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那諾—馬斯特中國(guó)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品：薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長(zhǎng)設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測(cè)試設(shè)備等
認(rèn)證會(huì)員 第 5 年

那諾—馬斯特中國(guó)有限公司

認(rèn)證：工商信息已核實(shí)
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單晶圓/掩模版兆聲清洗機(jī)

 
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晶圓清洗設(shè)備 SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī) 那諾-馬斯特
  • 品牌：美國(guó)那諾-馬斯特
  • 型號(hào)：SWC-4000
  • 產(chǎn)地：美洲 美國(guó)

    • SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲...

原裝進(jìn)口清洗機(jī) SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī) 那諾-馬斯特
  • 品牌：美國(guó)那諾-馬斯特
  • 型號(hào)：SWC-3000
  • 產(chǎn)地：美洲 美國(guó)

    • SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功...

進(jìn)口全自動(dòng)清洗機(jī) SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī) 那諾-馬斯特
  • 品牌：美國(guó)那諾-馬斯特
  • 型號(hào)：SWC-5000
  • 產(chǎn)地：美洲 美國(guó)

    • SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統(tǒng)配套機(jī)械手，也可以升級(jí)為多系統(tǒng)的集成...

硅片清洗機(jī) SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng) 那諾-馬斯特
  • 品牌：美國(guó)那諾-馬斯特
  • 型號(hào)：SWC-3000
  • 產(chǎn)地：美洲 美國(guó)

    • SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗，以及兆聲輔助的光刻膠剝離。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試...

半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備 SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng) 那諾-馬斯特
  • 品牌：美國(guó)那諾-馬斯特
  • 型號(hào)：SWC-4000
  • 產(chǎn)地：美洲 美國(guó)

    • SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗，以及兆聲輔助下光刻膠剝離。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試...

硅片清洗設(shè)備 進(jìn)口晶圓清洗機(jī) 那諾-馬斯特
  • 品牌：美國(guó)那諾-馬斯特
  • 型號(hào)：SWC系列/LSC系列
  • 產(chǎn)地：美洲 美國(guó)

    • 進(jìn)口晶圓清洗機(jī)：Nano-Master進(jìn)口兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

晶圓清洗機(jī) 硅片清洗機(jī) 那諾-馬斯特
  • 品牌：美國(guó)那諾-馬斯特
  • 型號(hào)：SWC系列/LSC系列
  • 產(chǎn)地：美洲 美國(guó)

    • 硅片清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

晶圓清洗設(shè)備 兆聲清洗機(jī) 那諾-馬斯特
  • 品牌：美國(guó)那諾-馬斯特
  • 型號(hào)：SWC系列/LSC系列
  • 產(chǎn)地：美洲 美國(guó)

    • Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統(tǒng)配套機(jī)械手，也可以升級(jí)為多系統(tǒng)的集成架構(gòu)。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)...