半導體芯片、半導體材料以及半導體器件制造過程中如果有痕量元素污染會影響硅片性能從而導致缺陷，因此在晶圓制造過程中都需要使用超純水和高純度化學品以Z大程度降低污染，在對應控制實驗室也要求使用超純水對半導體行業(yè)中所用的高純化學品進行超痕量分析，為了保證檢測結(jié)果，需要低背景超純水。
將零雜質(zhì)做到”極致”
對痕量分析、高靈敏度分析產(chǎn)生影響的超純水水質(zhì)，超純水的質(zhì)量影響微量分析和高靈敏度分析。無限純凈的“H2O"，電阻率 18.2MΩ?cm，TOC≦1ppb，二氧化硅<0.1ppb，硼<10ppt。采用高品質(zhì)下一代超純水離子交換樹脂。
將多用途做到“極致”
為了能夠無污染地使用超純水，功能方面也做到了極致。采用可進行單滴取水的高性能取水器，可做到定量取水、腳踏開關(guān)水采樣。
將高配置做到“極致“
考慮到實驗室的安裝環(huán)境，簡單是Z好的！純水水箱內(nèi)置的一體機包裝，無需多余架臺。 裝置附有腳輪，易于移動和搬遷。
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