磁控濺射儀為一種用于物理學(xué)領(lǐng)域的分析儀器，于2015年05月25日啟用。

磁控濺射為物理氣相沉積的一種。金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料的制備通常會(huì)采用一般的濺射法，其的特點(diǎn)為有著較為簡(jiǎn)單的設(shè)備，控制起來(lái)不困難，有著較大的鍍膜面積以及有著較強(qiáng)的附著力等。在上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來(lái)的磁控濺射法更是使高速、低溫、低損傷得以實(shí)現(xiàn)。由于高速濺射是在低氣壓下進(jìn)行，必須要使氣體的離化率得到有效地提高。磁控濺射利用將磁場(chǎng)往靶陰極表面引入，通過(guò)磁場(chǎng)約束帶電粒子來(lái)使得等離子體密度提高進(jìn)而使得濺射率增加。

磁控濺射儀換樣品過(guò)程:

1、shou先將真空顯示打開(kāi)，對(duì)濺射室處于真空狀態(tài)與否進(jìn)行檢查，如果處在真空狀態(tài)，那么shou先要放氣，室內(nèi)的大氣壓平衡外界的大氣壓，將濺射室內(nèi)的照明燈打開(kāi)，查看機(jī)械手是否在靶檔板下面放著，定位鎖是否已經(jīng)抽出時(shí)才可以對(duì)升起屏蔽罩與否做決定。

2、將步進(jìn)電機(jī)升開(kāi)關(guān)按動(dòng)，緩緩升起屏蔽罩，直到適合的為止為止，當(dāng)屏蔽罩升到zui高位置時(shí)，步進(jìn)電機(jī)升開(kāi)關(guān)起到的作用為零。

3、在對(duì)樣品(靶材)進(jìn)行更換時(shí)：將螺絲松動(dòng)，將靶材用清洗干凈的鑷子小心取出靶材，往干凈的容器內(nèi)放入靶材，使污染得以避免。濺射室使用紗布沾高純酒精清洗干凈。在對(duì)靶材進(jìn)行放置時(shí)，必須要使靶材接觸靶面。將靶材放于中xin，在轉(zhuǎn)盤上架卡樣品。

4、對(duì)步進(jìn)電機(jī)降開(kāi)關(guān)進(jìn)行按動(dòng)，緩緩下降屏蔽罩，當(dāng)下降到與濺射室相接近時(shí)，必須在屏蔽罩壁上貼定位儀，能夠使用左手對(duì)步進(jìn)電機(jī)降開(kāi)關(guān)進(jìn)行按動(dòng)，右手對(duì)屏蔽罩進(jìn)行推動(dòng)，使其安全下降，值得注意的是千萬(wàn)不要損壞濺射室上真空圈，如果損壞真空，整個(gè)濺射室就不可以抽真空，儀器的工作就不會(huì)正常。