過氧化氫

也叫雙氧水，是半導(dǎo)體行業(yè)常用的一種化學(xué)試劑，主要用作半導(dǎo)體硅晶片清洗劑，蝕刻劑和光刻膠去除劑，還可用于高級絕緣層制取，電鍍液無機(jī)雜質(zhì)去除，電子行業(yè)中銅、銅合金和鎵、鍺的處理，以及太陽能硅晶片的蝕刻和清洗。在處理過程中，試劑中的雜質(zhì)會(huì)對元器件性能產(chǎn)生致命影響，因此必須使用純度非常高的過氧化氫。

目前國內(nèi)在過氧化氫方面的標(biāo)準(zhǔn)主要有GB/T 1616-2014《工業(yè)過氧化氫》、GB 22216-2008《食品添加劑 過氧化氫》、GB/T 6684-2002《化學(xué)試劑 30%過氧化氫》和HG/T 5553-2019《土壤修復(fù)用過氧化氫》，標(biāo)準(zhǔn)的要求相對較低，不能滿足半導(dǎo)體行業(yè)的使用。而國際半導(dǎo)體協(xié)會(huì)SEMI則是專門針對半導(dǎo)體行業(yè)推出了相關(guān)的國際標(biāo)準(zhǔn)《SEMI C30-0301SPECIFICATIONS AND GUIDELINES FOR HYDROGEN PEROXIDE》，其中對半導(dǎo)體用的過氧化氫中各項(xiàng)雜質(zhì)含量做出了規(guī)定，并推薦了檢測方法。

對于Grade 2和Grade 3產(chǎn)品，SEMI建議將樣品加堿蒸餾后使用離子色譜法檢測其中的氯離子、硝酸根、磷酸根和硫酸根。瑞士萬通離子色譜可以充分滿足該標(biāo)準(zhǔn)的檢測要求，并且針對前處理中加堿容易引入雜質(zhì)的方法缺陷進(jìn)行了改進(jìn)。

樣品前處理中加堿蒸餾的目的是為了將過氧化氫分解，從而避免過氧化氫對色譜柱的氧化破壞。除SEMI標(biāo)準(zhǔn)中提到的上述方法外，還有人采用鉑電極催化的方法來分解過氧化氫，該方法雖然避免了雜質(zhì)離子的引入，但是樣品處理時(shí)間較長，而且需要加熱；也有人采用在線閥切換的方法減少過氧化氫對色譜柱的破壞，但是該方法需要的儀器配置較高，不適合大面積推廣使用。針對以上問題，瑞士萬通推出了英藍(lán)預(yù)濃縮-基體消除技術(shù)，電子級過氧化氫可直接進(jìn)樣，無需前處理，且儀器配置簡單，可有效降低使用成本。

只需將樣品放置在自動(dòng)進(jìn)樣器上，系統(tǒng)便可自動(dòng)完成樣品的基體消除和預(yù)濃縮過程。首先，通過瑞士萬通高精度的移液裝置Dosino移取一定體積的樣品使其通過預(yù)濃縮柱，其中痕量陰離子被保留在預(yù)濃縮柱上，然后使用高純水流經(jīng)預(yù)濃縮柱，將不帶電荷的過氧化氫沖入廢液中，而其中的痕量陰離子則不會(huì)被洗脫下來，實(shí)現(xiàn)濃縮和基體消除的目的。再用淋洗液反向沖洗預(yù)濃縮柱，留在預(yù)濃縮柱上的陰離子即可被帶入色譜柱進(jìn)行分離。

某客戶VL級H₂O₂樣品譜圖（25.5% ~ 26.5%）

英藍(lán)預(yù)濃縮–基體消除技術(shù)對電子級過氧化氫直接進(jìn)樣分析的方法，可以有效解決過氧化氫基體對色譜柱及譜圖的不利影響，同時(shí)直接進(jìn)樣使得痕量陰離子的檢測靈敏度及準(zhǔn)確性大幅提高。

英藍(lán)預(yù)濃縮– 基體消除技術(shù)是英藍(lán)預(yù)濃縮、英藍(lán)基體消除技術(shù)的聯(lián)用，除此之外瑞士萬通還有英藍(lán)超濾、英藍(lán)滲析、英藍(lán)單標(biāo)多點(diǎn)、英藍(lán)基體中和等多種樣品前處理技術(shù)，可以根據(jù)樣品情況自由組合配置，充分滿足各種不同應(yīng)用場景的需要，為您提供定制化服務(wù)。

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