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2025-01-21 09:33:05無(wú)需掩膜板: “無(wú)需掩膜板”技術(shù)是指在微納加工、光刻等領(lǐng)域中，無(wú)需使用傳統(tǒng)掩膜板（或光罩）就能實(shí)現(xiàn)圖案化的一種技術(shù)。它主要通過(guò)直接激光寫(xiě)入、電子束光刻或自組裝等方法，在材料表面直接形成所需圖案。該技術(shù)簡(jiǎn)化了工藝流程，提高了加工靈活性，降低了成本，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、生物芯片制備及微納器件研發(fā)等領(lǐng)域。

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無(wú)掩膜直寫(xiě)光刻系統(tǒng)助力范德華異質(zhì)結(jié)構(gòu)器件制備

 Quantum Design中國(guó)子公司 306
2024-01-16
無(wú)掩膜光刻無(wú)需掩膜板光刻機(jī)

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無(wú)需掩膜板問(wèn)答

2022-06-06 11:42:37氮?dú)獍l(fā)生器原理采用中空纖維膜法（無(wú)需“加液” ）: 兩種或兩種以上的氣體混合通過(guò)高分子膜時(shí),由于各種氣體在膜中的溶解度和擴(kuò)散系數(shù)的差異,導(dǎo)致不同氣體在膜中相對(duì)滲透速率有所不同。根據(jù)這一特性，可將氣體分為“快氣”和“慢氣”。當(dāng)混合氣體在驅(qū)動(dòng)力---膜兩側(cè)壓差的作用下，滲透速率相對(duì)較快的氣體和水、氧、二氧化碳等透過(guò)膜后在膜滲透?jìng)?cè)被富集，而滲透速率相對(duì)較慢的氣體如氮?dú)狻⒁谎趸?、氬氣等則在滯留側(cè)被富集，從而達(dá)到混合氣體分離之目的。當(dāng)以加壓凈化空氣為氣源時(shí)，氮?dú)獾榷栊詺怏w被富集成高純度供生產(chǎn)應(yīng)用，由滲透?jìng)?cè)排空的為富氧空氣。氮膜系統(tǒng)可將廉價(jià)的空氣中氮從78%提高到95%以上，*高可得到99.9%的純氮。該氮?dú)獍l(fā)生器可以用于氣相色譜儀做載氣，分析組分成分要求不高的行業(yè)。

2023-06-14 16:49:45無(wú)掩膜直寫(xiě)光刻系統(tǒng)助力二維材料異質(zhì)結(jié)構(gòu)電輸運(yùn)性能研究，意大利: 期刊：ACS NanoIF：18.027文章鏈接: https://doi.org/10.1021/acsnano.1c09131 【引言】 MoS2是一種典型的二維材料，也是電子器件的重要組成部分。研究者發(fā)現(xiàn)，當(dāng)MoS2與石墨烯接觸會(huì)產(chǎn)生van der Waals作用，使之具有良好的電學(xué)特性，可廣泛應(yīng)用于各類柔性電子器件、光電器件、傳感器件的研究。然而，MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)背后的電輸運(yùn)機(jī)理尚不明確。這主要是因?yàn)閭鹘y(tǒng)器件只有兩個(gè)接觸點(diǎn)，不能將MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)產(chǎn)生的電學(xué)輸運(yùn)特性與二維材料自身的電學(xué)特性所區(qū)分。此外，電荷轉(zhuǎn)移、應(yīng)變、電荷在缺陷處被俘獲等因素也會(huì)對(duì)器件的電輸運(yùn)性能產(chǎn)生影響，進(jìn)一步提高了相關(guān)研究的難度。盡管已有很多文獻(xiàn)報(bào)道MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)的電輸運(yùn)性能，但這些研究主要基于理論計(jì)算，缺乏對(duì)MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)的電輸運(yùn)性能在場(chǎng)效應(yīng)器件中的實(shí)驗(yàn)研究。【成果簡(jiǎn)介】 2021年，意大利比薩大學(xué)Ciampalini教授課題組利用小型臺(tái)式無(wú)掩膜直寫(xiě)光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3 制備出基于MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)的多場(chǎng)效應(yīng)管器件，在場(chǎng)效應(yīng)管器件中直接測(cè)量了MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)的電輸運(yùn)特性。通過(guò)比較MoS2的跨導(dǎo)曲線和石墨烯的電流電壓特性，發(fā)現(xiàn)在n通道的跨導(dǎo)輸運(yùn)被抑制，這一現(xiàn)象明顯不同于傳統(tǒng)對(duì)場(chǎng)效應(yīng)的認(rèn)知。借助第一性原理計(jì)算發(fā)現(xiàn)這一獨(dú)特的輸運(yùn)抑制現(xiàn)象與硫空位相關(guān)。本文中所使用的小型臺(tái)式無(wú)掩膜直寫(xiě)光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3無(wú)需掩膜版，可在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。設(shè)備采用集成化設(shè)計(jì)，全自動(dòng)控制，可靠性高，操作簡(jiǎn)便，同時(shí)其還具備結(jié)構(gòu)緊湊（70cm X 70cm X 70cm）、高直寫(xiě)速度，高分辨率（XY：

2022-03-29 10:34:5296孔板用封板膜的制作方法: 　　96孔板用封板膜的制作方法　　技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：　　本實(shí)用新型主要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種96孔板用封板膜，在120℃高溫下防水、防蒸發(fā)性能優(yōu)異，多次揭除不易發(fā)生卷曲，密封性佳?！　榻鉀Q上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用的一個(gè)技術(shù)方案是：一種96孔板用封板膜，包括依次設(shè)置的防水層、基材層、防蒸發(fā)層和粘合層，所述防水層和所述基材層之間設(shè)有第一粘接層，所述基材層和所述防蒸發(fā)層之間設(shè)有第二粘接層，所述防水層、第一粘接層、基材層、第二粘接層、防蒸發(fā)層和粘合層之間通過(guò)整體壓制而成;　　所述封板膜的總厚度為100-145μm，其中，所述防水層的厚度為20-30μm，所述粘接層的厚度為5-10μm，所述基材層的厚度為40-50μm，所述第二粘接層的厚度為5-10μm，所述防蒸發(fā)層的厚度為20-30μm，所述粘合層的厚度為10-15μm。　　本實(shí)用新型為解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的進(jìn)一步技術(shù)方案是：　　進(jìn)一步地說(shuō)，所述防水層為超支化聚氨酯防水層?！　∵M(jìn)一步地說(shuō)，所述基材層為聚丙烯膜層?！　∵M(jìn)一步地說(shuō)，所述防蒸發(fā)層為陶瓷粉層?！　∵M(jìn)一步地說(shuō)，所述粘合層為丙烯酸樹(shù)脂和醋酸乙烯樹(shù)脂粘合層。　　進(jìn)一步地說(shuō)，所述第一粘接層為硅樹(shù)脂基壓敏膠層?！　∵M(jìn)一步地說(shuō)，所述第二粘接層為硅樹(shù)脂基壓敏膠層?！　∵M(jìn)一步地說(shuō)，還包括離型層，所述離型層貼合于所述粘合層，所述粘合層位于所述防蒸發(fā)層和所述離型層之間?！　∵M(jìn)一步地說(shuō)，所述離型層為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯離型層?！　∵M(jìn)一步地說(shuō)，所述封板膜的總厚度為120μm，其中，所述防水層的厚度為20μm，所述粘接層的厚度為10μm，所述基材層的厚度為50μm，所述第二粘接層的厚度為10μm，所述防蒸發(fā)層的厚度為20μm，所述粘合層的厚度為10μm?！　】偨Y(jié)：　　本實(shí)用新型公開(kāi)了一種96孔板用封板膜，包括依次設(shè)置的防水層、基材層、防蒸發(fā)層和粘合層，所述防水層和所述基材層之間設(shè)有第一粘接層，所述基材層和所述防蒸發(fā)層之間設(shè)有第二粘接層，所述防水層、粘接層、基材層、第二粘接層、防蒸發(fā)層和粘合層之間通過(guò)整體壓制而成;所述封板膜的總厚度為100?145μm，其中，所述防水層的厚度為20?30μm，所述第一粘接層的厚度為5?10μm，所述基材層的厚度為40?50μm，所述第二粘接層的厚度為5?10μm，所述防蒸發(fā)層的厚度為20?30μm，所述粘合層的厚度為10?15μm。本實(shí)用新型在120℃高溫下防水、防蒸發(fā)性能優(yōu)異，多次揭除不易發(fā)生卷曲，密封性佳。　　96孔板用封板膜的制作方法，先和大家介紹到這，如果想要了解更多封板膜的信息，可以關(guān)注天津本生生物，專業(yè)給生物行業(yè)客戶提供生物實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)耗材，歡迎廣大客戶來(lái)詢。

2023-06-29 10:11:54無(wú)掩膜直寫(xiě)光刻系統(tǒng)助力二維材料異質(zhì)結(jié)構(gòu)電輸運(yùn)性能研究，意大利科學(xué)家揭秘其機(jī)理！: 期刊：ACS NanoIF：18.027文章鏈接: https://doi.org/10.1021/acsnano.1c09131引言MoS2是一種典型的二維材料，也是電子器件的重要組成部分。研究者發(fā)現(xiàn)，當(dāng)MoS2與石墨烯接觸會(huì)產(chǎn)生van der Waals作用，使之具有良好的電學(xué)特性，可廣泛應(yīng)用于各類柔性電子器件、光電器件、傳感器件的研究。然而，MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)背后的電輸運(yùn)機(jī)理尚不明確。這主要是因?yàn)閭鹘y(tǒng)器件只有兩個(gè)接觸點(diǎn)，不能將MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)產(chǎn)生的電學(xué)輸運(yùn)特性與二維材料自身的電學(xué)特性所區(qū)分。此外，電荷轉(zhuǎn)移、應(yīng)變、電荷在缺陷處被俘獲等因素也會(huì)對(duì)器件的電輸運(yùn)性能產(chǎn)生影響，進(jìn)一步提高了相關(guān)研究的難度。盡管已有很多文獻(xiàn)報(bào)道MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)的電輸運(yùn)性能，但這些研究主要基于理論計(jì)算，缺乏對(duì)MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)的電輸運(yùn)性能在場(chǎng)效應(yīng)器件中的實(shí)驗(yàn)研究。成果簡(jiǎn)介2021年，意大利比薩大學(xué)Ciampalini教授課題組利用小型臺(tái)式無(wú)掩膜直寫(xiě)光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3 制備出基于MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)的多場(chǎng)效應(yīng)管器件，在場(chǎng)效應(yīng)管器件中直接測(cè)量了MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)的電輸運(yùn)特性。通過(guò)比較MoS2的跨導(dǎo)曲線和石墨烯的電流電壓特性，發(fā)現(xiàn)在n通道的跨導(dǎo)輸運(yùn)被抑制，這一現(xiàn)象明顯不同于傳統(tǒng)對(duì)場(chǎng)效應(yīng)的認(rèn)知。借助第一性原理計(jì)算發(fā)現(xiàn)這一獨(dú)特的輸運(yùn)抑制現(xiàn)象與硫空位相關(guān)。本文中所使用的小型臺(tái)式無(wú)掩膜直寫(xiě)光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3無(wú)需掩膜版，可在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。設(shè)備采用集成化設(shè)計(jì)，全自動(dòng)控制，可靠性高，操作簡(jiǎn)便，同時(shí)其還具備結(jié)構(gòu)緊湊（70cm X 70cm X 70cm）、高直寫(xiě)速度，高分辨率（XY：

2022-02-10 15:34:40PCR板封膜工藝: 96PCR板封膜，一般使用市場(chǎng)通用的透明膜、壓敏膜，需熱封才能達(dá)到密封不泄漏無(wú)污染效果，溫度設(shè)置110-120℃左右效果最為合適，根據(jù)膜來(lái)靈活設(shè)置合適溫度。誤區(qū)1：96PCR板封膜需加熱熱封才能達(dá)到效果，而并非是冷封。冷封不嚴(yán)實(shí)會(huì)造成PCR反應(yīng)液熱蒸發(fā)，影響反應(yīng)溫度的準(zhǔn)確控制及反應(yīng)成份的濃度，同時(shí)也成為一個(gè)污染源。 96PCR板封膜是利用儀器的電加熱，使塑料薄膜封口部位受熱變?yōu)檎沉鳡顟B(tài)，并借助一定壓力，使兩層薄膜熔合為一體，冷卻后保持一定強(qiáng)度。影響熱封效果的因素包括熱封時(shí)間、熱封壓力和熱封溫度。熱封溫度：作用是使粘合膜層加熱到一個(gè)比較理想的粘流狀態(tài)。熱封壓力：作用是使已處于粘流狀態(tài)的薄膜在封口界面間產(chǎn)生有效的高分子鏈段相互滲透、擴(kuò)散現(xiàn)象，也使高分子間距離接近到可以產(chǎn)生分子間作用力的結(jié)果。熱封時(shí)間：指薄膜停留在封板下的時(shí)間，熱封時(shí)間決定了熱封設(shè)備的生產(chǎn)效率。確定好溫度、壓力和時(shí)間的上下限后再到相應(yīng)熱封設(shè)備上調(diào)整相關(guān)參數(shù)。誤區(qū)2：自動(dòng)識(shí)別，壓力時(shí)間無(wú)可調(diào)整空間。局限性太大，儀器不能完全靈活運(yùn)用適配市場(chǎng)上不同規(guī)格的各種耗材。疫情形式依然嚴(yán)峻，科學(xué)應(yīng)對(duì)是關(guān)鍵。博一封膜壓蓋一體機(jī)，具備熱封、冷封、壓蓋功能兼容，用戶可自由設(shè)置選擇使用。靈活運(yùn)用適配市場(chǎng)上不同規(guī)格的各種耗材。用戶購(gòu)買時(shí)須了解。