近年來,隨著電子設(shè)備的小型化、精密化和功能多樣化的發(fā)展,微米級(jí)增材制造技術(shù)在電子行業(yè)中扮演著越來越重要的角色。微納直寫打印技術(shù)(Micro/Nano Direct Writing Printing Technology)是一種基于增材制造的高精度加工技術(shù),能夠直接在基底上沉積材料,形成微米或納米級(jí)的精細(xì)結(jié)構(gòu)。與傳統(tǒng)的光刻、蝕刻等減材制造工藝相比,微納直寫打印技術(shù)具有高精度、靈活性強(qiáng)、材料利用率高等特點(diǎn),是近年來微納制造領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)之一。
由西湖大學(xué)孵化的西湖未來智造科技獨(dú)創(chuàng)行業(yè)領(lǐng)先的微米、亞微米級(jí)超高精度電子增材技術(shù),能夠?yàn)榭蛻籼峁┝可矶ㄖ频碾娮釉霾闹圃旖鉀Q方案。團(tuán)隊(duì)自主開發(fā)的1-10微米精度電子增材設(shè)備及與之配套的先進(jìn)功能材料體系,可實(shí)現(xiàn)數(shù)十種高性能金屬導(dǎo)電材料、聚合物及陶瓷基介質(zhì)材料、光學(xué)、磁性材料的精密三維增材制造。
我們先通過14個(gè)由西湖未來智造開發(fā)的微米、亞微米級(jí)超高精度電子增材制造的應(yīng)用案例,來感受一下這項(xiàng)技術(shù)的魅力。
① RDL布線
PI介質(zhì)表面精密RDL線路(線路中心距2.5um,線路后處理?xiàng)l件:300℃ 1h 空氣氛圍燒結(jié))。
② 精密導(dǎo)電線路加工,最小特征尺寸可達(dá)1 μm
可兼容硅、玻璃、陶瓷、金屬、PI、PET等基材表面加工。
③無源器件加工,有源無源集成
可直接打印加工電容、電感、電阻器件等,通過精細(xì)互聯(lián)線路打印,實(shí)現(xiàn)有源無源集成。
④微納金屬3D結(jié)構(gòu)
可以實(shí)現(xiàn)1-10 μm級(jí)特征線寬尺寸純?nèi)S微納金屬結(jié)構(gòu)打印加工。
⑤打印鍵合線
微納直寫打印Wire Bond線,線寬最小可達(dá)5 μm,可實(shí)現(xiàn)無焊盤鍵合互聯(lián)。
⑥打印懸空結(jié)構(gòu)
可打印MEMS懸臂導(dǎo)電結(jié)構(gòu),懸臂跨度>200 μm。
⑦打印多層電路
可加工多層電路板,加工層數(shù)>4層。
⑧打印Pillar結(jié)構(gòu)
可實(shí)現(xiàn)高寬比≥5的Pillar結(jié)構(gòu)打印,可應(yīng)用于POP、AIP封裝中的層間互聯(lián)、金屬屏蔽、金屬探針等。
⑨高溫打印bumping結(jié)構(gòu)
支持無助焊劑直接焊料熔融打印植球,支持In-Ag、Sn-Bi、Sn-Zn、Sn-Ag-Cu等多種合金熔融打印。
⑩晶圓表面制作金屬立墻結(jié)構(gòu)(電磁屏蔽)
可用于SiP、射頻前端模組的分區(qū)屏蔽,替代傳統(tǒng)引線鍵合或激光刻槽填充導(dǎo)電漿料工藝,節(jié)省成本,提升屏蔽性能,縮小封裝尺寸。支持載板、晶圓等產(chǎn)品原位打印金屬屏蔽結(jié)構(gòu)。具備工藝參數(shù)的自適應(yīng)閉環(huán)調(diào)節(jié)能力,在線智能調(diào)參,無需人工介入。低至200℃以下的材料后處理烘烤溫度。
玻璃基通孔金屬填充
支持孔徑≥30 μm,深寬比≤10的微孔致密金屬化填充,可以兼容金屬、聚合物等材料填充打印。
光子晶體
可實(shí)現(xiàn)光子晶體高精度三維結(jié)構(gòu)打印加工。
氣敏傳感器
可實(shí)現(xiàn)超小型高靈敏度氣體傳感器的打印加工和系統(tǒng)集成。
芯片散熱
可用于芯片模組的FOWLP、FOPLP封裝散熱,對(duì)芯片晶背進(jìn)行不同厚度散熱層打印,提升模組整體散熱能力;或可對(duì)分立器件頂部進(jìn)行特定散熱微結(jié)構(gòu)打印,制作微型散熱器,提升器件載流能力。
相比常規(guī)散熱方式,散熱效率提升>30%。
看了以上的眾多應(yīng)用案例,那么它們究竟是用什么樣的一臺(tái)增材制造設(shè)備打印出來的呢?
西湖未來智造設(shè)備
西湖未來智造通用型電子增材平臺(tái),采用微納墨水直寫(DIW)打印技術(shù),結(jié)合獨(dú)創(chuàng)自研納米墨水材料,可實(shí)現(xiàn)最小具有1-10μm 特征尺寸的高性能金屬導(dǎo)電材料、聚合物及復(fù)合介質(zhì)材料的增材制造,可用于精密互聯(lián)線路、微波天線、無源器件、柔性電路、立體電路等產(chǎn)品打印。
●可選配機(jī)械鉆孔、激光刻蝕、原位激光燒結(jié)等工藝模塊
設(shè)備核心部件
為了實(shí)現(xiàn)高精度的打印和穩(wěn)定的工作,西湖未來智造在設(shè)備中使用了諸多前沿的技術(shù),以下是設(shè)備中用到的一些核心零部件。
精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)剛性框架設(shè)計(jì),采用高精度直線電機(jī)閉環(huán)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng),為打印提供亞微米級(jí)定位精度。
多針打印模組支持成倍提升打印效率。
加工模組支持直寫打印模組、精密銑削模組、壓電噴射模組、刮刀涂布模組等多種加工手段組合,可根據(jù)需求選配不同加工模組安裝于設(shè)備龍門。
UV在線固化單元支持對(duì)UV膠材進(jìn)行原位固化;紅外激光燒結(jié)單元支持對(duì)導(dǎo)電漿料進(jìn)行原位燒結(jié)形成導(dǎo)電性。
高精度、高適配性的吸盤載具,支持將翹曲工件吸附作業(yè)。
EP100-FP | EP400-FP | |
運(yùn)動(dòng)系統(tǒng) | ||
設(shè)備臺(tái)架 | 鋼結(jié)構(gòu)平臺(tái)及機(jī)架 | 大理石底座運(yùn)動(dòng)平臺(tái)&鋼結(jié)構(gòu)機(jī)架 |
機(jī)械行程 | 250mm(X)×150mm(Y)×50mm(Z) | 400mm(X)×400mm(Y)×50mm(Z1/Z2) |
定位精度 | X/Y:±10um;Z1/Z2:±5um | X/Y:±1um;Z1/Z2:±5um |
重復(fù)定位精度 | X/Y:±5um;Z1/Z2:±2um | X/Y:±0.5um;Z1/Z2:±2um |
最大運(yùn)動(dòng)速度 | X/Y:100mm/s; Z1/Z2:50mm/s | X/Y:500mm/s; Z1/Z2:100mm/s |
最大運(yùn)動(dòng)加速度 | X/Y:0.5g;Z:0.1g | X/Y:0.5g;Z1/Z2:0.2g |
打印系統(tǒng) | ||
打印模組 | 標(biāo)配微納直寫打印模組 2個(gè) | 標(biāo)配微納直寫打印模組 2個(gè),可擴(kuò)充至3個(gè) |
可替換工藝模組 | 打印模組可選配替換為如下工藝模組 刮刀模組(材料涂布) 機(jī)械銑削模組(鉆孔孔徑≥50um) 壓電噴射模組(流體噴射作業(yè)) | 打印模組可選配替換為如下工藝模組 刮刀模組(材料涂布) 機(jī)械銑削模組(鉆孔孔徑≥50um) 超快激光加工模組(鉆孔孔徑≥20um) 壓電噴射模組(流體噴射作業(yè)) |
供料容量 | 3cc材料供料筒 | 3cc材料供料筒 |
打印針頭 | 玻璃、陶瓷、不銹鋼針頭等 | 玻璃、陶瓷、不銹鋼針頭等 |
最小打印線寬 | 5um | 1um |
支持材料粘度 | 10~1000000cps | 10~1000000cps |
載具系統(tǒng) | ||
裝載幅面 | 100mm×100mm | 200mm×200mm |
載具材質(zhì) | 鋁制吸盤 | 鋁制吸盤 |
裝載方式 | 真空吸附裝載 | 真空吸附裝載 |
輔助系統(tǒng) | ||
產(chǎn)品觀測(cè)系統(tǒng) | 定倍傾斜及垂直觀測(cè)系統(tǒng) 工業(yè)高清相機(jī)及光學(xué)照明系統(tǒng) 可選配升級(jí)支持標(biāo)識(shí)點(diǎn)視覺抓取 可選配升級(jí)變倍傾斜及垂直觀測(cè)系統(tǒng) | 定倍傾斜及垂直觀測(cè)系統(tǒng) 支持標(biāo)識(shí)點(diǎn)視覺抓取 工業(yè)高清相機(jī)及光學(xué)照明系統(tǒng) 可選配升級(jí)變倍傾斜及垂直觀測(cè)系統(tǒng) |
產(chǎn)品高度補(bǔ)償 | 配備激光同軸位移計(jì)支持打印頭和產(chǎn)品基板動(dòng)態(tài)高度跟隨 測(cè)量精度:±0.5um | 配備激光同軸位移計(jì)支持打印頭和產(chǎn)品基板動(dòng)態(tài)高度跟隨 測(cè)量精度:±0.5um |
打印頭清理單元 | 支持針頭半自動(dòng)浸泡清潔 | 支持針頭自動(dòng)化毛刷或卷帶擦拭清潔 |
預(yù)打印單元 | / | 支持預(yù)打印卷帶區(qū)域自動(dòng)標(biāo)定及校準(zhǔn) |
固化燒結(jié)單元 | / | 可選配在線UV燈固化、紅外激光燒結(jié) |
安裝條件 | ||
設(shè)備尺寸 | W750mm×D850mm×H1200mm | W1650mm×D1000mm×H2200mm |
設(shè)備重量 | 150kg(約) | 1000kg(約) |
電氣要求 | 電壓:220VAC/50Hz,功率:1.5KW | 電壓:220VAC/50Hz,功率:4KW |
工作環(huán)境 | 工作溫度:優(yōu)選22±2℃ 工作濕度:優(yōu)選≤65% | 工作溫度:優(yōu)選22±2℃ 工作濕度:優(yōu)選≤65% |
氣源壓力 | ≥0.6Mpa | ≥0.6Mpa |
材料介紹
西湖未來智造基于行業(yè)領(lǐng)先的微米、亞微米級(jí)的金屬顆粒和無機(jī)填料的合成、生產(chǎn)工藝,以及填料與樹脂的分散工藝等核心技術(shù),自主開發(fā)可滿足1 - 10 微米精度電子增材制造的先進(jìn)功能材料體系,含括高性能金屬漿料體系、高性能樹脂漿料體系、有機(jī)復(fù)合材料體系,根據(jù)客戶需求的定制化開發(fā),可滿足顯示、半導(dǎo)體封裝、鋰電等行業(yè)內(nèi)微米級(jí)線路加工、深腔填孔、特殊三維結(jié)構(gòu)構(gòu)造等應(yīng)用場(chǎng)景。
代表性漿料如下
產(chǎn)品 類型 | 代表性 產(chǎn)品 | 關(guān)鍵技術(shù)能力 | 應(yīng)用場(chǎng)景 |
銀漿 | E3D-A-01A | 250~300 oC固化后電阻率可滿足< 8 μΩ·cm,可滿足1~10μm針徑的打印, | 線寬≤10 μm直寫打??;柔性電路、集成電路、復(fù)雜三維結(jié)構(gòu)等 |
E3D-A-02B | 150~200 oC固化后電阻率< 80 μΩ·cm;50~70μm針徑長(zhǎng)期打印流量波動(dòng)<10% | 線寬≤100 μm直寫打?。恍酒庋b,集成電路,印制電路板、芯片貼裝等 | |
E3D-A-03A | 150~200 oC固化后電阻率< 16 μΩ·cm;50~150μm直寫疊層打印,高寬比可到3以上;銀立柱高寬比可到5以上 | 線寬≤200 μm的復(fù)雜三維結(jié)構(gòu)構(gòu)建,電子屏蔽,散熱器件,芯片貼裝等 | |
銅漿 | E3D-B-03B | 200 oC/氮?dú)夥諊袒箅娮杪?lt; 34 μΩ·cm;30~50μm針徑長(zhǎng)期打印流量波動(dòng)<10% | 線寬≤100 μm直寫打?。恍酒庋b,集成電路,印制電路板、芯片貼裝等 |
E3D-B-04B | 200 oC/氮?dú)夥諊袒箅娮杪?lt; 85 μΩ·cm;可滿足孔徑≥50μm,徑深比>3的填孔打印 | 深腔填孔,如TGV,TSV,PCB填孔等 | |
環(huán)氧樹脂 | E3D-C-05 | 單組分、室溫穩(wěn)定、粘度適中,可滿足1~10μm針徑的打印 | 應(yīng)用于光學(xué)器件及電子器件的封裝,對(duì)PC、玻璃、塑料等基材都具有很好的粘接力 |
E3D-C-08 | 單組份、高觸變性、低收縮率等特點(diǎn),可滿足50~100μm針徑打印 | 適用于光學(xué)器件、電子元器件封裝、攝像頭模組等低收縮低應(yīng)力特殊要求的場(chǎng)景 | |
硅樹脂 | E3D-D-04 | 單組分、不流動(dòng)的有機(jī)硅膠,打印高寬比可達(dá)0.3以上,可滿足針徑50~100μm的打印,可按需配制成黑色、白色等外觀 | 應(yīng)用于顯示模組、電子元器件、模塊和線路板等領(lǐng)域 |
UV膠水 | E3D-E-04 | 無溶劑型的高性能丙烯酸酯類UV固化膠,產(chǎn)品具有中等黏度、固化速度快、固化后透明度高、耐候性好等特點(diǎn),可滿足1~10μm針徑的打印 | 適用于光學(xué)器件及電子器件的封裝,對(duì)PC、玻璃、塑料等基材都具有很好的粘接力 |
E3D-E-17 | 單組份、無溶劑型,高粘結(jié)強(qiáng)度、固化速度快,打印高寬比可達(dá)0.4以上,滿足>100μm線徑的打印 | 適用于光學(xué)器件、電子元器件封裝、攝像頭模組等低收縮低應(yīng)力特殊要求的場(chǎng)景 |
關(guān)于西湖未來智造
西湖未來智造獨(dú)創(chuàng)行業(yè)領(lǐng)先的微米、亞微米級(jí)超高精度電子增材技術(shù),為客戶提供量身定制的電子增材制造解決方案。團(tuán)隊(duì)自主開發(fā)1-10微米精度電子增材設(shè)備及與之配套的先進(jìn)功能材料體系,可實(shí)現(xiàn)數(shù)十種高性能金屬導(dǎo)電材料、聚合物及陶瓷基介質(zhì)材料、光學(xué)、磁性材料的精密三維增材制造。團(tuán)隊(duì)已申請(qǐng)國內(nèi)外專利270余件,已授權(quán)專利70余件,參編國家標(biāo)準(zhǔn)7項(xiàng)。團(tuán)隊(duì)增材技術(shù)方案面向工業(yè)級(jí)量產(chǎn)需求,應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋當(dāng)下及下一代主流集成電路系統(tǒng)應(yīng)用,目前產(chǎn)品與解決方案已落地顯示、半導(dǎo)體封裝、鋰電等多個(gè)領(lǐng)域并已積累十余家行業(yè)標(biāo)桿客戶。公司已被認(rèn)定為國家高新技術(shù)企業(yè)、省專精特新中小企業(yè)、省高新技術(shù)企業(yè)研發(fā)中心,杭州市準(zhǔn)獨(dú)角獸企業(yè),主持浙江省重大科技項(xiàng)目,入選國家級(jí)首臺(tái)套項(xiàng)目,并獲得浙江省領(lǐng)軍創(chuàng)業(yè)團(tuán)隊(duì)支持。
隨著電子行業(yè)對(duì)高精度、小型化和低成本制造的需求不斷增加,納米增材制造技術(shù)將迎來更多的應(yīng)用機(jī)會(huì)。未來的發(fā)展方向包括:
1. 規(guī)?;a(chǎn):與國內(nèi)龍頭企業(yè)合作,提升打印工藝的速度和穩(wěn)定性,適應(yīng)大規(guī)模生產(chǎn)需求。通過優(yōu)化設(shè)備設(shè)計(jì)、開發(fā)自動(dòng)化生產(chǎn)流程和質(zhì)量監(jiān)控系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)高效、穩(wěn)定的大規(guī)模生產(chǎn)。計(jì)劃在未來 3 年內(nèi),將設(shè)備的生產(chǎn)效率提高 5 倍以上,良率提升至 99% 以上。
2. 材料研發(fā):開發(fā)更多種類的導(dǎo)電材料和功能性材料,擴(kuò)展技術(shù)的應(yīng)用范圍。深入研究材料的結(jié)構(gòu)與性能關(guān)系,通過材料創(chuàng)新推動(dòng)納米增材制造技術(shù)在更多領(lǐng)域的應(yīng)用。預(yù)計(jì)未來 5 年內(nèi),開發(fā)出 數(shù)十種新型導(dǎo)電材料和功能性材料,滿足不同行業(yè)的需求。
3. 跨行業(yè)應(yīng)用:除了電子制造領(lǐng)域,還可以應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、航空航天等領(lǐng)域。結(jié)合不同行業(yè)的需求,開發(fā)針對(duì)性的工藝和材料,拓展技術(shù)的應(yīng)用邊界
4. 自動(dòng)化與智能化:結(jié)合人工智能和自動(dòng)化技術(shù),實(shí)現(xiàn)打印工藝的智能優(yōu)化和實(shí)時(shí)監(jiān)控。利用機(jī)器學(xué)習(xí)算法優(yōu)化打印參數(shù),通過傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)打印過程,提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。
5. 合作與生態(tài)建設(shè):與電子制造企業(yè)和科研機(jī)構(gòu)合作,推動(dòng)技術(shù)的商業(yè)化落地和生態(tài)系統(tǒng)建設(shè)。建立產(chǎn)學(xué)研用協(xié)同創(chuàng)新機(jī)制,促進(jìn)技術(shù)的快速發(fā)展和廣泛應(yīng)用。加強(qiáng)與上下游企業(yè)的合作,共同打造微納電子增材制造技術(shù)的完整產(chǎn)業(yè)鏈,推動(dòng)行業(yè)的整體發(fā)展。
結(jié)語
西湖未來智造的微納電子增材制造技術(shù)為電子制造行業(yè)帶來了全新的解決方案,特別是在高精度、低成本和環(huán)保制造方面展現(xiàn)出巨大的潛力。西湖未來智造作為這一領(lǐng)域的佼佼者,憑借其獨(dú)創(chuàng)的微納墨水直寫(DIW)打印技術(shù),正在為電子制造行業(yè)帶來前所未有的變革。未來,納米增材制造技術(shù)將繼續(xù)推動(dòng)電子制造的創(chuàng)新,為高精度、高性能的電子產(chǎn)品提供更多可能性。
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