悉識(shí)科技推出的反射透射測(cè)量雙通道膜厚儀NS-Vista，是針對(duì)薄膜厚度高精度表征的專業(yè)儀器，通過(guò)反射+透射雙通道同步測(cè)量突破單一模式局限，覆蓋納米級(jí)至微米級(jí)寬量程薄膜，適配實(shí)驗(yàn)室研發(fā)、科研表征、工業(yè)檢測(cè)等多場(chǎng)景需求。

一、核心技術(shù)特點(diǎn)

• 雙通道同步測(cè)量：反射與透射通道共享樣品定位系統(tǒng)，無(wú)需移動(dòng)樣品即可完成雙模式數(shù)據(jù)采集，避免位移誤差，測(cè)量重復(fù)性≤0.1%F.S.；
• 寬量程整合：反射模式覆蓋1nm~500μm，透射模式覆蓋5nm~1000μm，可測(cè)半導(dǎo)體超薄膜（如SiO?）至光伏厚膜（如玻璃鍍膜）；
• 分段高精度：針對(duì)不同量程優(yōu)化算法，1nm~100nm量程精度達(dá)±0.1nm，100nm以上量程精度≤±0.5%讀數(shù)，滿足科研級(jí)表征；
• 非接觸無(wú)損：采用光學(xué)干涉原理（反射為激光/白光干涉，透射為光譜干涉），無(wú)樣品接觸損傷，適配柔性薄膜、易碎樣品；
• 智能校準(zhǔn)與溯源：內(nèi)置自動(dòng)校準(zhǔn)程序（可溯源至國(guó)家計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)），支持CSV數(shù)據(jù)導(dǎo)出，適配實(shí)驗(yàn)室LIMS系統(tǒng)對(duì)接。

二、關(guān)鍵參數(shù)列表

1. 反射通道參數(shù)

• 測(cè)量范圍：1nm ~ 500μm
• 精度：±0.1nm（1nm~100nm）；±0.5%讀數(shù)（100nm~500μm）
• 重復(fù)性：≤0.1%F.S.
• 光源：可選633nm He-Ne激光 / 405nm LED（白光干涉）
• 光斑直徑：最小20μm（激光模式）

2. 透射通道參數(shù)

• 測(cè)量范圍：5nm ~ 1000μm
• 精度：±0.2nm（5nm~200nm）；±0.8%讀數(shù)（200nm~1000μm）
• 重復(fù)性：≤0.2%F.S.
• 樣品透過(guò)率要求：≥5%（厚膜）

3. 通用參數(shù)

• 樣品尺寸：最大200mm×200mm（可定制300mm晶圓適配）
• 測(cè)量時(shí)間：<1s/單點(diǎn)
• 工作環(huán)境：10℃~35℃（濕度≤80%RH，無(wú)凝露）
• 電源：AC 220V±10%，50Hz/60Hz
• 尺寸：450mm（寬）×350mm（深）×500mm（高）
• 重量：約30kg

三、典型應(yīng)用場(chǎng)景

• 實(shí)驗(yàn)室研發(fā)：半導(dǎo)體（SiO?、SiNx、金屬薄膜）、光學(xué)（AR增透膜、反射鏡）、納米材料（量子點(diǎn)、二維材料）厚度表征；
• 科研機(jī)構(gòu)：高校/研究所納米薄膜結(jié)構(gòu)-性能關(guān)聯(lián)研究，滿足ISO 2360、JIS K 5600等國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)；
• 工業(yè)檢測(cè)：光伏（PERC電池鈍化層）、顯示面板（OLED柔性膜、TFT鍍膜）、包裝（阻隔膜）厚度在線/離線檢測(cè)；
• 第三方檢測(cè)：薄膜產(chǎn)品合規(guī)性檢測(cè)，數(shù)據(jù)可溯源，支持CMA/CNAS報(bào)告出具。

NS-Vista通過(guò)雙通道整合與高精度算法，填補(bǔ)了單一膜厚儀的量程與模式局限，為薄膜領(lǐng)域從業(yè)者提供一站式測(cè)量解決方案，適配多行業(yè)需求，是實(shí)驗(yàn)室與工業(yè)檢測(cè)的可靠工具。