本文由 美國SVTA公司中國辦事處 整理匯編

2024-09-10 23:20 613閱讀次數(shù)

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  2024-09-11 17:48

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• 鍍膜儀簡介

  EMS150T的機(jī)殼是整體成型的，結(jié)構(gòu)堅(jiān)固耐用，配有氣冷的70L/S的渦輪分子泵，自動(dòng)進(jìn)氣控制保證了濺射期間**的真空水平，真空腔室直徑為165mm并帶有防爆裝置。EMS150T具有“真空閉鎖”功能，可在設(shè)備不工作時(shí)維持腔室的真空度，從而保證高真空的性能。EMS150T系列全自動(dòng)高真空離子濺射/熱蒸發(fā)一體化鍍膜儀給用戶以類似傻瓜相機(jī)的簡單操作、ding級的鍍膜質(zhì)量和對熟手/新手都很理想的用戶界面，讓用戶真正領(lǐng)略至臻wan美的鍍膜品質(zhì)！根據(jù)不同的應(yīng)用方向，EMS150T細(xì)分為三個(gè)型號：EMS150TS：高分辨率濺射鍍膜儀HighResolutionTurbomolecularPumpedSputterCoater，可濺射易氧化和不易氧化金屬，可選各種濺射靶材，包括場發(fā)射電鏡常用的銥和。EMS150TE：高真空鍍碳儀，可制作高穩(wěn)定的碳膜和表面覆形膜，是TEM應(yīng)用Z理想的選擇。EMS150TES：集合了離子濺射和熱蒸鍍兩種真空沉積鍍膜方式，鍍膜頭可在幾秒內(nèi)快速更換，只能邏輯系統(tǒng)自動(dòng)識別所裝的鍍膜頭類型，并顯示相應(yīng)的操作模式。注：上述各型號都可配備如下可選的附件：金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測量等觸摸屏控制：EMS150T操作十分簡單，直觀的觸摸屏，即使Z不熟練的操作者也可以自由操作，同時(shí)可方便的鍵入和存儲(chǔ)數(shù)據(jù)。為了方便使用，設(shè)備中已經(jīng)預(yù)存一些了典型的濺射和蒸發(fā)鍍膜參數(shù)資料。鍍膜插入頭選項(xiàng)：具有一系列可互換、即插即用的鍍膜插入頭濺射插入頭適用于易氧化和不易氧化金屬材料，直徑57mmX0.3mm厚靶為標(biāo)準(zhǔn)靶材可用另外的濺射插入頭來快速更換鍍膜材料（僅為TS和TES型號）適用于3.05mm碳棒蒸發(fā)插入頭適用于6.15mm碳棒蒸發(fā)頭，建議使用3.05mm直徑的碳棒，它們更容易控制、更經(jīng)濟(jì)碳絲蒸發(fā)插入頭金屬蒸發(fā)和光闌潔凈頭，包括向上蒸發(fā)或向下蒸發(fā)（僅為TE和TES型號）樣品臺(tái)選項(xiàng)EMS150T具有各種易更換的樣品臺(tái)，drop-in落入式設(shè)計(jì)具高度可調(diào)（除旋轉(zhuǎn)行星臺(tái)）。標(biāo)準(zhǔn)配置為旋轉(zhuǎn)臺(tái),直徑為50mm可預(yù)設(shè)傾斜角度的旋轉(zhuǎn)臺(tái)（可選）可變角度旋轉(zhuǎn)行星臺(tái)（可選）可用于4晶圓的平面旋轉(zhuǎn)臺(tái)（可選）顯微鏡載玻片樣品臺(tái)（可選）其它選項(xiàng)用于高樣品的加高腔室膜厚監(jiān)測器（FTM）用于測量低和高真空的全范圍真空計(jì)特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn):金屬濺射或碳蒸發(fā)或兩者兼?zhèn)洌阂惑w化設(shè)計(jì)，節(jié)約空間精細(xì)顆粒濺射：高分辨率場發(fā)射掃描電鏡（FE-SEM）制樣的精細(xì)鍍膜應(yīng)用渦輪分子泵高真空系統(tǒng)：允許不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材的濺射鍍膜，大大拓寬了可濺射靶材范圍，既適合普通SEM、高分辨率FE-SEM鍍膜制樣應(yīng)用，也為許多薄膜應(yīng)用等材料科研領(lǐng)域提供理想的鍍膜平臺(tái)全自動(dòng)觸摸屏控制：快速數(shù)據(jù)輸入，簡單操作可儲(chǔ)存多個(gè)客戶自定義鍍膜方案：對多用戶實(shí)驗(yàn)室十分理想與鍍膜過程和鍍膜材料相匹配的預(yù)編程自動(dòng)真空控制精細(xì)的厚度控制：使用膜厚監(jiān)控選項(xiàng)“智能”式系統(tǒng)識別：自動(dòng)感知用戶所裝的插入式鍍膜頭的類型高真空碳蒸鍍：對SEM和TEM鍍碳膜應(yīng)用非常理想蒸發(fā)電流波形控制Drop-in落入式快換樣品臺(tái)（標(biāo)配旋轉(zhuǎn)臺(tái)）真空閉鎖功能：可讓工作腔室處于真空狀態(tài)，改善后續(xù)真空效果，或在真空條件下保存樣品鍍制厚膜能力：一次真空條件下的濺射時(shí)間可長達(dá)60分鐘（材料科研領(lǐng)域的應(yīng)用）人體工程學(xué)設(shè)計(jì)的整體成型機(jī)殼：易維護(hù)和易拆裝帶有本地FTP服務(wù)器連接的以太網(wǎng)端口：簡單的程序更新設(shè)有功率因素補(bǔ)償，有效利用電能，降低運(yùn)行成本符合當(dāng)前電器法規(guī)（CE認(rèn)證）EMS150T儀器參數(shù)：儀器尺寸585mm寬*470mm*410mm高（總高650mm）重量33.4KG工作腔室150mm（內(nèi)徑）*127mm（高）硼硅酸鹽玻璃腔室，并帶整體安全防護(hù)罩觸摸屏用戶界面帶有觸摸按鈕的全圖像界面，包含多達(dá)十個(gè)鍍膜程序，可提醒何時(shí)需要維護(hù)工作腔室150mm（內(nèi)徑）*127mm（高）硼硅酸鹽玻璃腔室，并帶整體安全防護(hù)罩樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速為8-20rpm的旋轉(zhuǎn)臺(tái)真空系統(tǒng)渦輪子分子泵：帶有內(nèi)部空氣卻的渦輪分子泵，抽速為70L/s旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵：抽速為50L/m的兩級旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵，帶有油污過濾器真空測量皮拉尼真空計(jì)作為標(biāo)配極限真空度10-5mbar兩級電源需求90-250V~50/60Hz1400VA（包括旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵電壓240V）氣體濺射工作氣體氬氣，99.999%（TS和TES版本）；氮?dú)猓艢馄普婵諝怏w（可選）金屬蒸發(fā)和光闌清潔頭用于源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發(fā)。可配備一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)鉬舟用于清潔SEM或TEM光闌碳蒸發(fā)穩(wěn)定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發(fā)，確保源自碳棒或碳絲的可重復(fù)蒸碳電流脈沖1-90安培濺射0-150mA?？深A(yù)設(shè)膜厚（需FTM選項(xiàng)）或使用內(nèi)置定時(shí)器濺射工作真空范圍5*10-3到5*10-1mbar濺射靶材和碳耗材供應(yīng)EMS150TS和EMS150TES標(biāo)配鉻靶，但可選用的其它靶材范圍很寬，包括那些廣泛用于SEM制樣的靶材，如：Au金靶，Au/pd金鈀，Pt鉑靶，和Iridium銥靶。對非SEM應(yīng)用，可選用的靶材包括：AI鋁，Ta鉭，ITO氧化銦錫，F(xiàn)e鐵，W鎢，Ti鈦，等等：碳制品包括高純度碳EMS150T與Q150T都是英國Quorum公司生產(chǎn)，屬于同一產(chǎn)品，以兩個(gè)品牌模式銷售，所以兩個(gè)品牌的產(chǎn)品是完全一樣的。EMS150TZG總代海德創(chuàng)業(yè)（北京）生物科技有限公司北京回龍觀西大街115號龍冠大廈4層010-5124812052571502www.hedebio.comhedebio@163.com[詳細(xì)]

  2018-09-20 10:00

  產(chǎn)品樣冊

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• 鍍膜背景知識

  鍍膜背景知識[詳細(xì)]

  2024-09-15 21:33

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• Sputter 磁控濺射鍍膜

  Sputter 磁控濺射鍍膜 產(chǎn)品樣冊[詳細(xì)]

  2022-07-18 15:44

  產(chǎn)品樣冊

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  在高真空領(lǐng)域內(nèi)測定摩擦力[詳細(xì)]

  2011-01-27 00:00

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• SH/T0165 高真空蒸餾標(biāo)準(zhǔn)

  SH/T0165 高真空蒸餾標(biāo)準(zhǔn)[詳細(xì)]

  2012-10-17 00:00

  報(bào)價(jià)單

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• 精細(xì)化工高真空連續(xù)精餾技術(shù)

  以S次開發(fā)成功的高真空連續(xù)精餾技術(shù)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的高真空間歇精餾過程,可以有效解決精細(xì)化工產(chǎn)品或原料因其難分離、熱敏性強(qiáng)等特點(diǎn)而導(dǎo)致的產(chǎn)品純度、顏色和嗅味不能達(dá)到分離要求的普遍問題。通過真實(shí)開發(fā)過程實(shí)例,闡述了高真空連續(xù)精餾技術(shù)的特點(diǎn)及設(shè)備選型要求等關(guān)鍵技術(shù)點(diǎn),表明了高真空連續(xù)精餾技術(shù)在眾多精細(xì)化工產(chǎn)品及其中間體的分離精制上具有普遍的推廣應(yīng)用價(jià)值。[詳細(xì)]

  2018-09-21 10:01

  產(chǎn)品樣冊

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• 微型高真空磁控濺射儀產(chǎn)品樣冊

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  2018-08-31 10:11

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  2018-09-04 10:00

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