兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)應(yīng)用：

• 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片

• Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗

• CMP處理后的晶圓片清洗

• 晶圓框架上的切粒芯片清洗

• 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗

• 帶保護(hù)膜的分劃版清洗

• 掩模版空白部位或接觸部位清洗

• X射線及極紫外掩模版清洗

• 光學(xué)鏡頭清洗

• ITO涂覆的顯示面板清洗

• 兆聲輔助的剝離工藝

標(biāo)簽：晶圓清洗設(shè)備晶圓清洗機(jī)硅片清洗設(shè)備