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VTC-600GD高真空磁控濺射儀

面議 (具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn))
沈陽(yáng)科晶 VTC-600GD 遼寧 沈陽(yáng) 2026-04-08 08:22:48
售全國(guó) 入駐:11年 等級(jí):銀牌 營(yíng)業(yè)執(zhí)照已審核
同款產(chǎn)品:磁控濺射鍍膜(19件)
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產(chǎn)品特點(diǎn):

至多可選配四個(gè)靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換)。
可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
體積小,操作簡(jiǎn)便。
整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),真空腔

產(chǎn)品詳情:

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GD高真空磁控濺射儀至多可選配四個(gè)靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。

主要特點(diǎn)
  • 至多可選配四個(gè)靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換)。

  • 可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。

  • 體積小,操作簡(jiǎn)便。

  • 整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì),可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整。

  • 可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源,可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍,也可多個(gè)電源單一控制靶槍。

技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)品名稱VTC-600GD高真空磁控濺射儀
產(chǎn)品型號(hào)VTC-600GD
安裝條件本設(shè)備要求在溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥
4、工作臺(tái):尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風(fēng)裝置:需要
主要參數(shù)1、電源電壓:220V  50Hz
2、總功率:<3.5KW
3、腔體內(nèi)徑:?300mm
4、極限真空8.0x10-5Pa
5、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度)
6、靶槍數(shù)量:4個(gè)
7、靶槍冷卻方式:水冷
8、靶材尺寸:?2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
9、直流濺射功率:500W(可選)
10、射頻濺射功率:300W
11、載樣臺(tái):?140mm
12、載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)
13、保護(hù)氣體:Ar、N2等惰性氣體
14、進(jìn)氣氣路:質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣,1個(gè)流量為100 SCCM,1個(gè)流量為200 SCCM
產(chǎn)品規(guī)格

·尺寸:

主機(jī)尺寸:850mm×760mm×660mm,
整機(jī)尺寸:1300mm×660mm×1200mm;
·重量:190kg
標(biāo)準(zhǔn)配件
序號(hào)名稱數(shù)量圖片鏈接
1直流電源控制系統(tǒng)(可選)套-
2射頻電源控制系統(tǒng)1套-
3膜厚監(jiān)測(cè)儀系統(tǒng)1套-
4分子泵1臺(tái)-
5冷水機(jī)1臺(tái)-
6聚酯PU管(?6mm)4m-
可選配件
序號(hào)名稱功能類別圖片鏈接
1金、銦、銀、鉑等各種靶材(可選)-
2可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜(可選)-


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