Spectra S/TEM 掃描透射電子顯微鏡
原子力顯微鏡-高端旗艦級(jí)原子力顯微鏡DriveAFM
原子力顯微鏡 NX10 高精度原子力顯微鏡
原子力顯微鏡 XE-7 經(jīng)濟(jì)型原子力顯微鏡
ezAFM-便攜式原子力顯微鏡 ezAFM+原子力顯微鏡
原子力顯微鏡 NX12 生物型原子力顯微鏡
更高亮度的電子源：特別明亮的冷場(chǎng)發(fā)射槍（X-CFEG）是一種提供更高對(duì)比度成像的新技術(shù)。對(duì)于化學(xué)分析和X射線分析，它提供的信號(hào)是當(dāng)前一代TEM中傳統(tǒng)CFEG源的兩倍以上，空間分辨率高出10％以上。結(jié)果是更高質(zhì)量的成像和分析以更高的分辨率，允許用戶檢查更廣泛的材料。
更簡(jiǎn)單的電氣特性分析：新的X-FEG/Ultimono光源允許研究人員和工程師并行生成復(fù)雜的高能量分辨率數(shù)據(jù)，而不是為此單一目的專用單獨(dú)的工具。這有助于加速新材料的開發(fā)，因?yàn)檠芯咳藛T將更好地了解與其他關(guān)鍵屬性平行的電學(xué)行為。
高動(dòng)態(tài)范圍映射：電子顯微鏡像素陣列檢測(cè)器（EMPAD）是一種高速像素化STEM檢測(cè)器，允許研究人員執(zhí)行大量高級(jí)應(yīng)用，如Ptychography，用于超高分辨率和信號(hào)的用戶分段。這有助于揭示對(duì)于新材料和工藝的開發(fā)至關(guān)重要的更多屬性。
Spectra 300包括三種光源選項(xiàng)：XFEG Mono，X-FEG UltiMono和X-CFEG，專為最廣泛的樣品進(jìn)行極端原子級(jí)成像和分析而設(shè)計(jì)。Spectra 200提供200 kV X-CFEG，是高對(duì)比度成像和化學(xué)分析的理想選擇。
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Spectra新的檢測(cè)功能，使科學(xué)家和工程師能夠獲得以前難以獲得的原子級(jí)數(shù)據(jù)，以滿足更廣泛的應(yīng)用需求。該平臺(tái)可以獲得極其光束敏感的材料和半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的詳細(xì)圖像，包括金屬有機(jī)框架，沸石和聚合物，如果暴露在電子束中太長(zhǎng)時(shí)間或在錯(cuò)誤的電壓下可能會(huì)損壞或破壞。它還滿足了使用EDX（能量分散X射線）或EELS（電子能量損失光譜）等多種方式對(duì)大量原子級(jí)化學(xué)分析的不斷增長(zhǎng)的需求。
Phenom Pharos STEM 臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡，從另一個(gè)維度提高了其成像能力和 應(yīng)用的多樣性。 Pharos STEM 電子顯微鏡，利用 FEG 高亮度電子源，可在透射模式下對(duì)薄樣品進(jìn)行成像。專用的樣品夾可輕松裝載常規(guī) 3mm 直徑透射電鏡(TEM)載網(wǎng)，實(shí)現(xiàn)樣品的快速、安全切換。可提供明場(chǎng) (BF) 、暗場(chǎng) (DF) 和高角度環(huán)形暗場(chǎng) (HAADF) 像，并支持自定義選擇成像模式。
專用掃描透射顯微鏡HD-2700，配備了與德國(guó)CEOS GmbH公司(總經(jīng)理Max Haider先生)共同開發(fā)的球差校正儀，顯著提高了掃描透射電子顯微鏡的性能，更適合高級(jí)納米技術(shù)研究。由于球差校正系統(tǒng)校正了限制電子顯微鏡的性能的球差，使其與標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)顯微鏡相比，分辨率提高了1.5倍，同時(shí)，探針電流提高了10倍。
該平臺(tái)可以獲得極其光束敏感的材料和半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的詳細(xì)圖像，包括金屬有機(jī)框架，沸石和聚合物，如果暴露在電子束中太長(zhǎng)時(shí)間或在錯(cuò)誤的電壓下可能會(huì)損壞或破壞。它還滿足了使用EDX（能量分散X射線）或EELS（電子能量損失光譜）等多種方式對(duì)大量原子級(jí)化學(xué)分析的不斷增長(zhǎng)的需求。
?更高亮度的電子源 ?更簡(jiǎn)單的電氣特性分析 ?高動(dòng)態(tài)范圍映射
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