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2025-06-01 05:36:46等離子設(shè)備: 等離子設(shè)備是利用等離子體技術(shù)工作的設(shè)備，等離子體是由氣體電離產(chǎn)生的帶電粒子集合體。其工作原理通常涉及氣體放電，通過電場或磁場使氣體分子或原子電離，形成等離子體。等離子設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料處理、表面改性、消毒滅菌、廢氣處理等領(lǐng)域，如等離子切割機、等離子噴涂機、等離子清洗機等，具有高效、環(huán)保、節(jié)能等優(yōu)點。

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等離子設(shè)備資訊

低壓等離子設(shè)備的多面應(yīng)用

 爾迪儀器 573
2022-04-29
預(yù)算45萬元東南大學(xué) 采購微納平臺等離子去膠設(shè)備

東南大學(xué)微納平臺等離子去膠設(shè)備系統(tǒng)（第二次）招標項目的潛在投標人應(yīng)在東南大學(xué)采購中心網(wǎng)（https://dnzb.seu.edu.cn/）獲取招標文件，并于2025年04月08日 14點30分（北京

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2025-03-19
等離子去膠
**STS感應(yīng)藕合等離子刻蝕機設(shè)備轉(zhuǎn)讓出售**

上海邁鑄半導(dǎo)體科技有限公司 485
2024-04-25
預(yù)算95萬元中國科學(xué)院新疆生態(tài)與地理研究所采購電感耦合等離子發(fā)射光譜等設(shè)備

中國科學(xué)院新疆生態(tài)與地理研究所兩重項目電感耦合等離子發(fā)射光譜等設(shè)備采購項目招標項目的潛在投標人應(yīng)在www.oitccas.com；北京市海淀區(qū)丹棱街1號互聯(lián)網(wǎng)金融中心20層獲取招標文件，并于2025

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2025-07-11
電感耦合等離子發(fā)射光譜ICP-OES
預(yù)算75.12萬元北大荒集團北安醫(yī)院采購等離子雙極電切電凝系統(tǒng)、尿動力檢測儀等醫(yī)療設(shè)備

北大荒集團北安醫(yī)院等離子雙極電切電凝系統(tǒng)、尿動力檢測儀等醫(yī)療設(shè)備采購項目招標項目的潛在投標人應(yīng)在北大荒集團電子采購平臺（www.bdhzb.cn）。獲取招標文件，并于2025年09月02日 09點0

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2025-08-13
等離子雙極電切電凝系統(tǒng)

等離子設(shè)備文章

爾迪盤點|diener等離子清洗機的應(yīng)用范圍

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2024-07-05
diener 等離子清洗機等離子設(shè)備
什么是低溫等離子設(shè)備？

爾迪儀器 1421
2021-11-30
等離子設(shè)備：什么是低溫等離子體？

爾迪儀器 1254
2020-06-01
等離子切割機吸塵器-環(huán)評設(shè)備

等離子切割機吸塵器-環(huán)評設(shè)備

 濟南華信環(huán)?？萍加邢薰?/a> 117
2024-11-02
等離子切割機吸塵器
等離子切割煙塵處理設(shè)備-環(huán)保高效

等離子切割煙塵處理設(shè)備-環(huán)保高效

 濟南華信環(huán)?？萍加邢薰?/a> 119
2025-02-14
等離子切割煙塵處理設(shè)備

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等離子設(shè)備問答

2022-04-29 10:48:42低壓等離子設(shè)備的多面應(yīng)用: 低壓等離子體提供了非常多的表面改性方法。對臟污組件進行精細清洗、對塑料件進行等離子活化、對 PTFE、硅進行蝕刻，以及對具有PTFE 類涂層的塑料件進行涂覆，這些是其部分應(yīng)用用途。就此而言，低壓等離子體可應(yīng)用于各種不同的領(lǐng)域，在這些領(lǐng)域中對材料進行鍵合或者有針對性地改變表面特性對其來說非常重要。低壓等離子設(shè)備的應(yīng)用材料清洗：等離子體技術(shù)可為所有類型的污染物、所有基材和所有后續(xù)處理提供解決方案。此外，還能分解由分子構(gòu)成的殘留污染物。材料活化：表面具有良好的潤濕性，是確保在涂漆、粘接、印刷或者鍵合時與結(jié)合配偶體粘附的前提條件。材料蝕刻：等離子體技術(shù)可用于各向異性和各向同性蝕刻。通過化學(xué)蝕刻進行各向同性蝕刻，通過物理蝕刻進行各向異性蝕刻。材料涂覆：使用低壓等離子體，可以改良具有不同涂層的工件。為此，會將氣態(tài)和液態(tài)原材料輸送到真空腔室中。 Diener同時還是低壓等離子設(shè)備、等離子體高頻發(fā)生器和常壓等離子體生產(chǎn)領(lǐng)域的國際市場佼佼者，diener技術(shù)極其成熟，而且取得了巨大的成功，從而保證了持續(xù)性擴張。爾迪儀器代理Diener等離子設(shè)備，等離子清洗機，有需要可聯(lián)系我司。爾迪儀器創(chuàng)建于2013年，是一家從事儀器設(shè)備銷售、技術(shù)服務(wù)與工藝開發(fā)的創(chuàng)新公司?？偛哭k公地點位于上海，在北京、深圳、重慶、合肥等地設(shè)有辦事處。通過多年穩(wěn)步發(fā)展，急客戶之所急，想客戶之所想，應(yīng)客戶之所需，行客戶之未行，12小時內(nèi)響應(yīng)，24小時內(nèi)上門，形成售前專業(yè)全面、售中細致嚴謹、售后周到快捷的完整服務(wù)體系。

2021-11-30 09:41:21什么是低溫等離子設(shè)備？: 冰升溫至0℃會變成水，如繼續(xù)使溫度升至100℃，那么水就會沸騰成為水蒸氣。隨著溫度的上升，物質(zhì)的存在狀態(tài)一般會呈現(xiàn)出固態(tài)→液態(tài)→氣態(tài)三種物態(tài)的轉(zhuǎn)化過程，我們把這三種基本形態(tài)稱為物質(zhì)的三態(tài)。那么對于氣態(tài)物質(zhì)，溫度升至幾千度時，將會有什么新變化呢? 由于物質(zhì)分子熱運動加劇，相互間的碰撞就會使氣體分子產(chǎn)生電離，這樣物質(zhì)就變成由自由運動并相互作用的正離子和電子組成的混合物（蠟燭的火焰就處于這種狀態(tài)）。我們把物質(zhì)的這種存在狀態(tài)稱為物質(zhì)的第四態(tài)，即等離子體(plasma)。因為電離過程中正離子和電子總是成對出現(xiàn)，所以等離子體中正離子和電子的總數(shù)大致相等，總體來看為準電中性。反過來，我們可以把等離子體定義為：正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。從剛才提到的微弱的蠟燭火焰，我們可以看到等離子體的存在，而夜空中的滿天星斗又都是高溫的完全電離等離子體。據(jù)印度天體物理學(xué)家沙哈(M．Saha，1893-1956)的計算，宇宙中的99.9%的物質(zhì)處于等離子體狀態(tài)。而我們居住的地球倒是例外的溫度較低的星球。此外，對于自然界中的等離子體，我們還可以列舉太陽、電離層、極光、雷電等。在人工生成等離子體的方法中，氣體放電法比加熱的辦法更加簡便高效，諸如熒光燈、霓虹燈、電弧焊、電暈放電等等。在自然和人工生成的各種主要類型的等離子體的密度和溫度的數(shù)值，其密度為106（單位：個／m3）的稀薄星際等離子體到密度為1025的電弧放電等離子體，跨越近20個數(shù)量級。其溫度分布范圍則從100K的低溫到超高溫核聚變等離子體108-109K（1-10億度）。溫度軸的單位eV(electron volt)是等離子體領(lǐng)域中常用的溫度單位，1eV=11600K。通常，等離子體中存在電子、正離子和中性粒子(包括不帶電荷的粒子如原子或分子以及原子團)等三種粒子。設(shè)它們的密度分別為ne,ni,nn，由于準電中性，所以電離前氣體分子密度為ne≈nn。于是，我們定義電離度β=ne/(ne+nn)，以此來衡量等離子體的電離程度。日冕、核聚變中的高溫等離子體的電離度都是100%，像這樣β=1的等離子體稱為完全電離等離子體。電離度大于1%(β≥10-2)的稱為強電離等離子體，像火焰中的等離子體大部分是中性粒子(β>Ti , Te>>Tn。我們把這樣的等離子體稱為低溫等離子體(cold plasma)。當然，即使是在高氣壓下，低溫等離子體還可以通過不產(chǎn)生熱效應(yīng)的短脈沖放電模式即電暈放電（corona discharge）或電弧滑動噴射式放電來生成。大氣壓下的輝光放電技術(shù)目前也已成為世界各國的研究熱點?？僧a(chǎn)生大氣壓非平衡態(tài)等離子體的機理尚不清楚，在高氣壓下等離子體的輸運特性的研究也剛剛起步，現(xiàn)已形成新的研究熱點。 http://www.verdegroup.cn/ 更多詳細資料，可聯(lián)系上海爾迪儀器科技有限公司，撥打電話021-62211270！021-62211270！上海爾迪儀器科技有限公司是一家從事儀器設(shè)備銷售、技術(shù)服務(wù)與工藝開發(fā)的創(chuàng)新公司，為您提供一站式采購服務(wù)。

2021-11-16 17:32:33等離子設(shè)備：什么是低溫等離子體？: 冰升溫至0℃會變成水，如繼續(xù)使溫度升至100℃，那么水就會沸騰成為水蒸氣。隨著溫度的上升，物質(zhì)的存在狀態(tài)一般會呈現(xiàn)出固態(tài)→液態(tài)→氣態(tài)三種物態(tài)的轉(zhuǎn)化過程，我們把這三種基本形態(tài)稱為物質(zhì)的三態(tài)。那么對于氣態(tài)物質(zhì)，溫度升至幾千度時，將會有什么新變化呢? 由于物質(zhì)分子熱運動加劇，相互間的碰撞就會使氣體分子產(chǎn)生電離，這樣物質(zhì)就變成由自由運動并相互作用的正離子和電子組成的混合物（蠟燭的火焰就處于這種狀態(tài)）。我們把物質(zhì)的這種存在狀態(tài)稱為物質(zhì)的第四態(tài)，即等離子體(plasma)。因為電離過程中正離子和電子總是成對出現(xiàn)，所以等離子體中正離子和電子的總數(shù)大致相等，總體來看為準電中性。反過來，我們可以把等離子體定義為：正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。從剛才提到的微弱的蠟燭火焰，我們可以看到等離子體的存在，而夜空中的滿天星斗又都是高溫的完全電離等離子體。據(jù)印度天體物理學(xué)家沙哈(M．Saha，1893-1956)的計算，宇宙中的99.9%的物質(zhì)處于等離子體狀態(tài)。而我們居住的地球倒是例外的溫度較低的星球。此外，對于自然界中的等離子體，我們還可以列舉太陽、電離層、極光、雷電等。在人工生成等離子體的方法中，氣體放電法比加熱的辦法更加簡便GX，諸如熒光燈、霓虹燈、電弧焊、電暈放電等等。在自然和人工生成的各種主要類型的等離子體的密度和溫度的數(shù)值，其密度為106（單位：個／m3）的稀薄星際等離子體到密度為1025的電弧放電等離子體，跨越近20個數(shù)量級。其溫度分布范圍則從100K的低溫到超高溫核聚變等離子體的108-109K（1-10億度）。溫度軸的單位eV(electron volt)是等離子體領(lǐng)域中常用的溫度單位，1eV=11600K。通常，等離子體中存在電子、正離子和中性粒子(包括不帶電荷的粒子如原子或分子以及原子團)等三種粒子。設(shè)它們的密度分別為ne,ni,nn，由于準電中性，所以電離前氣體分子密度為ne≈nn。于是，我們定義電離度β=ne/(ne+nn)，以此來衡量等離子體的電離程度。日冕、核聚變中的高溫等離子體的電離度都是1**%，像這樣β=1的等離子體稱為完全電離等離子體。電離度大于1%(β≥10-2)的稱為強電離等離子體，像火焰中的等離子體大部分是中性粒子(β>Ti , Te>>Tn。我們把這樣的等離子體稱為低溫等離子體(cold plasma)。當然，即使是在高氣壓下，低溫等離子體還可以通過不產(chǎn)生熱效應(yīng)的短脈沖放電模式即電暈放電（corona discharge）或電弧滑動噴射式放電來生成。大氣壓下的輝光放電技術(shù)目前也已成為世界各國的研究熱點?？僧a(chǎn)生大氣壓非平衡態(tài)等離子體的機理尚不清楚，在高氣壓下等離子體的輸運特性的研究也剛剛起步，現(xiàn)已形成新的研究熱點。本文轉(zhuǎn)載自上海爾迪儀器科技有限公司

2023-03-14 12:04:54等離子去膠機（Plasma Cleaner）: 等離子去膠機（Plasma Cleaner）為何要去除光刻膠？在現(xiàn)代半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中，會大量使用光刻膠來將電路板圖圖形通過掩模版和光刻膠的感光與顯影，轉(zhuǎn)移到晶圓光刻膠上，從而在晶圓表面形成特定的光刻膠圖形，然后在光刻膠的保護下，對下層薄膜或晶圓基底完成進行圖形刻蝕或離子注入，最后再將原有的光刻膠徹底去除。去膠是光刻工藝中的最后一步。在刻蝕/離子注入等圖形化工藝完成后，晶圓表面剩余光刻膠已完成圖形轉(zhuǎn)移和保護層的功能，通過去膠工藝進行完全清除。光刻膠去除是微加工工藝過程中非常重要的環(huán)節(jié)，光刻膠是否徹底去除干凈、對樣片是否有造成損傷，都會直接影響后續(xù)集成電路芯片制造工藝效果。半導(dǎo)體光刻膠去除工藝有哪些？半導(dǎo)體光刻膠去除工藝，一般分成兩種，濕式去光刻膠和干式去光刻膠。濕式去膠又根據(jù)去膠介質(zhì)的差異，分為氧化去膠和溶劑去膠兩種類別。干式去膠適合大部分去膠工藝，去膠徹底且速度快，是現(xiàn)有去膠工藝中zui好的方式。一、等離子去膠機簡述：氧等離子去膠是利用氧氣在微波發(fā)生器的作用下產(chǎn)生氧等離子體，具有活性的氧等離子體與有機聚合物發(fā)生氧化反應(yīng)，使有機聚合物被氧化成水蒸汽和二氧化碳等排除腔室，從而達到去除光刻膠的目的，這個過程我們有時候也稱之為灰化或者剝離。氧等離子去膠相比于濕法去膠工藝更為簡單、適應(yīng)性更好，去膠過程純干法工藝，無液體或者有機溶劑參與。當然我們需要注意的是，這里并不是說氧等離子去膠工藝100%好于濕法去膠，同時也不是所有的光刻膠都適用于氧等離子去膠，以下幾種情形我們需要注意：① 部分穩(wěn)定性極高的光刻膠如SU-8、PI（聚酰亞胺），往往膠厚也比較大，純氧等離子體去膠速率也比較有限，為了保證快速去膠，往往還會在工藝氣體中增加氟基氣體增加去膠速率，因此不只是氧氣是反應(yīng)氣體，有時候我們也需要其他氣體參與；② 涂膠后形成類非晶態(tài)二氧化硅的HSQ光刻膠。由于其構(gòu)成并不是單純的碳氫氧，所以是無法使用氧等離子去膠機來實現(xiàn)去膠；③ 當我們的樣品中有其他需要保留的結(jié)構(gòu)層本身就是有機聚合物構(gòu)成的，在等離子去膠的過程中，這些需要保留的層也可能會在氧等離子下發(fā)生損傷；④ 樣品是由容易氧化的材料或者有易氧化的結(jié)構(gòu)層，氧等離子去膠過程，這些材料也會被氧化，如金屬AG、C、CR、Fe以及Al，非金屬的石墨烯等二維材料；市面上常見氧等離子去膠機按照頻率可分為微波等離子去膠機和射頻等離子去膠機兩種，微波等離子去膠機的工作頻率為2.45GHz，射頻等離子去膠機的工作頻率為13.5MHz，更高的頻率決定了等離子體擁有更高的離子濃度、更小的自偏壓，更高的離子濃度決定了去膠速度更快，效率更高；更低的自偏壓決定了其對襯底的刻蝕效應(yīng)更小，也意味著去膠過程中對襯底無損傷，而射頻等離子去膠機其工作原理與刻蝕機相似，結(jié)構(gòu)上更加簡單。因此，在光電器件的加工中，去膠機的選擇更推薦使用損傷更小的微波等離子去膠機。二、等離子清洗去膠機的工作原理：氧氣是干式等離子體脫膠技術(shù)中的首要腐蝕氣體。它在真空等離子體脫膠機反應(yīng)室內(nèi)高頻和微波能的作用下，電離產(chǎn)生氧離子、自由氧原子O*、氧分子和電子混合的等離子體，其間氧化能力強的自由氧原子（約10-20%）在高頻電壓作用下與光刻膠膜發(fā)生反應(yīng)：O2→O*+O*，CxHy+O*→CO2↑+H2O↑。反應(yīng)后產(chǎn)生的CO2和H2O然后被抽走。三、等離子去膠機的優(yōu)勢：1、等離子清洗機的加工過程易于控制、可重復(fù)且易于自動化；使用等離子掃膠機可以使得清洗效率獲得更大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點2、等離子掃膠機清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序，可以提高整個工藝流水線的處理效率；3、等離子掃膠機使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題；4、避免使用ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法；5、等離子去膠機采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同，等離子體的方向性不強，這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀；6、等離子去膠機在完成清洗去污的同時，還可以改良材料本身的表面性能，如提高表面的潤濕性能、改良膜的黏著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。四、等離子去膠的主要影響因素：頻率選擇：頻率越高，氧越易電離形成等離子體。頻率太高，以至電子振幅比其平均自由程還短，則電子與氣體分子碰撞幾率反而減少，使電離率降低。一般常用頻率為 13.56MHz及2.45GHZ 。功率影響：對于一定量的氣體，功率大，等離子體中的的活性粒子密度也大，去膠速度也快；但當功率增大到一定值，反應(yīng)所能消耗的活性離子達到飽和，功率再大，去膠速度則無明顯增加。由于功率大，基片溫度高，所以應(yīng)根據(jù)工藝需要調(diào)節(jié)功率。真空度的選擇：適當提高真空度，可使電子運動的平均自由程變大，因而從電場獲得的能量就大，有利電離。另外當氧氣流量一定時，真空度越高，則氧的相對比例就大，產(chǎn)生的活性粒子濃度也就大。但若真空度過高，活性粒子濃度反而會減小。氧氣流量的影響：氧氣流量大，活性粒子密度大，去膠速率加快；但流量太大，則離子的復(fù)合幾率增大，電子運動的平均自由程縮短，電離強度反而下降。若反應(yīng)室壓力不變，流量增大，則被抽出的氣體量也增加，其中尚沒參加反應(yīng)的活性粒子抽出量也隨之增加，因此流量增加對去膠速率的影響也就不甚明顯。五、等離子去膠機的應(yīng)用：1、光刻膠的去除、剝離或灰化2、SU-8的去除/ 犧牲層的去除3、有機高分子聚合物的去除4、等離子去除殘膠/去浮渣/打底膜5、失效分析中的扁平化處理6、表面沾污清除和內(nèi)腐蝕（深腐蝕）應(yīng)用7、清洗微電子元件，電路板上的鉆孔或銅線框架8、剝離金屬化工藝前去除浮渣9、提高黏附性，消除鍵合問題10、塑料的表面改型：O2處理以改進涂覆性能11、產(chǎn)生親水或疏水表面

2024-10-22 17:26:14壓力試驗機是幾類設(shè)備類別: 壓力試驗機是測試設(shè)備中的一種，用于測試材料在施加壓力下的承受能力以及變形行為。本文將深入探討壓力試驗機屬于哪一類設(shè)備，以及它在行業(yè)中的具體應(yīng)用和分類。壓力試驗機的基本概念壓力試驗機是一種專門用于對材料進行靜態(tài)或動態(tài)壓縮測試的設(shè)備。通過精確測量材料在特定壓力下的應(yīng)力和應(yīng)變數(shù)據(jù)，可以得出材料的強度、彈性模量等參數(shù)。壓力試驗機的設(shè)備類別在設(shè)備分類體系中，壓力試驗機通常被歸類為材料試驗設(shè)備。這是因為它的主要功能是測試材料在不同條件下的力學(xué)性能，而這種測試對于保證材料的安全性和性能至關(guān)重要。根據(jù)不同的測試需求和工作原理，壓力試驗機還可以進一步細分為以下幾類：液壓壓力試驗機這類設(shè)備主要通過液壓系統(tǒng)施加壓力，以測試材料在壓力下的反應(yīng)。液壓壓力試驗機具有加載平穩(wěn)、控制精度高的特點，適用于大多數(shù)金屬材料和非金屬材料的測試。電子壓力試驗機電子壓力試驗機使用電機作為動力源，通過精密的傳感器對壓力進行測量和控制。它相比液壓試驗機更加適合于中小載荷的測試，通常用于測試塑料、橡膠等材料的壓力性能。萬能試驗機萬能試驗機可以進行多種類型的力學(xué)測試，如拉伸、壓縮、彎曲等。壓力試驗機的主要應(yīng)用領(lǐng)域壓力試驗機在多個行業(yè)中都有重要應(yīng)用，主要體現(xiàn)在以下幾個方面：建筑行業(yè)：用于測試混凝土、磚塊等建筑材料的抗壓強度，以確保建筑結(jié)構(gòu)的安全性和耐用性。金屬加工行業(yè)：測試金屬材料在不同應(yīng)力下的性能，從而保證加工后的成品能夠承受一定的壓力和沖擊。航空航天：在航空器材的設(shè)計和生產(chǎn)中，需要對多種材料進行精密的力學(xué)測試，壓力試驗機可以提供關(guān)鍵的數(shù)據(jù)支持。汽車工業(yè)：測試汽車零部件在不同壓力下的反應(yīng)，從而提高其耐用性和安全性能。壓力試驗機的選擇與維護在選擇壓力試驗機時，企業(yè)應(yīng)根據(jù)具體的測試需求、測試材料的特性以及測試精度要求來選擇適合的機型。液壓試驗機適合高載荷測試，而電子試驗機更適合精密測試。在使用過程中，設(shè)備的定期維護和校準也是至關(guān)重要的，以確保測試數(shù)據(jù)的準確性和可靠性。設(shè)備的維護通常包括定期潤滑機械部件、檢查傳感器的靈敏度、確保液壓系統(tǒng)無泄漏等。壓力試驗機在行業(yè)中的發(fā)展趨勢隨著科技的不斷進步，壓力試驗機的智能化和自動化水平也在不斷提升。未來，壓力試驗機將更加注重環(huán)保節(jié)能設(shè)計，通過優(yōu)化液壓系統(tǒng)和傳感器的精度，進一步減少能耗和誤差。