ELS-BODEN 新型電子束光刻系統(tǒng)
日本Elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng) ELS-F150
日本Elionix 電子束曝光電子束直寫機ELS-F125
ixion 193 SLM 準分子激光器
ixion 193 SLM 準分子激光器
日本Elionix 微細加式電子束曝光電子束直寫機ELS-F125/F100/HS50
ELS-F125是Elionix推出的世界上首臺加速電壓達125KV的電子束曝光系統(tǒng),其可加工線寬下限為5nm的精細圖形。(以下參數(shù)基于ELS-F125)
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ELS-F125具有以下優(yōu)點:
l 。超高書寫精度
- 5 nm 線寬精度 @125 kV
- 1.7 nm 電子束直徑&鄰近效應(yīng)小化 @125 kV
2. 大通量、均勻性好
- 寬視野書寫:500um視場下10 nm線寬
- 高束流下電子束直徑依然很小,大通量而不影響分辨率,2 nm電子束直徑@1 nA
3. 界面用戶友好
基于Windows系統(tǒng)的CAD和SEM界面:
-簡單易用的圖案設(shè)計功能
-易于控制的電子束條件

二、主要功能
2.1 主要應(yīng)用
納米器件的微結(jié)構(gòu)
集成光學(xué)器件,如光柵,光子晶體等
NEMS結(jié)構(gòu),復(fù)雜精細結(jié)構(gòu)
光刻掩模板,壓印模板
2.2 技術(shù)能力

三、應(yīng)用


報價:面議
已咨詢1296次日本Elionix
報價:面議
已咨詢499次聚焦離子束電子束雙束顯微鏡 DB550
報價:面議
已咨詢23次電子束曝光
報價:面議
已咨詢1588次德國 Zeiss Sigma
報價:面議
已咨詢621次德國Zeiss聚焦離子束掃描電鏡
報價:¥3500000
已咨詢76次FIB 聚焦離子束顯微鏡
報價:¥6000000
已咨詢447次FIB 聚焦離子束顯微鏡
IXION 193 SLM 是一款單頻全固態(tài)激光系統(tǒng),適用于光學(xué)計量、193 nm 步進光學(xué)元件校準或高功率 ArF 準分子激光器的帶寬控制等應(yīng)用。
IXION 193 SLM 是一款單頻全固態(tài)激光系統(tǒng),適用于光學(xué)計量、193 nm 步進光學(xué)元件校準或高功率 ArF 準分子激光器的帶寬控制等應(yīng)用。
ASML 光刻機 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 緊湊式濺射系統(tǒng) Compact Sputter,靈活的基板尺寸,最大可達6英寸,基板架加熱溫度最高可達500℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%, 最多可配備5個6英寸磁控濺射源(可選配3或4個),支持射頻、直流或脈沖直流電源,最多可支持3條氣體管路,支持順序沉積和共沉積。
Syskey 緊湊式熱蒸發(fā)系統(tǒng) Compact Thermal ,靈活的基板尺寸,最大可達6英寸, 基板架加熱溫度最高可達500℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%,可選配電子束或熱舟蒸發(fā)源(最多3個),速率控制沉積,可沉積多層薄膜,選用特定目標材料
高真空濺射系統(tǒng) HV Sputter,靈活的基板尺寸,最大可達12英寸或200×200毫米, 基板架加熱溫度最高可達800℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%
超高真空磁控濺射鍍膜機 UHV Sputter,? 基板支架加熱至 800 °C ? 優(yōu)異的薄膜均勻性小于 ±3% ? 磁控濺射源(數(shù)量最多 8 個),可選強磁版本
Syskey 高真空熱蒸發(fā)鍍膜機HV Thermal 高真空熱蒸發(fā)系統(tǒng)可提供的真空環(huán)境 用于常見薄膜沉積,包括金屬、有機物、鈣鈦礦和化合物。全自動系統(tǒng)可滿足各種應(yīng)用要求,包括OLED、OPV、OPD等。