磁控濺射儀為一種用于物理學(xué)領(lǐng)域的分析儀器，于2015年05月25日啟用。

磁控濺射為物理氣相沉積的一種。金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料的制備通常會采用一般的濺射法，其的特點(diǎn)為有著較為簡單的設(shè)備，控制起來不困難，有著較大的鍍膜面積以及有著較強(qiáng)的附著力等。在上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是使高速、低溫、低損傷得以實(shí)現(xiàn)。由于高速濺射是在低氣壓下進(jìn)行，必須要使氣體的離化率得到有效地提高。磁控濺射利用將磁場往靶陰極表面引入，通過磁場約束帶電粒子來使得等離子體密度提高進(jìn)而使得濺射率增加。

磁控濺射儀抽真空過程

1、將樣品換好以后，磁控濺射室、進(jìn)樣室、和分子泵均處于大氣狀態(tài)，插板閥G2應(yīng)當(dāng)是開啟狀態(tài)，首先將機(jī)械泵開關(guān)按下，亮起機(jī)械泵指示燈，表明機(jī)械泵指示燈工作開始。

2、將電磁閥DF1按下，為了防止大氣壓的作用可能損壞儀器，將旁抽角閥V5緩慢打開，機(jī)械泵同時對磁控濺射室、進(jìn)樣室和分子泵進(jìn)行抽氣，將復(fù)合真空計打開進(jìn)行測量。當(dāng)真空計顯示的真空度比20帕要好時，亮起樣品室下面的兩個燈管，將旁抽閥V5關(guān)閉。

3、對分子泵進(jìn)行啟動，將分子泵總電源開關(guān)按下，將切換鍵按下，將Start按下，分子泵開始加速，頻率在其電源版面上顯示，分子泵開始工作打開，大概過了八分鐘以后，當(dāng)頻率顯示為400赫茲時，分子泵進(jìn)入正常工作狀態(tài)以后，馬上打開左側(cè)的插板閥G1和G3，在將G1打開的時，逆時針轉(zhuǎn)動，一直到出現(xiàn)聲響，之后再回轉(zhuǎn)一圈。子泵開始對磁控濺射室、進(jìn)樣室進(jìn)行抽真空，此時真空度為0.1帕由復(fù)合真空計中能夠觀察到時，將高真空計打開，對高真空進(jìn)行測量。