至多可選配四個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）。 可制備多種薄膜，應用廣泛。 體積小，操作簡便。 整機模塊化設計，...

VTC-1HD-Z F2高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是多功能高真空鍍膜設備，含單靶磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜

該自動鈣鈦礦涂膜系統(tǒng)采用自動吸液注液方式，注液后在基片表面自動旋涂出一層薄膜，旋涂后移動基片至烤膠機表面進行薄膜烘干。液體可進行攪拌防止沉淀，如需加熱可對液體進行加熱操作。整個操作過程在11寸觸摸屏上...

VTC-50PA-DC 微型旋涂機主要適用于液體、膠狀體、可流動糊狀體等薄膜材料的使用。設備采用不銹鋼外殼結(jié)構(gòu)，使產(chǎn)品更輕量化且耐腐蝕，上蓋采用透明亞格力材質(zhì)，可清晰的觀察到涂膜整個過程。樣品固定采用...

PTL-MMB02-500恒溫垂直提拉涂膜機是專為研究液相生長薄膜而設計的精密設備，在恒溫場內(nèi)通過垂直提拉在液相中的樣件而生長薄膜。本機采用高精度速度控制系統(tǒng)，以及觸摸屏參數(shù)輸入端，實現(xiàn)提拉涂膜全過程...

磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀VTC-1RF-SPC是一套可實現(xiàn)射頻磁控濺射和蒸發(fā)鍍膜功能的系統(tǒng)，包含射頻電源、溫控型蒸發(fā)鍍膜模塊、真空系統(tǒng)，水冷設備，磁控濺射靶頭，不銹鋼腔室等。

MSK-AFA-W500-AL大型平板涂布機主要用于實驗室涂覆液體狀或膠體狀薄膜使用，設備采用精密級步進齒輪箱電機對涂膜速度進行精確控制，達到均速推進刮刀進行涂膜的目的，滾輪式刮刀采用全不銹鋼材質(zhì)，有...

VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

PTL-MM02-200-4 四工位提拉機一次可提拉二個樣件，通過程序控制使樣件，在裝料燒杯中浸沒一定時間后提拉出來進行干燥，浸沒時間和干燥時間可以通過程序進行設置。PTL-MM02-200-4四工位...

GSL-1800X-ZF6鈣鈦礦鍍膜機是一種利用電阻加熱使膜材汽化蒸發(fā)后凝結(jié)在基片上成膜的加熱鍍膜方法，該方法結(jié)構(gòu)簡單、實用，使用可靠，適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄...

VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄...

靜電紡絲法是一種利用高壓電場的作用，將聚合物溶液或熔體紡絲成尺度在微米到納米級的細纖維的簡單而有效的加工工藝，即聚合物噴射靜電拉伸紡絲法。由于靜電紡絲制備的纖維比傳統(tǒng)的紡絲方法細得多，直徑一般在數(shù)十到...

MSK-AFA-IVDV多功能小型真空自動涂布機的優(yōu)點在于可以反復,持續(xù)地制備出光滑平整而無暇疵的測試樣品. 方便實驗人員在不同的底材上精確的涂布，減小以及消除了由于涂布速度以及壓力不同等人為因素造成...