目標(biāo):測量薄膜的折射率和薄膜厚度。
手段和方法:所有測量均使用調(diào)諧至530-980nm光譜范圍的FR-Basic進(jìn)行。用校準(zhǔn)的鋁樣品或標(biāo)準(zhǔn)硅晶片校正參考光譜。研究中使用的樣品是SiO2硅晶片上的層和厚SU-8層。使用具有Cauchy和Lorenz模型的FR-Monitor來計算折射率。
結(jié)果:在下圖中,SiO2的實驗和擬合光譜厚度為幾微米硅襯底上約10μm的SU-8。在左列中,膜厚度是用數(shù)據(jù)庫中的折射率值測量的,在右列中,厚度和折射率是同時計算的。在所有檢查的情況下,計算出的柯西和洛倫茲參數(shù)值表示的折射率(實部和虛部)值非常接近數(shù)據(jù)庫值。
結(jié)論:FR-Monitor可以成功地用于測量透明和半吸收材料的折射率以及薄膜厚度。
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