Diener PlasmaBeam 等離子表面處理裝置
日本Ulvac干法等離子刻蝕裝置NE-550Z
等離子CLONE雙模式等離子刻蝕機清洗機
無錫冠亞單流體溫控系統(tǒng)裝置
等離子表面處理儀

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型號 |
PM100 |
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等離子發(fā)生源 |
低頻高電壓電源,輸出約100W,周波數(shù)60KHz、輸出電壓10kV |
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電機構造 |
電容型?2分割 |
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氣體流量計 |
氧氣用、流量30~300mL/min |
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真空調整閥門 |
抽真空用,回大氣用 |
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反應腔尺寸 |
內(nèi)徑100mm×深度最大約200mm |
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外形尺寸(寬×深×高mm) |
310×300×448 |
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電源?50/60Hz |
AC100V?10A(含真空泵Max7A) |
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真空泵接口 |
外徑Φ6.35mm(推薦真空泵排氣速度30L/min) |
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氣體接口 |
外徑Φ6.35m |
報價:面議
已咨詢1209次等離子裝置
報價:面議
已咨詢1483次等離子清洗機
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已咨詢223次等離子設備
報價:面議
已咨詢202次等離子設備
報價:¥800000
已咨詢3593次真空等離子清洗機
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已咨詢758次等離子去膠清洗及灰化系統(tǒng)
報價:¥43800
已咨詢199次等離子清洗機
美國 Harrick PDC-32G-2 基本型等離子清洗機,該產(chǎn)品能處理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金屬半導體、陶瓷、復合材料、高分子聚合物等材料,并對所處理的材料表面帶來表面超潔凈、殺菌、提高濕潤性轉變、表面性質改變、提高結合力等處理效果。
美國 Harrick PDC-002 擴展型等離子清洗機,該產(chǎn)品能處理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金屬半導體、陶瓷、復合材料、高分子聚合物等材料,并對所處理的材料表面帶來表面超潔凈、殺菌、提高濕潤性轉變、表面性質改變、提高結合力等處理效果。
德國 PVA TePla 等離子清洗機PlasmaPen 常壓等離子,通過清潔和活化材料表面來改善灌封化合物、粘合劑、油墨、涂料和染料等的浸潤性。PlasmaPen?清潔后的表面保證了半導體封裝工藝中打線和芯片鍵合的可靠性。它已經(jīng)成功地應用于平板顯示制造業(yè)中提高異方性導電膠膜(ACF)的粘合性。
等離子去膠工藝擁有低污染顆粒,低成本大規(guī)模量產(chǎn),高均勻性與高可復制性等工藝特征。