- 2025-01-10 17:02:33獨(dú)特微納加工技術(shù)
- 獨(dú)特微納加工技術(shù)是一種創(chuàng)新性的微納尺度制造技術(shù)。它利用先進(jìn)的工藝和設(shè)備,在微米或納米尺度上對(duì)材料進(jìn)行精確加工和操控。該技術(shù)具有高精度、高效率和高靈活性等特點(diǎn),能夠?qū)崿F(xiàn)復(fù)雜微納結(jié)構(gòu)的制造和定制化生產(chǎn)。獨(dú)特微納加工技術(shù)在半導(dǎo)體、生物醫(yī)學(xué)、光學(xué)器件等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用,為科技進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)發(fā)展提供了重要支撐。
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獨(dú)特微納加工技術(shù)資訊
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- 客戶成就 |基于 2PP 的獨(dú)特微納加工技術(shù)讓制造無(wú)線功能性微型器件成為可能
- 新型微納加工策略的起點(diǎn)是使用正相光刻膠來(lái)制作用于制模的凹模。首先,旋涂并烘烤正相光刻膠以形成固態(tài)薄膜。然后使用Nanoscribe 雙光子聚合 (2PP) 技術(shù)的無(wú)掩模光刻技術(shù)來(lái)曝光正相光刻膠。
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獨(dú)特微納加工技術(shù)問(wèn)答
- 2023-02-05 09:13:27納克微束祝您元宵節(jié)快樂(lè)!
- 萬(wàn)家燈火,歡樂(lè)元宵!納克微束祝大家好夢(mèng)皆圓!
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- 2023-04-11 15:32:26客戶成就 |用于細(xì)胞支架的任意形狀顆粒的流體微納加工和組裝
- 一種全新的微納加工概念推動(dòng)了微流體系統(tǒng)中顆粒的可擴(kuò)展性和連續(xù)加工制造和組裝。德國(guó)亞琛工業(yè)大學(xué)的科學(xué)家們利用Nanoscribe公司2PP三維打印技術(shù)開發(fā)并演示了一種新的流動(dòng)、通道集成、連續(xù)生產(chǎn)工藝,用于超小、任意形狀的 3D 顆粒制造。打印過(guò)程展示了在 72 小時(shí)內(nèi)連續(xù)運(yùn)行制造 150,000 個(gè)顆粒。2PP技術(shù)所具備的高設(shè)計(jì)自由度、高形狀精度和材料的靈活性允許制造具有不同形狀、微米尺寸、亞微米特征和各種材料的顆粒。該研究旨在將這種顆粒組裝方法應(yīng)用于細(xì)胞組織工程應(yīng)用,并擴(kuò)大了制造自調(diào)節(jié)、響應(yīng)性和可滲透 3D支架的范圍。毫米級(jí)和微米級(jí)顆??伸`活應(yīng)用于化學(xué)和生化反應(yīng)器所需的支架上。生物反應(yīng)器用于固定和分析反應(yīng)器內(nèi)部結(jié)構(gòu)表面上的酶、細(xì)胞或微生物,其性能的關(guān)鍵是能夠調(diào)整影響生物反應(yīng)特性的顆粒的性質(zhì)。為了拓展這一應(yīng)用,來(lái)自亞琛工業(yè)大學(xué)RWTH Aachen University和德國(guó)亞琛DWI-萊布尼茨互動(dòng)材料研究所DWI - Leibniz Institute for Interactive Materials的科學(xué)家們提出了一種雙光子連續(xù)垂直流動(dòng)光刻的新型微納加工概念,實(shí)現(xiàn)了對(duì)具有復(fù)雜形狀、微米尺寸和亞微米特征的顆粒進(jìn)行高通量微納加工,從而使尺寸約為20μm的微粒在表面的相互作用下進(jìn)行自組裝3D支架。在研究中,科學(xué)家們還使用各種顆粒形狀、尺寸和材料分析了 3D 組件的滲透阻力和堆積密度。 將3D打印的任何形狀顆粒的逐層自組裝過(guò)程在建筑腳手架上進(jìn)行可視化想象。顆粒的相互作用及其組裝方式取決于顆粒在形狀、材料、電荷、柔軟度和溶劑潤(rùn)濕性等方面的性質(zhì)。顆粒的自組裝過(guò)程取決于顆粒之間的各種效應(yīng),且這仍然是一項(xiàng)具有挑戰(zhàn)性的任務(wù)。圖片來(lái)自于德國(guó)亞琛工業(yè)大學(xué)微粒的流動(dòng)打印但是如何在微流體通道內(nèi)進(jìn)行微粒的流動(dòng)打印呢?答案的關(guān)鍵就是雙光子聚合(2PP)技術(shù)。雙光子在xy平面上進(jìn)行掃描的同時(shí)流體樹脂流沿z方向連續(xù)傳輸已打印的xy切片。一旦一個(gè)顆粒完成,下一個(gè)顆粒就會(huì)在連續(xù)打印過(guò)程中以相同的方式進(jìn)行制作。使用 Nanoscribe 的 DeScribe 軟件和 phyton 腳本調(diào)整輸出文件,可以對(duì)具有復(fù)雜幾何形狀的各種設(shè)計(jì)進(jìn)行切片并準(zhǔn)備用于流體打印。流體打印過(guò)程是連續(xù)的,因此可以在數(shù)小時(shí)內(nèi)生產(chǎn)數(shù)千個(gè)顆粒,實(shí)現(xiàn)在 72 小時(shí)內(nèi)打印多達(dá) 150,000 個(gè)顆粒?;?PP三維打印所特有的極大設(shè)計(jì)自由度,可以生產(chǎn)任何形狀的顆粒。與基材打印相比,顆粒的流動(dòng)打印具有明顯優(yōu)勢(shì),可是實(shí)現(xiàn)連續(xù)制造一個(gè)接一個(gè)的顆粒,制造兩個(gè)顆粒之間無(wú)需任何等待時(shí)間。在逐層打印時(shí),流動(dòng)打印方法還繞過(guò)了載物臺(tái)的 z 移動(dòng),因?yàn)檎橇鲃?dòng)在 z 方向上傳輸 xy 切片。因此,流動(dòng)打印代表了制造小而復(fù)雜形狀顆粒的速度提高。 圖片展示了2PP流體打印過(guò)程。激光在xy平面上進(jìn)行掃描,而液態(tài)樹脂沿z方向流動(dòng),連續(xù)傳輸已打印的xy切片。該過(guò)程在單個(gè)顆粒完成后重復(fù)。圖片來(lái)自于德國(guó)亞琛工業(yè)大學(xué)顆粒組裝應(yīng)用于3D生物混合組織小于100μm的顆粒在進(jìn)行自組裝后可形成復(fù)雜的細(xì)胞支架,該支架的反應(yīng)特性可以在調(diào)整顆粒形狀、大小、孔隙率和材料特性時(shí)做相應(yīng)調(diào)整。這極高的靈活性非常適合用于創(chuàng)造細(xì)胞培養(yǎng)和組織工程的支架。調(diào)整顆粒幾何形狀會(huì)影響表面體積比,從而定制穿過(guò)及圍繞結(jié)構(gòu)周圍的流體動(dòng)力學(xué)。然而,在運(yùn)用流動(dòng)自組裝生產(chǎn)支架時(shí),控制顆粒組織過(guò)程仍然存在挑戰(zhàn)。 為了研究3D生物混合組織,科學(xué)家們研究了小鼠成纖維細(xì)胞培養(yǎng)物與使用Nanoscribe無(wú)細(xì)胞毒性IP-Visio光刻膠進(jìn)行打印的顆粒物的相互作用,該光刻膠具有低熒光性可以更好的在顯微鏡下進(jìn)行細(xì)胞分析。經(jīng)過(guò)四天培養(yǎng)后,細(xì)胞在與打印支架的相互作用下不斷增殖并黏附和滲透支架,并將顆粒相互連接形成了新的組織形態(tài)。 共聚焦顯微圖展示了流體3D打印具有孔隙的顆粒(紅色)作為細(xì)胞培養(yǎng)支架。盡管顆粒自組裝的這個(gè)過(guò)程是難以控制的,但是最初跡象還是可見的。有痕跡表明細(xì)胞(藍(lán)色)滲入多孔顆粒和肌動(dòng)蛋白絲(綠色)滲透細(xì)胞。圖片來(lái)自于德國(guó)亞琛工業(yè)大學(xué)項(xiàng)目團(tuán)隊(duì)RWTH Aachen University – Department of Process EngineeringDWI - Leibniz Institute for Interactive Materials 原文文獻(xiàn)Two-Photon Vertical-Flow Lithography for Microtube Synthesis https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/smll.201901356Fabrication, Flow Assembly, and Permeation of Microscopic Any-Shape Particles https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/smll.202107508
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- 2023-02-01 14:56:12蔡司激光共聚焦顯微鏡-微納器件的表征分析
- 對(duì)微納器件進(jìn)行表征時(shí),常關(guān)注的便是器件的表面形貌和三維尺寸信息,比如粗糙度、深度、體積等,這些都是評(píng)價(jià)微納加工工藝的重要指標(biāo)。然而,在進(jìn)行表面三維的分析工作中,我們可能常遇到這樣的苦惱: 光學(xué)明場(chǎng)無(wú)法直接定位到亞微米級(jí)缺陷結(jié)構(gòu)! 樣品結(jié)構(gòu)太復(fù)雜,微弱信號(hào)無(wú)法捕獲,難以準(zhǔn)確測(cè)量尺度信息! 三維接觸式測(cè)量經(jīng)常會(huì)損傷柔軟樣品,導(dǎo)致測(cè)試結(jié)果不準(zhǔn)確! 今天,友碩小編將從下面幾個(gè)角度來(lái)看看蔡司激光共聚焦顯微鏡如何幫助你更好地解決這些問(wèn)題?! ∈Х治觯憾喑叨榷嗑S度原位分析! 器件表面往往存在一些特殊的結(jié)構(gòu)或缺陷,比如亞微米尺度的劃痕,這些特征難以在光學(xué)明場(chǎng)下被直接觀察到。C-DIC(圓微分干涉)觀察模式可以讓樣品表面亞微米尺度的微小起伏都可以呈現(xiàn)出浮雕效果,幫助我們快速定位并開展下一步的分析工作?! ?不同觀察方式下晶圓表面缺陷 在定位到感興趣區(qū)域后,可以直接切換到共聚焦模式,進(jìn)行表面三維形貌掃描,并進(jìn)行尺寸測(cè)量及分析,無(wú)需轉(zhuǎn)移樣品即可完成樣品多尺度多維度的表征?! 簿劢谷S圖像及深度測(cè)量 對(duì)于某些樣品,暗場(chǎng)和熒光模式也是一種很好定位方法,表面起伏的結(jié)構(gòu)在暗場(chǎng)下尤其明顯,如藍(lán)寶石這類能發(fā)熒光的晶圓,利用熒光成像也能幫助我們快速地定位到失效結(jié)構(gòu)。甚至,共聚焦還可以和電鏡或者雙束電鏡(FIB)(點(diǎn)擊查看)實(shí)現(xiàn)原位關(guān)聯(lián),在共聚焦顯微鏡下進(jìn)行定位后轉(zhuǎn)移樣品到電鏡下進(jìn)行更高分辨的表征分析。 深硅刻蝕:結(jié)構(gòu)深,信號(hào)弱,蔡司激光共聚焦顯微鏡有辦法! 深硅刻蝕的樣品通常為窄而深的溝壑結(jié)構(gòu)。接觸式測(cè)量(如臺(tái)階儀)無(wú)法接觸到溝壑底部測(cè)得信息,而由于結(jié)構(gòu)特殊造成了反射光信號(hào)損失,常規(guī)白光干涉或者顯微明場(chǎng)無(wú)法捕獲底面的微弱信號(hào)。因此,不得不對(duì)樣品進(jìn)行裂片分析,這不僅破壞了樣品,而且還使分析流程復(fù)雜化?! ∥骱髮W(xué)張先鋒老師用蔡司激光共聚焦顯微鏡對(duì)深163.905 μm,寬3.734μm的刻蝕坑進(jìn)行成像,高靈敏探測(cè)器、大功率激光及Z Brightness Correction技術(shù)可以幫助成功檢測(cè)到底部的微弱信號(hào),完成大深寬比(近50:1)樣品的三維形貌表征與測(cè)量,輕松實(shí)現(xiàn)無(wú)損檢測(cè)分析。
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- 2023-06-08 17:52:34邀請(qǐng)函|飛納電鏡邀您參加微納科技與先進(jìn)材料創(chuàng)新大會(huì) 2023
- 復(fù)納INVITATION微納科技與先進(jìn)材料創(chuàng)新大會(huì)(2023)將于 6 月 10 日 - 12 日在重慶舉辦。本次會(huì)議旨在凝聚優(yōu)勢(shì)力量、加強(qiáng)納米科學(xué)與微納制造技術(shù)的基礎(chǔ)研究與應(yīng)用研究,促進(jìn)多學(xué)科交叉融合,促進(jìn)先進(jìn)材料產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展。時(shí)間:2023 年 6 月 10 日 - 12 日地點(diǎn):重慶兩江云頂大酒店復(fù)納科技展位號(hào):7 號(hào)新興的微納材料在電子、通信和物聯(lián)網(wǎng)、能源存儲(chǔ)、化工和燃料生產(chǎn)、醫(yī)療保健、藥物輸送等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。納米材料的性質(zhì)與其組成和表面形貌有很大的關(guān)系,復(fù)納科技擁有一系列高精尖的分析檢測(cè)儀器與先進(jìn)的解決方案,可以對(duì)納米材料進(jìn)行分析表征和改性。歡迎各位老師同行蒞臨【7】號(hào)展位,和我們一起探討交流!莊思濛 復(fù)納科技產(chǎn)品經(jīng)理報(bào)告時(shí)間:6月12日 16:05-16:25本次會(huì)議中,復(fù)納科技產(chǎn)品經(jīng)理莊思濛將在“微納技術(shù)在新能源電池領(lǐng)域中的應(yīng)用技術(shù)”分會(huì)場(chǎng)帶來(lái)《電池粉末原子層沉積包覆改性及原位電鏡表征方案》的主題報(bào)告。1、Phenom-飛納臺(tái)式掃描電鏡飛納臺(tái)式掃描電鏡操作簡(jiǎn)單,效率高,成像質(zhì)量高,其優(yōu)異的低真空模式可實(shí)現(xiàn)無(wú)需噴金直接觀察不導(dǎo)電樣品。最 新的第二代場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 Phenom Pharos G2 分辨率優(yōu)于 1.5nm,是分辨率最 高的臺(tái)式掃描電鏡,是納米材料表征的強(qiáng)有力工具。Phenom Pharos G2飛納臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡Phenom XL G2飛納臺(tái)式掃描電鏡大樣品室卓 越版Phenom ProX飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)2、Forge Nano-原子層沉積系統(tǒng)ALD 原子層沉積技術(shù)已被證明可用于多種組分以及納米結(jié)構(gòu)的制備,包括單原子 / 團(tuán)簇催化劑、鋰電材料表面包覆等等。Forge Nano 設(shè)備基于 ALD 工藝可實(shí)現(xiàn)從毫克到千噸級(jí)的粉末包覆處理量,能夠有效提高電池化學(xué)性能與安全性。3、DENSsolutions-TEM 原位實(shí)驗(yàn)方案DENS 產(chǎn)品可以為 TEM 樣品施加外界刺激,實(shí)現(xiàn)在 TEM 中引入氣、液、熱、電等多種條件,捕捉 TEM 樣品在真實(shí)環(huán)境下的動(dòng)態(tài)現(xiàn)象。目前提供的四種原位實(shí)驗(yàn)方案:Wildfire TEM 原位加熱方案、Lightning TEM 原位熱電方案、Climate TEM 原位氣相加熱方案和 Stream TEM 原位液相加熱 / 加電方案。Wildfire 原位加熱樣品桿Lightning 原位熱電樣品桿Lightning 原位熱電樣品桿Stream 原位液相加熱/加電樣品桿Climate 原位氣相加熱樣品桿4、VSParticle-全自動(dòng)納米研究平臺(tái)VSParticle 設(shè)備采用火花燒蝕制備納米顆粒的技術(shù),可對(duì)產(chǎn)生的顆粒進(jìn)行粒徑的控制,從而獲得不同粒徑中位值的單分散納米氣溶膠。此外該技術(shù)也能用于進(jìn)行快速打印以及粉末表面的納米沉積。歡迎各位老師蒞臨展位與我們探討交流,我們將隨時(shí)為您提供專業(yè)的解答與支持,現(xiàn)場(chǎng)也有精美小禮品相送噢!
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