反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是一款獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品。具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔，便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口：一個(gè)帶有2"的視窗,另一個(gè)空置用于診斷。反應(yīng)離子刻蝕機(jī)可以支持zui大到12"的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計(jì)，并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6 Torr 或更小的極限真空。反應(yīng)離子刻蝕機(jī)系統(tǒng)可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個(gè)節(jié)流閥，一個(gè)250l/s的渦輪分子泵，濾網(wǎng)過濾器，以及一個(gè)10cfm的機(jī)械泵(帶Formblin泵油)。RF射頻功率通過600W，13.56MHz的電源和自動(dòng)調(diào)諧器提供。系統(tǒng)將持續(xù)監(jiān)控直流自偏壓，該自偏壓可以高達(dá)-500V，這對(duì)于各向異性的刻蝕至關(guān)重要。

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是基于PC控制的全自動(dòng)系統(tǒng)。系統(tǒng)真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實(shí)時(shí)顯示，流量及功率則以數(shù)字形式實(shí)時(shí)顯示。系統(tǒng)提供密碼保護(hù)的四級(jí)訪問功能:操作員級(jí)、工程師級(jí)、工藝人員級(jí)，以及維護(hù)人員級(jí)。允許半自動(dòng)模式(工程師模式)、寫程序模式(工藝模式)，和全自動(dòng)執(zhí)行程序模式(操作模式)運(yùn)行系統(tǒng)。基于全自動(dòng)的控制，該系統(tǒng)具有高度的可重復(fù)性。
   
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)檢驗(yàn)操作及判斷
    1. 確認(rèn)萬用表工作正常，量程置于200mV。
    2.冷探針連接電壓表的正電極，熱探針與電壓表的負(fù)極相連。
    3.用冷、熱探針接觸硅片一個(gè)邊沿不相連的兩個(gè)點(diǎn)，電壓表顯示這兩點(diǎn)間的電壓為正值，說明導(dǎo)電類型為P 型，刻蝕合格。相同的方法檢測(cè)另外三個(gè)邊沿的導(dǎo)電類型是否為P型。
    4.如果經(jīng)過檢驗(yàn)，任何一個(gè)邊沿沒有刻蝕合格，則這一批硅片需要重新裝片，進(jìn)行刻蝕。