本設(shè)備主要用于半導體刻蝕，能夠兼容離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕功能，使用氣態(tài)化學刻蝕劑與材料產(chǎn)生反應(yīng)來進行刻蝕，并形成可從襯底上移除的揮發(fā)性副產(chǎn)品，通過真空系統(tǒng)排出，特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷...

超邁光電ICP等離子刻蝕設(shè)備： 反應(yīng)離子刻蝕機主要用于介質(zhì)薄膜干法刻蝕，包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等。

介紹：刻蝕設(shè)備在半導體行業(yè)中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，可以實現(xiàn)納米級的精密刻蝕。對復雜微結(jié)構(gòu)的器件加工，微電子器件的制造提供重要支持，在芯片領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用。 成都超邁光電科技有限公司，為國家高新...