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關(guān)鍵詞:紅外光譜儀 定量檢測 游離二氧化硅
在電力、煤炭等行業(yè)生產(chǎn)環(huán)境中,粉塵中游離二氧化硅含量較高,粉塵的分散度也比較高,即多為呼吸性粉塵,因此對作業(yè)人員的危害較大,主要包括鼻炎、咽炎、氣管炎、支氣管炎等呼吸系統(tǒng)疾病。因此,加強(qiáng)對粉塵中游離二氧化硅含量的檢測是一件非常重要和緊迫的工作。以往檢測均采用“焦磷酸重量法”,該方法存在操作步驟復(fù)雜、使用試劑種類繁多、檢測周期長、準(zhǔn)確性差、試驗(yàn)室條件要求苛刻等一系列問題,難以滿足現(xiàn)場批量檢測的要求。為了提高檢測的準(zhǔn)確性,實(shí)現(xiàn)批量檢測的目的,可選用FTIR920型傅立葉變換紅外光譜儀來檢測粉塵中游離二氧化硅含量。
檢測原理:
α-石英在紅外光譜中于 12.5μm(800cm-1)、12.8μm(780cm-1)及 14.4(694cm-1)μm處出現(xiàn)特異性強(qiáng)的吸收帶,在一定范圍內(nèi),其吸光度值與α-石英質(zhì)量成線性關(guān)系。通過測量吸光度,進(jìn)行定量測定。
儀器配置:
制樣準(zhǔn)備:
瓷坩堝和坩堝鉗;
箱式電阻爐或低溫灰化爐;
十萬分之一天平;
200目過濾篩;
濾紙、稱量紙 若干;
無水乙醇;
手套、脫脂棉、小藥勺、玻璃取樣瓶;
游離二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)品(純度高于95%);
采集的粉塵樣品。
樣品的采集:根據(jù)測定目的,樣品的采集方法參見 GBZ 159 和 GBZ/T 192.2 或 GBZ/T 192.1,濾膜上采集的粉塵量大于 0.1mg 時(shí),可直接用于本法測定游離二氧化硅含量。
測定:
1、樣品處理
準(zhǔn)確稱量采有粉塵的濾膜上粉塵的質(zhì)量(G)。然后將受塵面向內(nèi)對折 3 次,放在瓷坩堝內(nèi),置于低溫灰化爐或電阻爐(小于 600℃)內(nèi)灰化,冷卻后,放入干燥器內(nèi)待用。稱取 250mg 溴化鉀和灰化后的粉塵樣品一起放入瑪瑙乳缽中研磨混勻后,連同壓片模具一起放入干燥箱(110℃±5℃)中10min。將干燥后的混合樣品置于壓片模具中,加壓25MPa,持續(xù) 3min,制備出的錠片作為測定樣品。同時(shí),取空白濾膜一張,同樣處理,作為空白對照樣品。
2、石英標(biāo)準(zhǔn)曲線的繪制
精確稱取不同質(zhì)量的標(biāo)準(zhǔn)α-石英塵(0.01mg ~1.00mg),分別加入250mg 溴化鉀,置于瑪瑙乳缽中充分研磨均勻,按上述樣品制備方法做出透明的錠片。將不同質(zhì)量的標(biāo)準(zhǔn)石英錠片置于樣品室光路中進(jìn)行掃描,紅外軟件以 X 軸橫坐標(biāo)記錄 1000cm-1~600cm-1 的譜圖,在 900cm-1 處校正零點(diǎn)和 100%,以 Y 軸縱坐標(biāo)表示吸光度。
以 800cm-1、780cm-1 及 694cm-1 三處的吸光度值為縱坐標(biāo),以石英質(zhì)量(mg)為橫坐標(biāo),繪制三條不同波長的α-石英標(biāo)準(zhǔn)曲線,并求出標(biāo)準(zhǔn)曲線的回歸方程式。在無干擾的情況下,一般選用 800 cm-1標(biāo)準(zhǔn)曲線進(jìn)行定量分析。
3、樣品測定
分別將樣品錠片與空白對照樣品錠片置于樣品室光路中進(jìn)行掃描,記錄800cm-1(或 694cm-1)處的吸光度值,重復(fù)掃描測定 3 次,測定樣品的吸光度均值減去空白對照樣品的吸光度均值后,由α-石英標(biāo)準(zhǔn)曲線得樣品中游離二氧化硅的質(zhì)量(m)。
計(jì)算
按以下公式計(jì)算粉塵中游離二氧化硅的含量:
SiO2(F)= m/G× 100
公式中:SiO2(F)——粉塵中游離二氧化硅(α-石英)的含量,%;
m——測得的粉塵樣品中游離二氧化硅的質(zhì)量,mg;
G——粉塵樣品質(zhì)量,mg。
注意事項(xiàng)
1、本法的α-石英檢出量為 0.01mg;相對標(biāo)準(zhǔn)差(RSD)為 0.64%~1.41%。
2、粉塵粒度大小對測定結(jié)果有一定影響,因此,樣品和制作標(biāo)準(zhǔn)曲線的石英塵應(yīng)充分研磨,使其粒度小于 5μm 者占 95%以上,方可進(jìn)行分析測定。
3、灰化溫度對煤礦塵樣品定量結(jié)果有一定影響,若煤塵樣品中含有大量高嶺土成分,在高于 600℃灰化時(shí)發(fā)生分解,于 800cm-1 附近產(chǎn)生干擾,如灰化溫度小于 600℃時(shí),可消除此干擾帶。
4、在粉塵中若含有粘土、云母、閃石、長石等成分時(shí),可在 800cm-1 附近產(chǎn)生干擾,則可用 694cm-1 的標(biāo)準(zhǔn)曲線進(jìn)行定量分析。
5、為降低測量的隨機(jī)誤差,實(shí)驗(yàn)室溫度應(yīng)控制在 18℃~24℃,相對濕度小于 50%為宜。制備石英標(biāo)準(zhǔn)曲線樣品的分析條件應(yīng)與被測樣品的條件完全一致,以減少誤差。
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- 鋼中硅含量和氧化溫度對尺度生長和形貌的影響
鋼在加熱過程中,其表層的鐵與爐氣中氧化性氣體O2、CO2、H2O、SO2等接觸發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并生成氧化鐵皮,這個反應(yīng)叫鋼的氧化。根據(jù)氧化程度的不同,生成幾種不同的鐵的氧化物—FeO、Fe3O4、
Fe2O3。影響氧化的因素有:加熱溫度、加熱時(shí)間、爐氣成分、鋼的成分,這些因素中爐氣成分、加熱溫度、鋼的成分對氧化速度有較大的影響。
Amine Alaoui Mouayd等人研究了鋼中高硅含量、1.6wt.% Si和3.2wt.% Si和高氧化溫度(850-1200℃)對尺度生長速率和形態(tài)的影響。鋼在15%潮濕的空氣中被氧化,具有較短的等溫氧化時(shí)間(15分鐘)。使用linseis的熱重分析儀(TGA)做氧化試驗(yàn),非合金鋼的尺度增長率隨時(shí)間呈拋物線規(guī)律,是鐵擴(kuò)散控制的氧化。硅的存在通過在刻度/金屬界面上形成SiO2阻擋層而延遲生長,這種效應(yīng)對于含3.2wt.% Si的鋼更為重要,并且導(dǎo)致不連續(xù)的尺度。硅氧化物在規(guī)模/金屬界面上富集,其形貌取決于氧化溫度。對于低于950℃的溫度,形成二氧化硅。在950℃和1150℃之間,鐵橄欖石(Fe2SiO4)晶粒出現(xiàn)在鎢/鐵基體附近的尺度/金屬界面。對于高于1177℃的溫度,形成鐵橄欖石-方鐵礦共晶;這種熔融相有利于鐵擴(kuò)散,導(dǎo)致高尺度生長。冷卻后,在尺度/鋼界面上獲得了具有小方鐵礦晶粒的連續(xù)鐵橄欖石層。
圖1:15%℃潮濕空氣中Si00在900-1200℃氧化過程中的質(zhì)量增加。
圖2:(a)在15%℃潮濕空氣中Si16在溫度為900-1200℃氧化過程中的質(zhì)量增加。(b)放大Si16在鈍化期時(shí)的質(zhì)量增加。
(來源:林賽斯(上海)科學(xué)儀器有限公司)
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