最近小伙伴對(duì)于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問(wèn)的問(wèn)題比較多，今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見(jiàn)的技術(shù)問(wèn)題：

1、膜厚檢測(cè)儀原理：膜厚監(jiān)測(cè)儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測(cè)量技術(shù)加上先進(jìn)的數(shù)學(xué)算法，進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過(guò)程中，對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。

2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳  但是 鎳是導(dǎo)磁金屬 所以 需要靶材盡量薄 0.5mm-1mm  太厚磁場(chǎng)無(wú)法穿透  濺射速率很低。

3、直流濺射鍍膜調(diào)節(jié)：1 靶材需要良好的導(dǎo)電性, 如果具備這個(gè)條件  可以鍍    2 遇到容易氧化的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色。

鄭科探小型濺射儀KT-Z1650PVD

以上是小伙伴近期問(wèn)的比較多的問(wèn)題，如果還有什么問(wèn)題歡迎咨詢。

小型濺射儀儀問(wèn)儀答

最近小伙伴對(duì)于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問(wèn)的問(wèn)題比較多，今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見(jiàn)的技術(shù)問(wèn)題：

1、膜厚檢測(cè)儀原理：膜厚監(jiān)測(cè)儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測(cè)量技術(shù)加上先進(jìn)的數(shù)學(xué)算法，進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過(guò)程中，對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。

2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳  但是 鎳是導(dǎo)磁金屬 所以 需要靶材盡量薄 0.5mm-1mm 太厚磁場(chǎng)無(wú)法穿透  濺射速率很低。

3、直流濺射鍍膜調(diào)節(jié)：1 靶材需要良好的導(dǎo)電性, 如果具備這個(gè)條件  可以鍍    2 遇到容易氧化的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色。

鄭科探小型濺射儀KT-Z1650PVD

以上是小伙伴近期問(wèn)的比較多的問(wèn)題，如果還有什么問(wèn)題歡迎咨詢。

               鄭科探小型濺射儀功能優(yōu)勢(shì)

1、樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，多樣品同時(shí)鍍膜時(shí)，鍍膜厚度比較均勻。

2、預(yù)濺射擋板功能，剛開(kāi)始鍍膜的時(shí)候腔室里會(huì)有些雜質(zhì)，擋板可以保護(hù)樣品，提高薄膜質(zhì)量

3、帶有水冷系統(tǒng)，可以長(zhǎng)時(shí)間濺射鍍膜，厚度可達(dá)1微米以上。

4、直流磁控濺射，提高附著力，濺射速率快，比離子濺射快上一個(gè)量級(jí)。針對(duì)某些金屬最快能達(dá)到1-2納米每秒，

5、不但可以電鏡制樣，還可以制作金屬電極。

6、可擴(kuò)展膜厚監(jiān)測(cè)，監(jiān)測(cè)薄膜厚度。

濺射儀使用需注

1 靶材需要良好的導(dǎo)電性, 如果具備這個(gè)條件  可以鍍    

2 遇到容易氧化的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色

1）Linseis的原理是功率補(bǔ)償型原理還是熱流型？ 
熱流型原理

2）DSC的應(yīng)用范圍？
可用于測(cè)量包括高分子材料在內(nèi)的固體、液體材料的熔點(diǎn)、沸點(diǎn)、玻璃化轉(zhuǎn)變、比熱、結(jié)晶溫度、結(jié)晶度、純度、反應(yīng)溫度、反應(yīng)熱。

3）功率補(bǔ)償型DSC有何優(yōu)點(diǎn)？

1.    精確的溫度控制和測(cè)量

2.    更快的響應(yīng)時(shí)間和冷卻速度

3.    高分辨率

4）基線為何很重要，如何校正？ 
基線的重要性：

1.    樣品產(chǎn)生的信號(hào)及樣品池產(chǎn)生的信號(hào)必須加以區(qū)分；

2.    樣品池產(chǎn)生的信號(hào)依賴于樣品池狀況、溫度等；

3.    平直的基線是一切計(jì)算的基礎(chǔ)。

如何得到理想的基線

1.    干凈的樣品池、儀器的穩(wěn)定、池蓋的定位、清洗氣；

2.    選擇好溫度區(qū)間，區(qū)間越寬，得到理想基線越困難；

3.    進(jìn)行基線Z佳化操作。

5）主要是什么因素導(dǎo)致儀器損壞？

1.    用力過(guò)大，造成樣品池不可挽救的損壞；

2.    操作溫度過(guò)高（鋁樣品皿，溫度>600℃）；

3.    樣品池底部電接頭短路和開(kāi)路；

4.    樣品未被封住，引起樣品池污染。

1）為何選擇Linseis同步熱分析儀

1.    同時(shí)定量測(cè)定樣品的重量和熱量隨溫度的變化，可以使用戶在完全相同的測(cè)試條件下研究某一樣品的化學(xué)變化和物里相變所引起的質(zhì)變與熱變.

2.    該儀器以靈活的配置通過(guò)不同的測(cè)量方式在真空、靜止或流動(dòng)的氣氛中進(jìn)行工作。并可根據(jù)不同的溫度范圍選擇合適的加熱爐，從而滿足用戶不同的需要，作為一個(gè)大的測(cè)量系統(tǒng)的一部份。

3.    方便的接口可以聯(lián)結(jié)其他的分析儀器，如色譜儀，質(zhì)譜儀等協(xié)同完成您的分析測(cè)量工作。

4.    熱天平有水平和垂直的兩種模式定購(gòu)，用戶可以方便的更換。

5.    天平設(shè)計(jì)為真空氣氛（10E-5mbar）、惰性氣體、氧化還原氣體、流動(dòng)的潮濕氣體、腐蝕性氣體。

6.    可變換的加熱爐程序在水平模式下溫度范圍： -150－1000 ℃； 在垂直模式下溫度范圍：常溫－2400 ℃。

2) Linseis 的STA軟件有那些特點(diǎn)？

1.    文本編輯綱要功能

2.    輸入Z少參數(shù)的重復(fù)測(cè)量

3.    可編程的氣體控制

4.    熱電偶破裂保護(hù)

5.    當(dāng)前測(cè)量的賦值

6.    統(tǒng)計(jì)評(píng)估包

7.    32條曲線的比較

8.    多模式分析：DSC、TG、TMA（熱機(jī)械分析儀） 、DIL（熱膨脹儀）等

9.    曲線放大功能

10.  一階、二階求導(dǎo)

11.  評(píng)估結(jié)果的保存和導(dǎo)出

12.  ASCII碼的導(dǎo)入和導(dǎo)出

13.  數(shù)據(jù)可以導(dǎo)入MS EXCEL

14.  斷電情況下數(shù)據(jù)保存

15.  自由縮放比例

3）Linseis的熱分析產(chǎn)品的快速加熱原理？加熱速率可達(dá)？
電磁感應(yīng)：400K/S

4）同步熱分析的應(yīng)用主要是那些方面：

1.    研究熱降解

2.    化學(xué)反應(yīng)所導(dǎo)致的質(zhì)量變化諸如吸收、吸附、脫附；

3.    樣品純度

4.    熱分析動(dòng)力學(xué)

5.    氧化還原反應(yīng)

6.    儲(chǔ)氫

作為一個(gè)采購(gòu)工作者，想具體了解一下各種儀表的成本構(gòu)造，各種參數(shù)對(duì)儀表的影響，國(guó)產(chǎn)合資差價(jià)的原因，希望與專(zhuān)業(yè)人士溝通學(xué)習(xí)一下。