等離子處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于等離子刻蝕、等離去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子處理和等離子表面處理等場合。通過其等離子表面處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、涂鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物。

一、等離子清洗機(jī)的頻率 

等離子清洗機(jī)常用的等離子體激發(fā)頻率有三種：激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。不同等離子體產(chǎn)生的自偏壓不一樣，超聲等離子體的自偏壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，而且三種等離子體的機(jī)制不同。超聲等離子體發(fā)生的反應(yīng)為物理反應(yīng)，射頻等離子體發(fā)生的反應(yīng)既有物理反應(yīng)又有化學(xué)反應(yīng)，微波等離子體發(fā)生的反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。超聲等離子體清洗對(duì)被清潔表面產(chǎn)生的影響Zda，因而實(shí)際半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。而超聲等離子則應(yīng)用于表面除膠、毛刺打磨等處理方面效果Z佳，典型的等離子體物理清洗工藝是在反應(yīng)腔體中加入氬氣作為輔助處理的等離子體清洗；氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應(yīng)，而是通過離子轟擊使表面清潔。 典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子體清洗。通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?；顫?，容易與碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優(yōu)點(diǎn)在于本身不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，清潔表面不會(huì)留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性，還有一種等離子體清洗是表面反應(yīng)機(jī)制中物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)都起重要作用，即反應(yīng)離子腐蝕或反應(yīng)離子束腐蝕，兩種清洗可以互相促進(jìn)，離子轟擊使被清洗表面產(chǎn)生損傷削弱其化學(xué)鍵或者形成原子態(tài)，容易吸收反應(yīng)劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更容易產(chǎn)生反應(yīng)；選用40KHZ超聲等離子再加入適當(dāng)?shù)姆磻?yīng)氣體，可以有效去除膠質(zhì)殘?jiān)⒔饘倜痰鹊龋?.45GHz的微波等離子常用于科研方面及實(shí)驗(yàn)室。

二、離子體清洗機(jī)、等離子清洗器的功能 

各式基材在印刷或黏著前之表面活化、改質(zhì)、接枝、粗糙化或清潔等。

三、等離子清洗機(jī)產(chǎn)品特色

1.處理均勻性佳 

2.離子能量低、不損傷基板

3.沒有電極及基板的污染 

4.ZL設(shè)計(jì)之特殊等離子電極，電極壽命長，維修成本極低

5.高密度等離子源，等離子效率高、清潔效率高 可控制低的離子能量工藝環(huán)保，不產(chǎn)生顆粒污染，無臭氧及氮氧化物產(chǎn)生，無需單獨(dú)排氣系統(tǒng)

6.等離子刻蝕機(jī)處理速度快、清潔效率高、可靠度高

7.操作范圍廣

8.全自動(dòng)且容易操作，處理效果好，速度快，材料處理后時(shí)效性長

9.等離子清洗機(jī)設(shè)備穩(wěn)定高，容易維護(hù)

四、等離子處理機(jī)的優(yōu)勢

1.具有表面清洗、增加附著力的功效

2.無需溶劑.更加環(huán)保,無VOC

3.提高合格品率

4.提高生產(chǎn)效率