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微透鏡陣列技術(shù)制作存在的缺點(diǎn)

來(lái)源:魔技納米科技有限公司 更新時(shí)間:2023-02-17 14:52:31 閱讀量:1476

       微透鏡陣列在微光學(xué)系統(tǒng)中有著重要而廣泛的應(yīng)用,如可用于光信息處理、光計(jì)算、光互連、光數(shù)據(jù)傳輸、生成二維點(diǎn)光源,也可用于復(fù)印機(jī)、圖像掃描儀、傳真機(jī)、照相機(jī),以及醫(yī)療衛(wèi)生器械中。此外,微透鏡陣列器件也實(shí)現(xiàn)了微型化和集成化,使得其具有很強(qiáng)的適應(yīng)性,可廣泛用于通信、顯示和成像器件當(dāng)中。用于半導(dǎo)體激光器的橢圓形折射微透鏡陣列,能夠?qū)崿F(xiàn)激光器的聚焦與準(zhǔn)直,激光二極管(LD)的光束整形,微透鏡陣列還可用于光纖、光學(xué)集成回路之間,實(shí)現(xiàn)光器件的有效耦合。在光纖通信中,橢圓形微透鏡將來(lái)自自由空間的光耦合進(jìn)光纖,并校準(zhǔn)從光纖出來(lái)的光。

       微透鏡陣列己經(jīng)在原子光學(xué)領(lǐng)域有所應(yīng)用,利用微透鏡陣列做成原子波導(dǎo)、分束器、馬赫一曾德?tīng)柛缮鎯x或利用其捕獲原子或者對(duì)中性原子進(jìn)行量子信息處理。因此對(duì)于微透鏡陣列使用材料,制作工藝和用途方面的研究十分必要。

       然而利用這種技術(shù)制作的微透鏡陣列也存在諸多缺點(diǎn):

       一、由于光刻膠對(duì)于基板材料存在浸潤(rùn)現(xiàn)象,當(dāng)光刻膠在熔融狀態(tài)時(shí)與基板的附著力是一定的,那么當(dāng)熔融光刻膠Z 終成型以后微透鏡球面輪廓與基板之間存在浸潤(rùn)角,使微透鏡的邊緣存在一定的曲率,而中間部分下陷;

       二、一般情況下微透鏡陣列的填充因子不會(huì)超過(guò)80%,而且光刻膠在熔化后容易粘連,相鄰的熔融光刻膠一旦接觸后,不會(huì)形成透鏡的面形。由于填充因子不高,使入射的光不能充分利用,并且會(huì)引起背景噪聲;

       三、由于光刻膠本身的機(jī)械性能和化學(xué)性能比較差,光學(xué)性能也不高,不適于作為Z 終的微透鏡或其他微結(jié)構(gòu)的材料。


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