符合 4 指數(shù)衰減 , 計算強度加權平均壽命 。 實驗參數(shù) : λ ex=405nm , λ em=620nm/775nm , Δ λ em=10nm。 

       尾端衰減具有長數(shù)量級的壽命進一步的證明,由在 InP/Zns 量子點中的俘獲引起的。圖 6 顯示了一種勢能機制,導電帶邊緣的電子被捕獲在帶隙內(nèi)具有能量的 InP 核表面缺陷處。這些被捕獲的電子然后緩慢地與價帶中的空穴重新結合,發(fā)射出比帶邊發(fā)射更長波長的光。陷阱的存在表明 ZnS 殼層可能是不完整的,因此 InP 沒有完全鈍化,合成過程應該調整以沉積更厚的 ZnS 殼層。


圖 6. 在量子點中帶邊發(fā)射和阱發(fā)射的示意圖.png

圖 6. 在量子點中帶邊發(fā)射和阱發(fā)射的示意圖。 

結論

       利用 FS5 熒光光譜儀對 InP/ZnS 量子點的光物理進行了穩(wěn)態(tài)和時間分辨研究,發(fā)現(xiàn)了由于 ZnS 可能脫殼不完全阱發(fā)射的存在。本文突出展現(xiàn)了 FS5 緊湊型熒光光譜儀在表征新型量子點發(fā)射體的吸光度、發(fā)射和壽命的能力,并有助于建立結構-性能關系。 


參考文獻 

[1] R. Toufanian, A. Piryatinski, A. H. Mahler, R. Iyer, J. A. Hollingsworth & Allison M. Dennis, Bandgap Engineering of Indium Phosphide-Based Core/Shell Heterostructures Through.


標簽: FS5 熒光光譜儀   InP   InP/ZnS 量子點
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