等離子表面處理儀
GSL-1100X-PJF-A等離子表面處理儀是一款緊湊的大氣離子表面處理噴射系統(tǒng)，主要由射頻發(fā)生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件的環(huán)境下活化和清理材料（如單晶片、光學(xué)元件、塑料等）表面雜質(zhì)，且清理速度迅速。本機是為獲得高質(zhì)量的外延薄膜或光學(xué)涂層進行預(yù)先表面處理的合適的工具選擇。GSL-1100X-PJF-A等離子表面處理儀具有一個樣品臺，將樣品固定在樣品臺上后可進行X、Y、Z三個方向上一定范圍內(nèi)的連續(xù)移動清洗，且清洗過程中離子束不會發(fā)生抖動，清理后的樣品表面質(zhì)量均勻。
1、高速清理物件表面，操作簡單、安全。
2、無需真空和腔室環(huán)境。
3、小巧實用、成本低。
4、重量輕、結(jié)構(gòu)緊湊。
5、已通過CE認證。
| 產(chǎn)品名稱 | GSL-1100X-PJF-A等離子表面處理儀 | |
| 產(chǎn)品型號 | GSL-1100X-PJF-A | |
| 主要參數(shù) | 主機部分 1、供電：220V，50Hz 2、X Y軸： 控制方式：面板控制 行程：1-150mm 速度1-500mm/s Z軸： 控制方式：手動控制 行程：1-50mm 3、清洗間距：1-100mm 4、外形尺寸：550mm（寬）×650mm（深）×920 mm（高） 等離子控制器部分 1、輸入電源AC220V ，PE．50HZ 2、輸入穩(wěn)壓范圍 190-250V 3、主機重量 17 kg 4、工作環(huán)境溫度 ＜42℃ 5、相對濕度 ≤40℃RH 6、電壓調(diào)節(jié)范圍 240-300V 7、輸入氣源壓力 ≥4 bar 8、功率上限 1000VA 9、頻率 20-23kHz 10、等離子工作壓力 0.5-0.7 bar (可調(diào)節(jié)） 11、壓力保護控制 min: 0.4bar；max 0.8bar 12、噴頭處理寬度圓嘴：10-12mm；扁嘴：15-18mm | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 等離子清洗機主機尺寸：405×215×600mm
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美國 Harrick PDC-32G-2 基本型等離子清洗機，該產(chǎn)品能處理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金屬半導(dǎo)體、陶瓷、復(fù)合材料、高分子聚合物等材料，并對所處理的材料表面帶來表面超潔凈、殺菌、提高濕潤性轉(zhuǎn)變、表面性質(zhì)改變、提高結(jié)合力等處理效果。
美國 Harrick PDC-002 擴展型等離子清洗機，該產(chǎn)品能處理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金屬半導(dǎo)體、陶瓷、復(fù)合材料、高分子聚合物等材料，并對所處理的材料表面帶來表面超潔凈、殺菌、提高濕潤性轉(zhuǎn)變、表面性質(zhì)改變、提高結(jié)合力等處理效果。
德國 PVA TePla 等離子清洗機PlasmaPen 常壓等離子，通過清潔和活化材料表面來改善灌封化合物、粘合劑、油墨、涂料和染料等的浸潤性。PlasmaPen?清潔后的表面保證了半導(dǎo)體封裝工藝中打線和芯片鍵合的可靠性。它已經(jīng)成功地應(yīng)用于平板顯示制造業(yè)中提高異方性導(dǎo)電膠膜（ACF）的粘合性。
等離子去膠工藝擁有低污染顆粒，低成本大規(guī)模量產(chǎn)，高均勻性與高可復(fù)制性等工藝特征。
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