本設(shè)備主要用于半導(dǎo)體刻蝕，能夠兼容離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕功能，使用氣態(tài)化學(xué)刻蝕劑與材料產(chǎn)生反應(yīng)來進(jìn)行刻蝕，并形成可從襯底上移除的揮發(fā)性副產(chǎn)品，通過真空系統(tǒng)排出，特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷...

超邁光電ICP等離子刻蝕設(shè)備： 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)主要用于介質(zhì)薄膜干法刻蝕，包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等。

介紹：刻蝕設(shè)備在半導(dǎo)體行業(yè)中占據(jù)著至關(guān)重要的地位，可以實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的精密刻蝕。對(duì)復(fù)雜微結(jié)構(gòu)的器件加工，微電子器件的制造提供重要支持，在芯片領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用。 成都超邁光電科技有限公司，為國(guó)家高新...

Research-磁控濺射鍍膜機(jī)，該設(shè)備用于納米級(jí)單層或多層膜、類金剛石薄膜、金屬膜、導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜和非導(dǎo)電膜等功能薄膜的制備，可實(shí)現(xiàn)共濺射，直流、射頻兼容，特別適于科研院所和企業(yè)進(jìn)行功能薄膜研發(fā)、...