化學(xué)氣相沉積為一種化工技術(shù)，在襯底表面上含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)使得薄膜生成為該技術(shù)的主要方法。近幾十年化學(xué)氣相淀積這種對(duì)無機(jī)材料進(jìn)行制備的新技術(shù)發(fā)展了起來。化學(xué)氣相淀積法已經(jīng)在各種單晶、多晶或玻璃態(tài)無機(jī)薄膜材料的淀積，新晶體的研制以及物質(zhì)的提純方便得到了非常廣泛地應(yīng)用。這些材料既能夠是碳化物、氮化物、硫化物、氧化物也能夠?yàn)镮II-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素間化合物，并且能夠利用氣相摻雜的淀積過程來對(duì)它們的物理功能進(jìn)行精確地控制?；瘜W(xué)氣相淀積已經(jīng)變成無機(jī)合成化學(xué)的一個(gè)新領(lǐng)域。

化學(xué)氣相沉積技術(shù)指標(biāo)

氣體控制系統(tǒng)

SiCl4、GeCl4、POCl3、BCL3 4個(gè)鼓泡瓶單元；控制計(jì)算機(jī)、控制軟件、PLC、其他必需的控制組件；管道加熱裝置、其他必需的管道、控制等組件以及設(shè)備內(nèi)氣體管道、閥門和相應(yīng)的質(zhì)量流量計(jì)均包含于氣體控制系統(tǒng)中。

MCVD機(jī)械控制系統(tǒng)

尾燈、校管工具、旋轉(zhuǎn)密封接頭、手燈、預(yù)制棒壓力控制系統(tǒng)、主燈火焰抽風(fēng)罩、紅外高溫探測(cè)儀、SOOT自動(dòng)去除系統(tǒng)、載臺(tái)速度好位置的高精度編碼定位控制系統(tǒng)、水冷不銹鋼N2氣調(diào)節(jié)火焰形狀主燈、機(jī)架、石英管卡盤、載臺(tái)移動(dòng)和卡盤旋轉(zhuǎn)的DC伺服控制馬達(dá)均包含于MCVD機(jī)械控制系統(tǒng)中。

化學(xué)氣相沉積技術(shù)應(yīng)用

大量功能各異的無機(jī)新材料為現(xiàn)代科學(xué)和技術(shù)所需要，高純?yōu)檫@些功能材料的必要條件，或者將某種雜質(zhì)形成的摻雜材料有意地?fù)饺氲礁呒儾牧现小Ｈ欢绺邷厝蹮?、水溶液中沉淀和結(jié)晶等我們過去所熟悉的許多制備方法對(duì)于上述要求無法滿足，對(duì)于高純度的產(chǎn)品的得到也很難保證。所以，現(xiàn)代材料科學(xué)中的主要課題即為無機(jī)新材料的合成。