-高頻感應(yīng)加熱熔樣機(jī)認(rèn)知誤區(qū)

在X射線熒光光譜分析中，玻璃熔融法制樣技術(shù)由于完全消除了樣品的礦物效應(yīng)和粒度效應(yīng)，樣品被熔劑稀釋后又能一定程度的降低共存元素引起的基體效應(yīng)，自1956年被發(fā)現(xiàn)以后，該技術(shù)經(jīng)過多年逐漸發(fā)展并成熟，現(xiàn)在已被全世界的大量實(shí)驗(yàn)室采用，成為X射線熒光光譜分析中的兩大樣品制備方法之一。

早期玻璃熔融法制片常借助于燃?xì)鉄艋蝰R弗爐，現(xiàn)在已經(jīng)有大量的專業(yè)性強(qiáng)，自動(dòng)化程度高的熔樣機(jī)所取代。目前常用的熔樣機(jī)按照加熱方法分為：燃?xì)饧訜?、電阻輻射加熱和高頻感應(yīng)加熱三種。其中由于燃?xì)饧訜崾饺蹣訖C(jī)由于對(duì)實(shí)驗(yàn)室硬件要求過高（需要配套穩(wěn)定的燃?xì)饩€路），且高熱值燃?xì)饩哂幸欢ǖ奈ｋU(xiǎn)性，在此不做討論。

高頻感應(yīng)加熱式熔樣機(jī)（簡稱“高頻熔樣機(jī)”）原理是高頻電流通過線圈產(chǎn)生的磁場(chǎng)使坩堝自身電阻產(chǎn)生焦耳熱，從而使坩堝自身發(fā)熱達(dá)到熔樣的目的。

電阻輻射加熱式熔樣機(jī)（簡稱“電熱熔樣機(jī)”）原理是采用鎳鉻鉬電阻絲、硅碳棒或硅鉬棒，靠電熱輻射加熱達(dá)到熔樣的目的。

由于高頻熔樣機(jī)當(dāng)前使用相對(duì)較少，目前在認(rèn)知上有以下幾大誤區(qū)，我們將對(duì)比電熱熔樣機(jī)做對(duì)應(yīng)說明：

一、溫控精度不能滿足要求：和電熱熔樣機(jī)（Z高控溫達(dá)±0.1℃）相比，高頻熔樣機(jī)在溫控精度上的確不占優(yōu)勢(shì)。但是目前紅外測(cè)溫的應(yīng)用，已經(jīng)不需要再采用老式的接觸測(cè)溫，溫控精度也越來越高，特別是瑞紳葆FHC-00型高頻熔樣機(jī)已能達(dá)到±1℃。在實(shí)際熔樣溫度普遍1000度以上的情況下，已經(jīng)能夠滿足日常制樣需要。

二、每個(gè)工位溫度不一致：這是由于部分廠家高頻熔樣機(jī)參照電熱熔樣機(jī)的加熱及控溫系統(tǒng)都采用串聯(lián)方式，導(dǎo)致沒有準(zhǔn)確測(cè)量各個(gè)工位溫度，目前瑞紳葆FHC-00型高頻熔樣機(jī)各個(gè)工位均采用獨(dú)立加熱，獨(dú)立測(cè)溫，真實(shí)反饋工位實(shí)際溫度。

三、不適合大批量制樣：這是由于多工位會(huì)導(dǎo)致兩頭以上的高頻熔樣溫度可能不一致，現(xiàn)有的高頻熔樣多是兩工位，與電熱熔樣機(jī)的四工位甚至是六工位比是效率低。實(shí)際上解決了工位溫度控制問題，也就解決了這個(gè)問題，目前瑞紳葆FHC-00型高頻熔樣機(jī)Z高能做到六工位，結(jié)合高頻熔樣本身升溫速度快的優(yōu)點(diǎn)，可以達(dá)到10min/批。

四、坩堝易壞：高頻加熱坩堝易壞這種說法不正確，實(shí)際上坩堝損壞主要是被樣品中氧化性物質(zhì)腐蝕，可以提前熟悉樣品性質(zhì)，通過預(yù)氧化來減少氧化損壞，同時(shí)瑞紳葆FHC-00型高頻熔樣機(jī)采用澆筑法來盡可能的保護(hù)坩堝。

五、支架掉渣：掉渣主要是合金支架氧化導(dǎo)致的，但是目前瑞紳葆FHC-00型高頻熔樣機(jī)和電熱熔樣機(jī)相比，已經(jīng)在使用高溫陶瓷替換高溫合金來做為支架。完全可以避免合金支架氧化掉渣污染樣品的情況出現(xiàn)。

六、需要外循環(huán)水：和電熱熔樣機(jī)相比，高頻熔樣高頻熔樣需要配套循環(huán)水，但目前可以通過配套特制小型水冷機(jī)，一次加入純凈水可以長時(shí)間使用，完全不需要外接循環(huán)水。

實(shí)際上，高頻熔樣機(jī)與電熱熔樣機(jī)相比效率更高、速度更快、無需預(yù)熱、即開即用，自動(dòng)化程度更高、操作更簡單、制樣速度更快、使用成本更低，完全符合目前提倡的節(jié)能、降耗、減排的環(huán)保要求，是應(yīng)提倡的一種加熱方式。