球差校正掃描透射電子顯微鏡 HD-2700
光-電聯(lián)用顯微鏡法（CLEM）系統(tǒng)
發(fā)射掃描電子顯微鏡 ReguluS
場發(fā)射透射電子顯微鏡 HF-3300
掃描電子顯微鏡 AeroSurf 15
掃描電子顯微鏡 FlexSEM 1000
專用掃描透射顯微鏡HD-2700，配備了與德國CEOS GmbH公司(總經(jīng)理Max Haider先生)共同開發(fā)的球差校正儀，顯著提高了掃描透射電子顯微鏡的性能，更適合高級(jí)納米技術(shù)研究。由于球差校正系統(tǒng)校正了限制電子顯微鏡的性能的球差，使其與標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)顯微鏡相比，分辨率提高了1.5倍，同時(shí)，探針電流提高了10倍。
最近，該顯微鏡還配備了高分辨率鏡頭和冷場發(fā)射電子槍，進(jìn)一步提高了圖像分辨率和電子束能量分辨率。同時(shí)，該型號(hào)系列還增加了一款不帶球差校正的主機(jī)配置，可以以后加配球差校正進(jìn)行升級(jí)。
特色
HAADF-STEM圖像0.136 nm，F(xiàn)FT圖像0.105 nm(高分辨率鏡頭*)
HAADF-STEM圖像0.144 nm(標(biāo)準(zhǔn)鏡頭)
明場掃描透射電子顯微鏡圖像0.204 nm(w/o球差校正儀)
元素面分布更迅速及時(shí)
低濃度元素檢測
自動(dòng)圖像對中功能
樣品桿與日立聚焦離子束系統(tǒng)兼容
同時(shí)獲取和顯示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布*和DF/EELS面分布*圖像。
低劑量功能*(使樣品的損傷和污染程度降至zuidi)
高精度放大校準(zhǔn)和測量*
實(shí)時(shí)衍射單元*(同時(shí)觀察暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像和衍射圖案)
采用三維微型柱旋轉(zhuǎn)樣品桿(360度旋轉(zhuǎn))*，具有自動(dòng)傾斜圖像獲取功能。
ELV-3000即時(shí)元素面分布系統(tǒng)*(同時(shí)獲取暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像)
* ：
選購件
規(guī)格
| 項(xiàng)目 | 描述 | ||
|---|---|---|---|
| 圖像分辨率 | w/o球差校正儀 | 保證 0.204 nm(當(dāng)放大倍數(shù)為4,000,000時(shí)) | |
| w球差校正儀 | 保證 0.144 nm(當(dāng)放大倍數(shù)為7,000,000時(shí))(標(biāo)準(zhǔn)鏡頭) | ||
| 保證 0.136 nm(HAADF圖像) 保證 0.105 nm(通過FFT)(當(dāng)放大倍數(shù)為7,000,000時(shí))(高分辨率鏡頭*) | |||
| 放大倍數(shù) | 100倍 至 10,000,000倍 | ||
| 加速電壓 | 200 kV, 120 kV * | ||
| 成像信號(hào) | 明場掃描透射電子顯微鏡：相襯圖像(TE圖像) 暗場掃描透射電子顯微鏡：原子序數(shù)襯度圖像(Z襯度圖像) 二次電子圖像(SE圖像) 電子衍射* 特征X射線分析和面分布(能譜分析)* 電子能量損失譜分析和面分布(EV3000)* | ||
| 電子光學(xué)系統(tǒng) | 電子源 | 肖特基發(fā)射電子源 | |
| 冷場致發(fā)射器* | |||
| 照明透鏡系統(tǒng) | 2-段聚光鏡鏡頭 | ||
| 球差校正儀* | 六極鏡頭設(shè)計(jì) | ||
| 掃描線圈 | 2-段式電磁感應(yīng)線圈 | ||
| 原子序數(shù)襯度收集角控制 | 投影鏡設(shè)計(jì) | ||
| 電磁圖像位移 | ±1 μm | ||
| 試片鏡臺(tái) | 樣品移動(dòng) | X/Y軸 = ±1 mm, Z軸 = ±0.4 mm | |
| 樣品傾斜 | 單軸-傾斜樣品桿：±30°(標(biāo)準(zhǔn)鏡頭), ±18°(高分辨率鏡頭*) | ||
| 真空系統(tǒng) | 3個(gè)離子泵，1個(gè)TMP | ||
| 極限真空 | 10-8 Pa(電子槍), 10-5 Pa(樣品室) | ||
| 圖像顯示 | 個(gè)人電腦／操作系統(tǒng) | PC/AT兼容, Windows? XP | |
| 監(jiān)視器 | 19-inch液晶顯示器面板 | ||
| 圖像幀尺寸 | 640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素 | ||
| 掃描速度 | 快掃，慢掃(0.5至320秒/幀) | ||
| 自動(dòng)數(shù)據(jù)顯示 | 記錄序號(hào)，加速電壓，下標(biāo)尺，日期，時(shí)間 | ||
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Spectra新的檢測功能，使科學(xué)家和工程師能夠獲得以前難以獲得的原子級(jí)數(shù)據(jù)，以滿足更廣泛的應(yīng)用需求。該平臺(tái)可以獲得極其光束敏感的材料和半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的詳細(xì)圖像，包括金屬有機(jī)框架，沸石和聚合物，如果暴露在電子束中太長時(shí)間或在錯(cuò)誤的電壓下可能會(huì)損壞或破壞。它還滿足了使用EDX（能量分散X射線）或EELS（電子能量損失光譜）等多種方式對大量原子級(jí)化學(xué)分析的不斷增長的需求。
Phenom Pharos STEM 臺(tái)式場發(fā)射電子顯微鏡，從另一個(gè)維度提高了其成像能力和 應(yīng)用的多樣性。 Pharos STEM 電子顯微鏡，利用 FEG 高亮度電子源，可在透射模式下對薄樣品進(jìn)行成像。專用的樣品夾可輕松裝載常規(guī) 3mm 直徑透射電鏡(TEM)載網(wǎng)，實(shí)現(xiàn)樣品的快速、安全切換。可提供明場 (BF) 、暗場 (DF) 和高角度環(huán)形暗場 (HAADF) 像，并支持自定義選擇成像模式。
專用掃描透射顯微鏡HD-2700，配備了與德國CEOS GmbH公司(總經(jīng)理Max Haider先生)共同開發(fā)的球差校正儀，顯著提高了掃描透射電子顯微鏡的性能，更適合高級(jí)納米技術(shù)研究。由于球差校正系統(tǒng)校正了限制電子顯微鏡的性能的球差，使其與標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)顯微鏡相比，分辨率提高了1.5倍，同時(shí)，探針電流提高了10倍。
該平臺(tái)可以獲得極其光束敏感的材料和半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的詳細(xì)圖像，包括金屬有機(jī)框架，沸石和聚合物，如果暴露在電子束中太長時(shí)間或在錯(cuò)誤的電壓下可能會(huì)損壞或破壞。它還滿足了使用EDX（能量分散X射線）或EELS（電子能量損失光譜）等多種方式對大量原子級(jí)化學(xué)分析的不斷增長的需求。
?更高亮度的電子源 ?更簡單的電氣特性分析 ?高動(dòng)態(tài)范圍映射
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