- 2025-05-20 13:27:42離子束研磨
- 離子束研磨是一種高精度的材料加工技術(shù),利用聚焦的離子束對(duì)樣品表面進(jìn)行物理濺射,從而實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的研磨和拋光。該技術(shù)具有加工精度高、表面損傷小、可控性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)元件、材料科學(xué)等領(lǐng)域的樣品制備和表面改性。通過(guò)精確控制離子束的能量、束流和掃描路徑,可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜形狀和微小結(jié)構(gòu)的精細(xì)加工。
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離子束研磨相關(guān)內(nèi)容
離子束研磨資訊
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- 非聚焦離子束研磨為EBSD分析進(jìn)行高質(zhì)量樣本制備
- 本文中,我們介紹了使用EBSD高效拋光兩個(gè)通過(guò)非聚焦離子束研磨制備的高難度樣本的案例。
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- 離子束研磨制備電池組件橫截面(鋰電池與鉛酸電池柵板)
- 鋰電池組件分步制備方案——包括機(jī)械預(yù)處理和離子束拋光,并使用徠卡顯微系統(tǒng)EM TXP 和 EM TIC 3X進(jìn)行高質(zhì)量掃描電鏡分析。
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- 非聚焦離子束研磨的實(shí)踐應(yīng)用
- 相比其他系統(tǒng),它的擋板對(duì)齊方式也更適合我們的需求。使用EM TIC3X時(shí),無(wú)需接觸樣本便可調(diào)整樣品與擋板之間的相對(duì)位置,這一點(diǎn)對(duì)我們來(lái)說(shuō)至關(guān)重要。
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- 使用旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)進(jìn)行三離子束氬離子研磨,修飾巖鹽中的晶界和亞結(jié)構(gòu)
- 使用鹽水或水的化學(xué)蝕刻,或著伽馬輻照法,是暴露巖鹽中晶界和亞結(jié)構(gòu)的常用方法。本文中,我們提出使用徠卡EM?TIC?3X旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),進(jìn)行氬離子拋光和對(duì)比度增強(qiáng),來(lái)修飾巖鹽中微結(jié)構(gòu)的方法。
離子束研磨文章
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- 儀器介紹 | 徠卡TXP精研一體機(jī)
- 在傳統(tǒng)的制樣方法中,針對(duì)目標(biāo)區(qū)域進(jìn)行定點(diǎn)切割、研磨或者拋光等通常是一項(xiàng)耗時(shí)耗力困難的工作,因?yàn)槟繕?biāo)區(qū)域極易丟失或由于目標(biāo)尺寸太小而難以處理。針對(duì)此類(lèi)樣品,使用徠卡的精研一體機(jī)EM TXP可以輕易地處理
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- 【鋰電池電鏡制樣方法專(zhuān)題】鋰電池材料的內(nèi)部結(jié)構(gòu)研究手段,你選對(duì)了嗎?(一)
- 在接下來(lái)的內(nèi)容中,我們會(huì)先后介紹徠卡制樣設(shè)備在正極材料,負(fù)極材料,隔膜材料,固態(tài)電池等方面案例。
離子束研磨產(chǎn)品
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- 離子束研磨儀 Leica EM RES102徠卡多功能離子束研磨儀
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- 離子束刻蝕機(jī)
- 國(guó)外 美洲
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
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- 鼎竑 GU-AI9000 離子束研磨儀/離子束減薄儀
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上海睿測(cè)電子科技有限公司
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- 鼎竑 GU-AI8000 離子束研磨儀/離子束減薄儀
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上海睿測(cè)電子科技有限公司
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- Nano-Master離子束刻蝕系統(tǒng)NIE-4000
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
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離子束研磨問(wèn)答
- 2022-11-25 16:10:30離子束刻蝕(IBE)技術(shù)研究
- 離子束刻蝕(IBE)技術(shù)研究 1.離子束刻蝕(IBE)技術(shù)的原理?離子束刻蝕(IBE,Ion Beam Etching)也稱(chēng)為離子銑(IBM,Ion Beam Milling),也有人稱(chēng)之為離子濺射刻蝕,是利用輝光放電原理將氬氣分解為氬離子,氬離子經(jīng)過(guò)陽(yáng)極電場(chǎng)的加速對(duì)樣品表面進(jìn)行物理轟擊,以達(dá)到刻蝕的作用。刻蝕過(guò)程即把Ar氣充入離子源放電室并使其電離形成等離子體,然后由柵極將離子呈束狀引出并加速,具有一定能量的離子束進(jìn)入工作室,射向固體表面轟擊固體表面原子,使材料原子發(fā)生濺射,達(dá)到刻蝕目的,屬純物理刻蝕。工件表面有制備溝槽的掩膜,最后裸露的部分就會(huì)被刻蝕掉,而掩膜部分則被保留,形成所需要的溝槽圖形。離子束刻蝕使高方向性的中性離子束能夠控制側(cè)壁輪廓,優(yōu)化納米圖案化過(guò)程中的徑向均勻性和結(jié)構(gòu)形貌。另外傾斜結(jié)構(gòu)可以通過(guò)傾斜樣品以改變離子束的撞擊方向這一獨(dú)特能力來(lái)實(shí)現(xiàn)。在離子束刻蝕過(guò)程中,通常情況下,樣品表面采用厚膠作為掩模層,刻蝕期間富有能量的離子流會(huì)使得基片和光刻膠過(guò)熱。為了便于后面光刻膠的剝離清洗,一般需要對(duì)樣品臺(tái)進(jìn)行冷卻處理,使整個(gè)刻蝕過(guò)程中溫度控制在一個(gè)比較好的范圍。 圖1 離子束刻蝕設(shè)備結(jié)構(gòu)圖圖2 離子束刻蝕工藝原理圖 2.離子束刻蝕(IBE)適合的材料體系?可用于刻蝕加工各種金屬(Ni、Cu、Au、Al、Pb、Pt、Ti等)及其合金,以及非金屬、氧化物、氮化物、碳化物、半導(dǎo)體、聚合物、陶瓷、紅外和超導(dǎo)等材料。目前離子束刻蝕在非硅材料方面優(yōu)勢(shì)明顯,在聲表面波、薄膜壓力傳感器、紅外傳感器等方面具有廣泛的用途。 3. 離子束刻蝕(IBE)技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)?a 優(yōu)點(diǎn): (1)方向性好、無(wú)鉆蝕、陡直度高; (2)刻蝕速率可控性好,圖形分辨率高,可達(dá)0.01um; (3)屬于物理刻蝕,可以刻蝕各種材料(Si、SiO2、GaAs、Ag、Au、光刻膠等); (4)刻蝕過(guò)程中可改變離子束入射角來(lái)控制圖形輪廓,加工特殊的結(jié)構(gòu);b 缺點(diǎn): (1)刻蝕速率慢、效率比ICP更低; (2)難以完成晶片的深刻蝕; (3)屬于物理刻蝕,常常會(huì)有過(guò)刻的現(xiàn)象。 4.反應(yīng)離子束刻蝕(RIBE)技術(shù)簡(jiǎn)介及優(yōu)點(diǎn)?反應(yīng)離子束刻蝕(RIBE)是在離子束刻蝕的基礎(chǔ)上,增加了腐蝕性氣體,因此它不但保留了離子束物理刻蝕能力,還增加了腐蝕性氣體(氟基氣體、O2)離化后對(duì)樣品的化學(xué)反應(yīng)能力(反應(yīng)離子束刻蝕:RIBE),也支持腐蝕性氣體非離化態(tài)的化學(xué)輔助刻蝕能力(化學(xué)輔助離子束刻蝕:CAIBE),對(duì)適用于化學(xué)輔助的材料可以大幅度提升刻蝕速率,提高刻蝕質(zhì)量。 5. 離子束刻蝕(IBE)的案例展示 典型應(yīng)用:1、三族和四族光學(xué)零件2、激光光柵3、高深寬比的光子晶體刻蝕4、在二氧化硅、硅和金屬上深溝刻蝕5、微流體傳感器電極6、測(cè)熱式微流體傳感器
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- 2022-08-16 21:44:30福州大學(xué)離子束刻蝕機(jī)順利驗(yàn)收
- 福州大學(xué)離子束刻蝕機(jī)順利驗(yàn)收烈日炎炎,熱情滿(mǎn)心間!后疫情時(shí)代,NANO-MASTER工程師步履不停,一站接一站為客戶(hù)提供設(shè)備安裝調(diào)試服務(wù)。首站福州大學(xué),那諾-馬斯特工程師已順利安裝驗(yàn)收NIE-3500型離子束刻蝕機(jī)!性能配置:離子束刻蝕機(jī)用于刻蝕金屬和介質(zhì),z大可支持6”晶圓。配套美國(guó)考夫曼-羅賓遜 KDC160離子槍?zhuān)?50mA,100-1200V??涛g速率:~250A/min對(duì)Au;刻蝕均勻度:對(duì)4”片,片內(nèi)均勻性?xún)?yōu)于±3%,重復(fù)性?xún)?yōu)于±3%。樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速0-30RPM精確可控;可任意角度傾斜,支持斜齒刻蝕;帶水冷功能,刻蝕后易去除光刻膠。極限真空12小時(shí)可達(dá)6x10-7Torr,15分鐘可達(dá)10-6Torr量級(jí)的真空;采用雙真空計(jì),長(zhǎng)期可靠,使用穩(wěn)定。14”不銹鋼立方腔體,配套一臺(tái)主控計(jì)算機(jī),20”觸摸屏監(jiān)控,配合Labview軟件,實(shí)現(xiàn)計(jì)算機(jī)全自動(dòng)工藝控制,并可在電源中斷情況下安全恢復(fù);完全的安全聯(lián)鎖;支持百級(jí)超凈間使用。驗(yàn)收培訓(xùn):安裝調(diào)試視頻:
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- 2023-02-01 17:28:41高通量組織研磨儀!助力生物樣品研磨實(shí)驗(yàn)!
- 有用戶(hù)講高通量組織研磨儀設(shè)備實(shí)驗(yàn)室用的少,其實(shí)主要是你沒(méi)有看到,你往農(nóng)業(yè)領(lǐng)域去看看,對(duì)種子等樣品的研磨基本都是應(yīng)用的高通量多樣品組織研磨儀,說(shuō)起這組織研磨儀,那就不得不提提他應(yīng)用的特點(diǎn)有哪些了,真的是讓人超助力! 高通量組織研磨儀采用上下垂直高速振蕩模式,可快速促進(jìn)細(xì)胞快速破碎、細(xì)胞裂解、組織均勻,使樣品研磨更加均勻;對(duì)樣品研磨的重復(fù)性更好,樣品間無(wú)交叉污染,節(jié)省時(shí)間和人工成本,是一種高通量、高效率、高效率的樣品預(yù)處理技術(shù)。其還具有冷凍組件,可滿(mǎn)足用戶(hù)研磨和保存溫度敏感樣品的需求?! 「咄拷M織研磨儀儀應(yīng)用性能: 1、超高通量組織研磨儀一次可處理多個(gè)樣品 2、超高效率處理,利用垂直振蕩研磨技術(shù),可在短時(shí)間內(nèi)完成困難樣品研磨、均質(zhì) 3、高均一性,批量處理樣品,程序化處理機(jī)制,均一性、重復(fù)性更好 4、更人性化,可調(diào)角度彩色觸摸顯示屏,可編輯、調(diào)用、存儲(chǔ)500種方法 5、適用性廣,程序可調(diào),更多研磨瓶、研磨介質(zhì)可供選擇,完美契合不同樣品研磨、混勻需求 6、安全可靠,雙重門(mén)鎖,研磨過(guò)程更安全;設(shè)置保密程序,限制查看特定方法 7、適用于對(duì)多種樣品的干磨、濕磨、冷凍研磨 8、分隔設(shè)計(jì),使用封閉式的專(zhuān)用研磨罐或一次性的離心管,避免樣品交叉污染?! 「咄拷M織研磨儀那獨(dú)特的水平?jīng)_擊研磨原理可使其樣品的研磨效果更好;如果采用冷凍操作,樣品研磨和核酸提取都沒(méi)有問(wèn)題;該高通量組織研磨儀的研磨范圍廣,使用封閉樣品管不產(chǎn)生交叉污染,更安全,其樣品的實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)確率更高。另外,該高通量組織研磨儀不只只是應(yīng)用在農(nóng)業(yè)領(lǐng)域,在生物醫(yī)藥、地質(zhì)、法醫(yī)、食品、冶金、化工、環(huán)境、質(zhì)檢、高校等各行各業(yè)均有應(yīng)用,對(duì)生物樣品的研磨,那也是可圈可點(diǎn)的。
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- 2022-07-01 16:20:03液氮冷凍研磨機(jī)的低溫研磨,具有哪些研磨特點(diǎn)
- 液氮冷凍研磨機(jī)設(shè)備也就是我們所說(shuō)的冷凍研磨機(jī),它可是一款能夠?qū)Χ喾N樣品進(jìn)行研磨粉碎的樣品前處理設(shè)備,比起傳統(tǒng)研磨,該研磨設(shè)備可是給我們的樣品研磨前處理實(shí)驗(yàn)帶了很多的應(yīng)用特點(diǎn)。液氮冷凍研磨機(jī)采用電磁碰撞振蕩技術(shù),利用電磁的往復(fù)高速驅(qū)動(dòng)碰撞振蕩沖擊樣品,使其動(dòng)能慣性增大,實(shí)現(xiàn)大面積的高動(dòng)能碰撞,以至于可高速?zèng)_擊破碎樣品,實(shí)現(xiàn)快速研磨,其對(duì)樣品的研磨結(jié)果可比傳統(tǒng)球磨機(jī)的更加精細(xì),粉碎速度更快。在樣品研磨粉碎的過(guò)程中,其樣品是處于液氮溫度下的,在低溫下樣品可變脆,再加上高速的來(lái)回撞擊,可快速磨成粉末。像一些熱敏性、任性較大的樣品或是在室溫下難于研磨的樣品,都可采取此種方法進(jìn)行研磨。把樣品的裝入密閉容器中,將其浸入液氮環(huán)境中;在低溫環(huán)境下,采用電磁驅(qū)動(dòng)鋼撞擊器對(duì)樣品進(jìn)行往復(fù)撞擊,可使得樣品迅速?gòu)氐追鬯?。與傳統(tǒng)研磨方法相比,具有研磨時(shí)間更短,研磨樣品更精細(xì)的研磨特點(diǎn)。冷凍研磨機(jī)初了可對(duì)動(dòng)植物樣品組織中提取核酸、蛋白質(zhì)和其他成分。另外,它還能粉碎酵母菌,培養(yǎng)動(dòng)物細(xì)胞和細(xì)菌細(xì)胞,從而提取其樣品成分;且該樣品具有良好的重復(fù)性,其之間沒(méi)有交叉污染,還可使樣品研磨更加均勻、充分。除去這些,該研磨設(shè)備還能夠高通量研磨樣品,還適用于各種尺寸樣品的研磨;可確保樣品研磨的重現(xiàn)性、有效性和可比性,且對(duì)樣品研磨的時(shí)間非常短,還適用于大批量樣品同時(shí)研磨操作哦。
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- 2023-06-16 14:57:45【好詞多“磨”】— 研磨的藝術(shù)系列
- 每周知識(shí)小百科Weekly Share弗爾德每周知識(shí)小百科旨在分享材料科學(xué)領(lǐng)域的科普知識(shí),探索未知,激發(fā)熱情。每周一小步,材料科學(xué)發(fā)展一大步。Retsch研磨設(shè)備擇合適研磨設(shè)備所需要考量的方向:樣品的硬度和破碎表現(xiàn) 研磨設(shè)備的材質(zhì)一定要比樣品硬度更高才能避免磨損。例如,石英砂樣品可以用氧化鋯但不能用瑪瑙材質(zhì)研磨。耐磨性耐磨性是物質(zhì)的耐磨能力。氮化物和氮化硅就非常耐磨,同時(shí)樣品的性質(zhì)和進(jìn)樣尺寸也會(huì)影響設(shè)備耐磨性。研磨中的可能污染物理研磨過(guò)程中必然有磨損,因此研磨工具的材質(zhì)一定要被考慮到是否會(huì)造成樣品的污染和影響到后續(xù)分析(例如不銹鋼可能會(huì)帶入鉻和鎳元素,會(huì)影響重金屬分析)陶瓷類(lèi)(氧化鋯,氧化鋁,硬瓷,氮化硅)。能量輸出球磨和振動(dòng)盤(pán)磨儀的能級(jí)輸出和研磨材質(zhì)有密切關(guān)系,例如碳化鎢的研磨球就會(huì)有很高的能量輸出值,最 終導(dǎo)致研磨效果很好。這是由于同樣尺寸的研磨工具,密度高就會(huì)有更高的輸出能值。土壤樣品做鐵、鉻和鈷元素的分析時(shí),硬質(zhì)鋼和不銹鋼材質(zhì)都不適合選作研磨工具;水泥塊樣品做鈣和二氧化硅分析時(shí),不銹鋼材質(zhì)就很適合選作研磨工具; 聚四氟乙烯、氧化鋯、氮化硅和玻璃都可以做滅菌處理,因此都很適合做食品和微生物樣品處理;醫(yī)藥產(chǎn)品可以選用陶瓷或瑪瑙研磨工具以避免樣品的污染。
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