本文由 聚光科技（杭州）股份有限公司 整理匯編

2024-09-16 04:00 220閱讀次數(shù)

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• 流域水中有機(jī)污染物的檢測(cè)

  流域水中有機(jī)污染物的檢測(cè)[詳細(xì)]

  2024-09-16 04:00

  其它

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• 采用總有機(jī)碳分析檢測(cè)制YY水中的有機(jī)污染物

  采用總有機(jī)碳分析檢測(cè)制YY水中的有機(jī)污染物[詳細(xì)]

  2024-09-15 22:02

  安裝說(shuō)明

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• 有機(jī)污染物的跟蹤

  對(duì)化合物的檢測(cè)、定性和定量分析很大程度上依賴于檢出限，檢出限可以在基線分析的同時(shí)獲得。本文主要考察超純水作為一種試劑對(duì)實(shí)驗(yàn)的影響。[詳細(xì)]

  2018-10-04 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 加油站地下水中特征污染物的檢測(cè)方法

  加油站地下水中特征污染物的檢測(cè)方法[詳細(xì)]

  2015-09-28 00:00

  報(bào)價(jià)單

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• 水中新興污染物的分析

  水中新興污染物的分析[詳細(xì)]

  2016-07-25 00:00

  期刊論文

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• 串聯(lián)質(zhì)譜在食品重要有機(jī)污染物檢測(cè)中的應(yīng)用

  串聯(lián)質(zhì)譜在食品重要有機(jī)污染物檢測(cè)中的應(yīng)用[詳細(xì)]

  2024-09-16 00:22

  報(bào)價(jià)單

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• 使用配備自動(dòng)化在線 SPE 的 LC/MS/MS 分析水中的痕量有機(jī)污染物

  使用配備自動(dòng)化在線 SPE 的 LC/MS/MS 分析水中的痕量有機(jī)污染物[詳細(xì)]

  2016-07-22 00:00

  課件

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• SPEGC-ECD檢測(cè)自來(lái)水中有機(jī)氯農(nóng)藥殘留

  SPEGC-ECD檢測(cè)自來(lái)水中有機(jī)氯農(nóng)藥殘留[詳細(xì)]

  2012-10-30 00:00

  應(yīng)用文章

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• 痕量有機(jī)污染物研究用超純水的解決方案

  痕量有機(jī)污染物研究用超純水的解決方案[詳細(xì)]

  2012-02-24 00:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 水中不同性質(zhì)污染物的同時(shí)萃取

  水中不同性質(zhì)污染物的同時(shí)萃取[詳細(xì)]

  2013-05-27 00:00

  實(shí)驗(yàn)操作

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• First Standard 標(biāo)準(zhǔn)品助力！——【SCIEXLabsZxin方案】2小時(shí)搞定水中176種有機(jī)污染物

  First Standard 標(biāo)準(zhǔn)品助力！——【SCIEXLabsZxin方案】2小時(shí)搞定水中176種有機(jī)污染物[詳細(xì)]

  2024-09-20 00:41

  標(biāo)準(zhǔn)

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• 從自來(lái)水到超純水：有機(jī)污染物的跟蹤 (RD005)

  從自來(lái)水到超純水：有機(jī)污染物的跟蹤 (RD005)[詳細(xì)]

  2005-06-27 00:00

  選購(gòu)指南

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• 懸在人類頭頂?shù)倪_(dá)摩克利斯劍有機(jī)污染物

  懸在人類頭頂?shù)倪_(dá)摩克利斯劍有機(jī)污染物[詳細(xì)]

  2024-09-28 11:58

  安裝說(shuō)明

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• “護(hù)航生活飲用水安全”ZT四 水中新型持久性有機(jī)污染物--全氟化合物的測(cè)定

  “護(hù)航生活飲用水安全”ZT四 水中新型持久性有機(jī)污染物--全氟化合物的測(cè)定[詳細(xì)]

  2021-08-20 13:12

  應(yīng)用文章

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• 分析飲用水中的有機(jī)氯農(nóng)藥殘留

  分析飲用水中的有機(jī)氯農(nóng)藥殘留[詳細(xì)]

  2015-05-14 00:00

  期刊論文

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• 晶圓上的光刻膠殘留和有機(jī)污染物的可視化

  電子行業(yè)如何通過(guò)使用熒光顯微鏡對(duì)晶圓和半導(dǎo)體進(jìn)行檢測(cè)？無(wú)論是質(zhì)量控制、失 效分析和研發(fā)都能從中受益 對(duì)更強(qiáng)大、更快速的電子設(shè)備（智能手機(jī)、計(jì)算機(jī)、平板電腦、顯示器等）的需求不斷增長(zhǎng)，這推動(dòng)了集成電路（IC）芯片 和半導(dǎo)體組件的圖案尺寸縮小到10納米以下[1-3]。為了實(shí)現(xiàn)更小的納米級(jí)尺寸，紫外光刻圖案化步驟的數(shù)量已經(jīng)增加，隨 之而來(lái)的是刻蝕過(guò)程中的缺陷和有機(jī)污染的可能性增加[2]。這種殘留污染可能對(duì)工藝控制、產(chǎn)量以及電子組件的性能和可 靠性產(chǎn)生負(fù)面影響[詳細(xì)]

  2024-08-22 14:50

  選購(gòu)指南

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• TD_GC_MS法分析燃放煙花爆竹產(chǎn)生的大氣有機(jī)污染物

  TD_GC_MS法分析燃放煙花爆竹產(chǎn)生的大氣有機(jī)污染物[詳細(xì)]

  2024-09-28 10:33

  標(biāo)準(zhǔn)

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• GC×GC-qMS 法定性分析PM2.5 顆粒物中的有機(jī)污染物

  GC×GC-qMS 法定性分析PM2.5 顆粒物中的有機(jī)污染物[詳細(xì)]

  2024-09-28 00:26

  報(bào)價(jià)單

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• UVAS eco sc有機(jī)污染物在線分析儀操作手冊(cè)

  UVAS eco sc有機(jī)污染物在線分析儀操作手冊(cè)[詳細(xì)]

  2011-08-19 00:00

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• UVAS eco sc有機(jī)污染物在線分析儀樣本

  UVAS eco sc有機(jī)污染物在線分析儀樣本[詳細(xì)]

  2024-09-15 13:16

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