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• 2026-04-09 14:45發(fā)布了行業(yè)資訊

  新加坡3D打印中心主任Paulo Bartolo教授一行訪問(wèn)Nanoscribe上海實(shí)驗(yàn)室

  Nanoscribe上海實(shí)驗(yàn)室榮幸接待新加坡3D打印中心主任Paulo Bartolo教授一行來(lái)訪

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• 2026-03-11 14:45發(fā)布了行業(yè)資訊

  邀請(qǐng)函丨Nanoscribe邀您共赴2026上海光博會(huì)，開(kāi)啟微納制造新視界

  3月18日 Nanoscribe與您相約2026上海光博會(huì)

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• 2026-03-02 16:45發(fā)布了行業(yè)資訊

  招賢納士

  【招聘】Customer Success Engineer/Application Engineer- 3D微納加工?(上海，中國(guó))

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• 2026-02-26 12:00發(fā)布了行業(yè)資訊

  邁向規(guī)?；庾蛹桑好鈱?duì)準(zhǔn)、低損耗光纖-芯片耦合技術(shù)登《Science Advances》

  邁向規(guī)模化光子集成：免對(duì)準(zhǔn)、低損耗光纖-芯片耦合技術(shù)登《Science Advances》

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• 2025-12-15 20:30發(fā)布了技術(shù)文章

  Nanoscribe雙光子三維微納米激光直寫系統(tǒng) Photonic Professional GT2應(yīng)用領(lǐng)域

  該系統(tǒng)采用雙光子聚合技術(shù)，具有超高分辨率和極致的加工精度，能夠?qū)崿F(xiàn)比傳統(tǒng)制造方法更為復(fù)雜和細(xì)致的微觀結(jié)構(gòu)創(chuàng)建。作為高端科研、實(shí)驗(yàn)室及工業(yè)領(lǐng)域的理想工具，Photonic Professional GT2提供了一個(gè)可靠的解決方案，滿足了從基礎(chǔ)研究到工程應(yīng)用中的多種需求。

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• 2025-12-15 20:30發(fā)布了技術(shù)文章

  Nanoscribe超高速雙光子灰度光刻技術(shù)微納3D打印設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域

  下面將以產(chǎn)品知識(shí)普及為主，梳理該技術(shù)在實(shí)驗(yàn)室、科研與工業(yè)領(lǐng)域中的應(yīng)用要點(diǎn)，并給出可對(duì)比的參數(shù)與型號(hào)數(shù)據(jù)，便于現(xiàn)場(chǎng)選型與工藝設(shè)計(jì)。

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• 2025-12-15 20:30發(fā)布了技術(shù)文章

  Nanoscribe無(wú)掩膜光刻機(jī)Quantum X shape應(yīng)用領(lǐng)域

  作為一款創(chuàng)新型設(shè)備，Quantum X Shape無(wú)掩膜光刻機(jī)具有超高的精度和靈活性，能夠滿足各種高精度微納加工的需求。本文將介紹該設(shè)備的基本參數(shù)、技術(shù)特點(diǎn)以及其在多個(gè)行業(yè)中的應(yīng)用場(chǎng)景。

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• 2025-12-15 20:30發(fā)布了技術(shù)文章

  Nanoscribe 多功能生物打印系統(tǒng) Quantum X bio 3D應(yīng)用領(lǐng)域

  該系統(tǒng)強(qiáng)調(diào)模塊化、易操作與可重復(fù)性，適合從器件原型到批量小型部件的快速驗(yàn)證與生產(chǎn)。

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• 2025-12-15 20:30發(fā)布了技術(shù)文章

  Nanoscribe Photonic Professional GT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域

  核心在于可調(diào)諧的光聚焦體積與高靈敏度光學(xué)路徑，能夠在常規(guī)光刻樹(shù)脂中實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)的特征。典型關(guān)鍵點(diǎn)包括：激光源、光學(xué)顯微對(duì)焦系統(tǒng)、工件臺(tái)以及寫入軟件的閉環(huán)控制。以下列出常見(jiàn)并且對(duì)比度高的參數(shù)要點(diǎn)，實(shí)際配置以廠家公布的新規(guī)格為準(zhǔn)。

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• 2025-12-15 20:30發(fā)布了技術(shù)文章

  Nanoscribe Quantum X align對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域

  它在科研、實(shí)驗(yàn)室及工業(yè)應(yīng)用中逐漸成為了精密制造的核心工具，特別是在微納米結(jié)構(gòu)的制作、光子學(xué)、量子技術(shù)以及生物醫(yī)藥領(lǐng)域的應(yīng)用中展現(xiàn)出了獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。作為一款行業(yè)領(lǐng)先的設(shè)備，Quantum X Align不僅提供了的精度和快速的生產(chǎn)能力，還在操作性、穩(wěn)定性和適應(yīng)性方面表現(xiàn)出色。本文將深入探討該系統(tǒng)的應(yīng)用領(lǐng)域、技術(shù)參數(shù)以及其在不同領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)。

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• 2025-12-15 20:00發(fā)布了技術(shù)文章

  Nanoscribe雙光子三維微納米激光直寫系統(tǒng) Photonic Professional GT2參數(shù)

  該系統(tǒng)基于雙光子聚合技術(shù)，能夠精確地在光敏材料中實(shí)現(xiàn)三維微結(jié)構(gòu)的直接寫入。本文將詳細(xì)介紹Photonic Professional GT2的核心參數(shù)、技術(shù)特點(diǎn)及其應(yīng)用場(chǎng)景，幫助科研工作者和工業(yè)用戶更好地了解其性能和使用價(jià)值。

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• 2025-12-15 20:00發(fā)布了技術(shù)文章

  Nanoscribe超高速雙光子灰度光刻技術(shù)微納3D打印設(shè)備參數(shù)

  通過(guò)灰度化的光刻策略，能夠在同一工藝中實(shí)現(xiàn)多層次體積結(jié)構(gòu)的連續(xù)寫入，顯著降低后處理成本，提高結(jié)構(gòu)梯度與功能性結(jié)合的靈活性。本文面向?qū)嶒?yàn)室、科研與工業(yè)應(yīng)用場(chǎng)景，對(duì)設(shè)備參數(shù)、型號(hào)特征與選型要點(diǎn)進(jìn)行梳理，便于快速對(duì)比與決策。

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• 2025-12-15 20:00發(fā)布了技術(shù)文章

  Nanoscribe無(wú)掩膜光刻機(jī)Quantum X shape參數(shù)

  作為高精度微納加工設(shè)備，Nanoscribe公司推出的Quantum X Shape無(wú)掩膜光刻機(jī)在這一領(lǐng)域中占據(jù)了重要地位，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)元件、微流控設(shè)備以及生物醫(yī)藥等多個(gè)行業(yè)。本文將詳細(xì)介紹Quantum X Shape的技術(shù)參數(shù)、特點(diǎn)，并通過(guò)場(chǎng)景化FAQ的形式為讀者提供相關(guān)的應(yīng)用與操作指導(dǎo)。

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• 2025-12-15 20:00發(fā)布了技術(shù)文章

  Nanoscribe 多功能生物打印系統(tǒng) Quantum X bio 3D參數(shù)

  本文以公開(kāi)規(guī)格為基礎(chǔ)，整理核心參數(shù)、可選模塊與場(chǎng)景化應(yīng)用要點(diǎn)，便于實(shí)驗(yàn)室、科研與工業(yè)單位快速對(duì)照。

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• 2025-12-15 20:00發(fā)布了技術(shù)文章

  Nanoscribe Photonic Professional GT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)參數(shù)

  以下內(nèi)容以產(chǎn)品知識(shí)普及為主，圍繞參數(shù)、型號(hào)、特點(diǎn)等要點(diǎn)展開(kāi)，便于在采購(gòu)、選型、技術(shù)對(duì)比和現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)用中快速定位信息。

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• 2025-12-15 20:00發(fā)布了技術(shù)文章

  Nanoscribe Quantum X align對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻系統(tǒng)參數(shù)

  該系統(tǒng)結(jié)合了Nanoscribe在光刻技術(shù)領(lǐng)域的深厚積淀，專為高分辨率微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)的制造而設(shè)計(jì)，廣泛應(yīng)用于微電子、光子學(xué)、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。本文將深入探討Nanoscribe Quantum X Align系統(tǒng)的主要參數(shù)、型號(hào)、特點(diǎn)及應(yīng)用場(chǎng)景，幫助用戶更好地理解這款設(shè)備。

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