VTC-600GD高真空磁控濺射儀
VTC-600GD高真空磁控濺射儀
VTC-600GD高真空磁控濺射儀
VTC-1HD-ZF2高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀
VTC-1HD-ZF2高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀

VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GD高真空磁控濺射儀至多可選配四個(gè)靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。

至多可選配四個(gè)靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換)。
可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
體積小,操作簡(jiǎn)便。
整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì),可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整。
可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源,可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍,也可多個(gè)電源單一控制靶槍。

| 產(chǎn)品名稱 | VTC-600GD高真空磁控濺射儀 | |
| 產(chǎn)品型號(hào) | VTC-600GD | |
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水) 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥 4、工作臺(tái):尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置:需要 | |
| 主要參數(shù) | 1、電源電壓:220V 50Hz 2、總功率:<3.5KW 3、腔體內(nèi)徑:?300mm 4、極限真空8.0x10-5Pa 5、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度) 6、靶槍數(shù)量:4個(gè) 7、靶槍冷卻方式:水冷 8、靶材尺寸:?2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同) 9、直流濺射功率:500W(可選) 10、射頻濺射功率:300W 11、載樣臺(tái):?140mm 12、載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 13、保護(hù)氣體:Ar、N2等惰性氣體 14、進(jìn)氣氣路:質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣,1個(gè)流量為100 SCCM,1個(gè)流量為200 SCCM | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 |
整機(jī)尺寸:1300mm×660mm×1200mm; ·重量:190kg | |

| 序號(hào) | 名稱 | 數(shù)量 | 圖片鏈接 |
| 1 | 直流電源控制系統(tǒng) | (可選)套 | - |
| 2 | 射頻電源控制系統(tǒng) | 1套 | - |
| 3 | 膜厚監(jiān)測(cè)儀系統(tǒng) | 1套 | - |
| 4 | 分子泵 | 1臺(tái) | - |
| 5 | 冷水機(jī) | 1臺(tái) | - |
| 6 | 聚酯PU管(?6mm) | 4m | - |

| 序號(hào) | 名稱 | 功能類別 | 圖片鏈接 |
| 1 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 | (可選) | - |
| 2 | 可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜 | (可選) | - |
報(bào)價(jià):面議
已咨詢187次磁控濺射鍍膜
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已咨詢137次磁控濺射鍍膜
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已咨詢263次磁控濺射鍍膜
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已咨詢165次真空系統(tǒng)相關(guān)配件
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已咨詢202次真空泵組
可自動(dòng)化實(shí)現(xiàn)對(duì)16個(gè)樣品的進(jìn)料、電弧熔煉、翻料、出料。通過(guò)觸摸屏設(shè)置電弧起弧距離、熔煉電流大小和熔煉時(shí)間長(zhǎng)短以及翻料次數(shù); 透過(guò)手套箱視窗,方便客戶原位觀察熔煉過(guò)程中的物料變化情況。 以循環(huán)手套箱為載體。主機(jī)安裝在手套箱內(nèi),主機(jī)與底板有酚醛樹(shù)脂材料絕緣。 手套箱正面有玻璃視窗,用于觀察物料的熔煉狀態(tài)。 手套箱后面有冷卻水、電源、壓縮氣體、控制線纜等接頭法蘭。 手套箱右側(cè)有過(guò)渡倉(cāng),進(jìn)料、出料均由此倉(cāng)完成。倉(cāng)門(mén)為氣動(dòng)開(kāi)啟,倉(cāng)內(nèi)有伸縮托盤(pán),坩堝就放在伸縮托盤(pán)上、托盤(pán)上有定位銷固定坩堝的位置。伸縮托盤(pán)由步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng),由程序自動(dòng)控制。帶有位置檢測(cè)傳感器。 手套箱主控制屏在右側(cè)、電弧熔煉系統(tǒng)控制屏置于左側(cè)
MSK-SFM-ALO是一款小型顎式破碎機(jī),其動(dòng)顎和定顎均有剛玉襯板,破碎腔兩側(cè)有剛玉陶瓷板,大大提高了設(shè)備的耐磨性,且對(duì)物料無(wú)污染。同時(shí)動(dòng)顎和走顎的間隙可以調(diào)節(jié)。此設(shè)備可作為物料球磨的前機(jī)使用。
適用于脆性、容易解理晶體的精密切割。 采用金剛石線進(jìn)行切割,切割質(zhì)量?jī)?yōu)良。 采用鋁型材結(jié)構(gòu),美觀輕便。 增加亞克力外罩:安全防護(hù)功能。
STX-610金剛石線切割機(jī)是由我司自主研發(fā)的新一代精密切割設(shè)備,專為切割高硬度導(dǎo)電/非導(dǎo)電材料設(shè)計(jì)。本設(shè)備解決了電火花線切割機(jī)無(wú)法加工非導(dǎo)電材料的行業(yè)難題,可切割摩氏硬度低于金剛石線(9.5) 的各種金屬、非金屬材料以及易破碎的脆性材料。能夠更好的適用于各行業(yè)實(shí)驗(yàn)及研發(fā)使用。本機(jī)可切割材料:陶瓷、晶體、玻璃、金屬、地質(zhì)試樣、磁性材料、有機(jī)材料、熱電材料、紅外光學(xué)材料、復(fù)合材料以及生物醫(yī)學(xué)材料等。
鑲嵌壓力、溫度、時(shí)間可任意調(diào)整,隨材質(zhì)的不同變化 進(jìn)料-鑲嵌-加熱-冷卻-出樣全自動(dòng)化運(yùn)行 出樣定位精準(zhǔn),可搭配本公司全自動(dòng)磨拋系統(tǒng)或其他自動(dòng)化設(shè)備聯(lián)動(dòng)
包含定位載料盤(pán)、研磨拋光單元、清洗單元以及供料單元,可以實(shí)現(xiàn)從取樣-研磨-清洗-拋光-清洗一體的全程序化自動(dòng)流程,通過(guò)觸摸屏操作可精確控制鑲嵌到磨拋、清洗的所有參數(shù),并能進(jìn)行參數(shù)設(shè)定存檔,并可一鍵啟動(dòng)
UNIPOL-1500M-16自動(dòng)壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域。適用于金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、巖樣、礦樣、復(fù)合材料、有機(jī)高分子材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋