X射線光電子能譜(XPS)通過(guò)測(cè)量芯能級(jí)結(jié)合能來(lái)研究材料最外層10 nm內(nèi)的表面化學(xué)組分,為材料表征提供了一種非破壞性的元素定量和化學(xué)態(tài)識(shí)別方法。芯能級(jí)光電子的結(jié)合能是表面區(qū)域元素的化學(xué)指紋,這些結(jié)合能會(huì)因化學(xué)態(tài)或局部鍵合環(huán)境的變化而發(fā)生位移。利用芯能級(jí)光電子的結(jié)合能可以幫助快速識(shí)別表面化學(xué)物種。 然而,同一元素在不同化合物中可以表現(xiàn)出相同或非常相似的結(jié)合能,這為XPS解析化學(xué)價(jià)態(tài)帶來(lái)了困難。
俄歇參數(shù)(Auger Parameter, α')已成為區(qū)分這些情況的有用工具,并可被視為化合物的XPS化學(xué)態(tài)指紋。因?yàn)榕c芯能級(jí)結(jié)合能相比,X射線激發(fā)的俄歇躍遷顯示出更大的化學(xué)誘導(dǎo)位移,由俄歇躍遷后的雙重電離狀態(tài)的離子能從周圍易極化介質(zhì)和電子獲得較高的屏蔽能量所致。(點(diǎn)擊此處了解光電子和俄歇電子的產(chǎn)生原理
)正因?yàn)槎硇^(guò)程涉及雙空穴終態(tài),其化學(xué)位移通常比芯能級(jí)光電子位移大得多(可達(dá)2-5倍),故更容易區(qū)分細(xì)微的化學(xué)環(huán)境差異。
什么是俄歇參數(shù)?
Charles D. Wagner提出用最強(qiáng)和最銳的俄歇線和光電子譜線對(duì)所對(duì)應(yīng)的動(dòng)能之差,定義為俄歇參數(shù)α,作為化學(xué)位移量來(lái)研究元素不同化學(xué)狀態(tài)的規(guī)律。在實(shí)際應(yīng)用中,通常使用修正后的俄歇參數(shù)α′:
α′ = Ek_俄歇電子 + Eb_光電子
可以理解為在同一X射線光電子能譜(即同一組數(shù)據(jù))中,特征光電子峰與其誘導(dǎo)產(chǎn)生(對(duì)應(yīng))的俄歇峰,前者取結(jié)合能,后者取動(dòng)能,用于計(jì)算俄歇參數(shù)α′。
在XPS測(cè)量中,尤其是絕緣樣品,表面容易積累電荷,導(dǎo)致測(cè)得的結(jié)合能整體偏移(荷電效應(yīng))。此外,不同儀器的功函數(shù)校準(zhǔn)也可能引入微小差異。但是,在α'的計(jì)算公式中,由于荷電效應(yīng)或校準(zhǔn)誤差(記為Δ)會(huì)同時(shí)影響動(dòng)能和結(jié)合能,即:
測(cè)量到的Ek_俄歇電子 = 真實(shí)的Ek_俄歇電子 - Δ
測(cè)量到的Eb_光電子 = 真實(shí)的Eb_光電子 + Δ
α' = (真實(shí)的Ek_俄歇電子 - Δ) + (真實(shí)的Eb_光電子 + Δ)
= 真實(shí)的Ek_俄歇電子+ 真實(shí)的Eb_光電子
故Δ被完全抵消,這使得α'成為一個(gè)絕對(duì)量,不僅不受電荷補(bǔ)償方法或XPS結(jié)合能校正方式的影響,還非常適合進(jìn)行不同實(shí)驗(yàn)室、不同儀器之間的數(shù)據(jù)對(duì)比。
因此,利用α'區(qū)分元素的化學(xué)態(tài)具備顯著優(yōu)勢(shì):
1. 在同一樣品中,同一元素的兩種線能(俄歇和光電子)之間存在著固定的差異,即芯能級(jí)和俄歇峰之間的能量間隔是固定的。
2. 消除任何荷電效應(yīng),因在計(jì)算俄歇參數(shù)時(shí)這些校正會(huì)相互抵消。
3. 可以忽略功函數(shù)校正,真空能級(jí)數(shù)據(jù)(氣相譜)可以直接與費(fèi)米能級(jí)數(shù)據(jù)(固態(tài)譜)進(jìn)行比較。
一系列化合物的俄歇參數(shù)可以直觀地表示為散點(diǎn)圖,其中以芯能級(jí)結(jié)合能(負(fù)方向)為X軸,以俄歇峰動(dòng)能為Y軸,將不同化學(xué)態(tài)的數(shù)據(jù)點(diǎn)繪制在圖上。這樣的散點(diǎn)圖稱為瓦格納圖(Wagner plot)或化學(xué)態(tài)圖,純?cè)氐?nbsp;α′被用作參考值。
圖1. Ni的瓦格納圖(Wagner plot)。(荷電校正以F 1s 的結(jié)合能為685.23 eV作為參考值)[1]
Wagner以化學(xué)狀態(tài)圖的形式,引入了給定元素化合物的發(fā)射光電子的結(jié)合能相對(duì)于相應(yīng)俄歇躍遷的動(dòng)能的關(guān)系。具有相同α'(即相同弛豫能)的樣品點(diǎn)會(huì)落在一條斜率為+1的直線上(原本α'值為斜率為?1的對(duì)角網(wǎng)格,但由于橫坐標(biāo)以負(fù)方向繪制,所以對(duì)角線Ek = - Eb + α'的斜率表現(xiàn)為+1),這條線也被稱為“恒定弛豫能線”。如圖1所示,展示了不同Ni化學(xué)態(tài)下的Ni(2p3/2)結(jié)合能以及Ni(L?M??M??)的俄歇?jiǎng)幽軘?shù)據(jù)。由圖可得,Ni不同物種的Ni 2p3/2、Ni LMM、α'、ΔEb、 ΔEk和Δα'的值如下表所示:
俄歇參數(shù)α′有什么用?
俄歇?jiǎng)幽芪灰仆ǔ1刃灸芗?jí)結(jié)合能位移更大,因此不同化學(xué)態(tài)的數(shù)據(jù)點(diǎn)在圖上會(huì)分得更開,更容易區(qū)分。也因此,α'非常適合區(qū)分結(jié)合能位移非常接近的物種。例如,區(qū)分Cu0,Cu?和Cu2。
圖2. Cu、Cu2O、CuO和Cu(OH)2標(biāo)樣疊加的Cu 2p3(左)和Cu LMM(右) XPS(Al Kα)精細(xì)譜。左圖中批注為光電子的結(jié)合能,右圖中批注為通過(guò)計(jì)算得到的俄歇電子的動(dòng)能。
圖2展示了Cu(Cu0)、Cu2O(Cu?)、CuO(Cu2)和Cu(OH)2(Cu2?)標(biāo)準(zhǔn)樣品的Cu 2p3(左)和Cu LMM(右) XPS精細(xì)譜。顯然,Cu2?在Cu 2p3譜中存在明顯的衛(wèi)星峰(圖中以黑色圓圈標(biāo)記),可憑此區(qū)分Cu2?與低價(jià)Cu。然而,Cu(Cu0)和Cu2O(Cu?)的2p3峰形和結(jié)合能均差別不大,要區(qū)分二者屬實(shí)困難。對(duì)此,可在采譜時(shí)加測(cè)Cu LMM,結(jié)果如圖2-右所示。根據(jù)光電效應(yīng),可計(jì)算得到俄歇電子的動(dòng)能(Ek= hν-Eb;hν為X射線激發(fā)源的能量)。以紅色這組數(shù)據(jù)為例,則俄歇參數(shù)為:
α′ = Ek_ (Cu LMM) + Eb_ (Cu 2p3)
=918.6+932.6
=1851.2 eV
計(jì)算得到α′的值為1851.2 eV,再依據(jù)表1所示的Cu不同物種的α′參考值,因此認(rèn)為紅色數(shù)據(jù)所對(duì)應(yīng)的Cu的化學(xué)態(tài)為Cu0。
表1. Cu不同物種的Cu 2p3/2和俄歇參數(shù)(α′)參考值。
哪些元素的XPS分析需要利用俄歇參數(shù)α′?
可見,α′可作為化合物的XPS化學(xué)態(tài)指紋,應(yīng)用于區(qū)分某些元素在不同化合物中表現(xiàn)出相同或非常相似的結(jié)合能的情況。利用α′輔助判斷化學(xué)態(tài)的常見元素有:Cu、Zn、Ag、Cd、In、Te、F、Na、Al、Si、S、As、Se、Sn等。因此,在做XPS測(cè)試時(shí),若樣品中包含這些元素,可在采譜時(shí)加測(cè)對(duì)應(yīng)的俄歇峰。
值得注意的是,同一元素的俄歇通常包含多個(gè)特征峰。以Cu LMM為例,除常用于計(jì)算俄歇參數(shù)的L?M??M??峰外,同時(shí)還存在L?M??M??、L?M??M??等一系列伴峰。為確保俄歇參數(shù)計(jì)算的準(zhǔn)確性,正確選擇采譜峰位至關(guān)重要。對(duì)于ULVAC-PHI品牌的XPS設(shè)備,一個(gè)簡(jiǎn)便的方法是直接選用其元素原子軌道列表中默認(rèn)的首個(gè)俄歇峰(如圖3所示),該峰通常為用于計(jì)算俄歇參數(shù)的峰。
圖3. 采譜時(shí)增加Cu俄歇峰的方法。
俄歇參數(shù)α′在哪里查找?
由ULVAC-PHI公司出版的《Handbook of X-ray Photoelectron spectroscopy》中詳細(xì)記錄了多個(gè)元素的Wagner plot,包含俄歇參數(shù)、光電子結(jié)合能和俄歇?jiǎng)幽軘?shù)據(jù)等關(guān)鍵信息,為化學(xué)態(tài)的識(shí)別提供了重要的數(shù)據(jù)支持。此外,還可通過(guò)其他數(shù)據(jù)庫(kù)或文獻(xiàn)查找。例如,利用NIST XPS數(shù)據(jù)庫(kù)(https://srdata.nist.gov/xps/intro),可在線查找俄歇參數(shù)。
參考文獻(xiàn)
[1] Mark C. Biesinger, et al., The role of the Auger parameter in XPS studies of nickel metal, halides and oxidesPhys. Chem. Chem. Phys., 2012, 14,2434–2442.
[2] Handbook of X-ray Photoelectron spectroscopy, ULVAC-PHI公司出版。
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