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2025-10-20 10:37:55納米位移臺
納米位移臺是一種高精度的定位裝置，能夠?qū)崿F(xiàn)納米級別的微小移動。它通常由精密的機械結(jié)構、傳感器和控制器組成，具有高分辨率、高穩(wěn)定性和高重復定位精度等特點。納米位移臺廣泛應用于科學研究、半導體制造、生物技術等領域，如光學顯微鏡的樣品定位、納米加工中的精確控制等，是實現(xiàn)高精度實驗和制造的關鍵設備之一。

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2020-10-21 10:36:45Attocube公司低溫納米位移臺在NV-色心前沿進展
    近年來，金剛石NV色心（Nitrogen-vacancy defect centers）在科研界受到越來越多的科學家的重視。NV色心獨特且穩(wěn)定的光學特性使其擁有極其廣泛的應用前景。尤其在大力興起的量子信息領域，NV色心可以作為單光子源用于量子計算。而且NV色心作為具有量子敏感度的傳感器，還可應用于納米級分辨率的磁場、電場、溫度和壓力的探測。在生物學領域，NV色心更是很好的生物標識物，具有光學性能穩(wěn)定，細胞毒性低的優(yōu)點。    德國attocube systems AG公司針對NV色心應用領域開發(fā)了多款低溫納米精度位移器及掃描器，為低溫下的NV色心準確位移、旋轉(zhuǎn)及掃描提供了很大的便利。以下我們總結(jié)了低溫環(huán)境中(4K)NV色心研究的典型實驗方案。1. 基于NV 色心的量子網(wǎng)絡節(jié)點和寄存器設計    量子網(wǎng)絡節(jié)點的實現(xiàn)是未來量子網(wǎng)絡乃至量子互聯(lián)網(wǎng)的基本要求。這樣的量子寄存器在不干擾底層量子狀態(tài)的情況下負責接收或發(fā)射信息。近期，美國哈瓦德大學（Cambridge，MA，USA）的Marko Loncar和Mikhail Lukin小組提出了基于金剛石納米腔中硅空位色心的基本量子網(wǎng)絡節(jié)點。課題組在稀釋制冷機中采用德國attocube的極低溫納米位移器ANPxyz101和atocube的低溫復色差物鏡搭建的極低溫mK共聚焦顯微鏡，對金剛石晶格中的光學活性點缺陷進行了表征。此外，作者還通過將系統(tǒng)耦合到入射光光子以及附近具有100 ms退相干時間的核自旋來演示作為量子寄存器節(jié)點的工作原理。使量子中繼器邁出了堅實的一步。更多詳情請點擊: C.T. Nguyen et al, Phys. Rev. B 100, 165428 (2019)圖一、基于德國attocube公司的極低溫納米精度位移臺和低溫消色差物鏡搭建的共聚焦顯微鏡圖二、系統(tǒng)原理圖2. NV 色心在加壓凝聚態(tài)系統(tǒng)中的量子傳感    壓力引起的影響包括平面內(nèi)部性質(zhì)變化與量子力學相轉(zhuǎn)變。由于高壓儀器內(nèi)會產(chǎn)生巨大的壓力梯度，例如金剛石腔，致使常用的光譜測量技術受到限制。為了解決這一難題，巴黎第十一大學，香港中文大學和加州伯克利大學的科研團隊共同研發(fā)了一個新奇的納米尺度傳感器，研究者把量子自旋缺陷集成到金剛石壓腔中來探測極端壓力和溫度下的微小信號，空間分辨率不受到衍射極限限制。    為此，加州伯克利大學團隊使用與光學平臺高度集成的閉循環(huán)德國attocube公司的attoDRY800低溫恒溫器來進行試驗，attoDRY800中集成了attocube公司的極低溫納米精度位移臺，以此來實現(xiàn)快速并且準確控制金剛石壓強的移動以及測量實驗。更多詳情請點擊:S. Hsieh et al., Science, Vol. 366, Issue 6471, pp. 1349-1354 (2019) M. Lesik, et al., Science, Vol. 366, Issue 6471, pp. 1359-1362 (2019)K. Yau Yip et al., Science, Vol. 366, Issue 6471, pp. 1355-1359 (2019)圖一、實驗示意圖及測量結(jié)果3. NV 色心的自旋與光子的增強耦合研究    可靠的量子信息系統(tǒng)需要不同的量子系統(tǒng)結(jié)合它們各自的高特性來實現(xiàn)。光子作為局域量子比特之間的媒介提供了尤為靈活和普遍的可能性。因此，對固體量子比特與光子的有效耦合是量子計算的基本要求。氮空位ZX具有較長的自旋相干時間，其自旋可以通過光學初始化、操縱和檢測。然而，只有大約3%的光子發(fā)射被躍遷到了零聲子線中。這很大的限制了單光子的區(qū)分效率和自旋與光子的相干相互作用信噪比。德國薩蘭大學（Saarbrücken, Germany）的Christoph Becher小組設計和制造了一個可調(diào)諧二維光子晶體腔（圖1A），并報道了一個數(shù)量級的增強發(fā)射率（圖1B）。通過激光誘導，實現(xiàn)了M0腔模式與NVZX零聲子線共振的調(diào)諧。原位光學測量可控制實時的調(diào)諧過程。其制作優(yōu)化和調(diào)諧結(jié)果是光學自旋讀出結(jié)果是其信噪比的三倍。Christoph教授提出的制造工藝和實驗裝置，可以獲得更高的信噪比。為未來的量子信息提供了更多的可能和客觀的前景，在此測量實驗中使用的德國attocube公司制造的低溫納米位移器ANPxyz101，能夠在極低溫環(huán)境下，實現(xiàn)5 mm*5 mm*5 mm的行程，而且能夠?qū)崿F(xiàn)200 nm分辨率，1 μm精度的閉環(huán)反饋。更多詳情請點擊:T. Jung, et al; "Spin Measurements of NV Centers Coupled to a Photonic Crystal Cavity", arXiv:1907.07602 (2019)圖一、A 實驗制備的可調(diào)諧的二維光子晶體腔體；B 在637.4 nm處M0腔模式和NV-ZPL的相互作用4. 總體NV色心信號收集實驗    將磁性樣品覆蓋在表面具有較多NV色心的塊體金剛石襯底上。這個NV色心表面層通常由離子注入或在金剛石表面合成富氮表面層來實現(xiàn)。通常采用532 nm的激光激發(fā)NV色心到激發(fā)態(tài)，并在630-800 nm波長范圍收集熒光信號。同時利用微波信號激發(fā)和探測NV色心的自旋態(tài)（ESR）。熒光信號由二維的CCD探測陣列收集成像并與樣品相對應。與單個NV色心的研究不同，該實驗方案采用大工作距離獲得大視野范圍的成像，從而實現(xiàn)大面積信號的采集。該實驗方案中對于塊體金剛石襯底及磁性樣品的準確位移采用的是attocube公司的ANP341系列納米精度位移臺，該位移臺可以在4K低溫強磁場環(huán)境中實現(xiàn)20 mm超大行程的位移，位移步長小至20 nm@4K，垂直方向的載重達2 Kg，低溫下采用電阻式傳感器，可以實現(xiàn)200 nm的分辨率，1 μm的重復精度。 圖一、 CCD與顯微鏡成像系統(tǒng)圖二、 低溫強磁環(huán)境兼容納米精度位移臺 ANP3415. 單個NV色心研究：樣品表面的納米金剛石    納米金剛石的單個NV色心探測可以通過共聚焦顯微技術來實現(xiàn)。該實驗裝置包括attocube的三維低溫納米位移臺，Z方向可以準確調(diào)整樣品到焦平面，XY可以對樣品表面進行掃描。采用532 nm激光激發(fā)，對630 nm-800 nm范圍的熒光信號進行采集。采用可調(diào)的微波信號對NV色心的自旋態(tài)進行激發(fā)，通過熒光信號的峰值位移來確定其自旋態(tài)。整個實驗在4K低溫恒溫器中進行。為了研究感興趣的區(qū)域，通常將金剛石粉末（20-30 nm）均勻的撒在樣品表面，然后使用attocube三維納米位移臺來掃描樣品并且對特定NV色心進行測量，并且可以通過單個NV色心觀測較大溫度范圍內(nèi)的樣品性質(zhì)。圖一、掃描共聚焦顯微鏡示意圖    Tokura課題組成功的運用此技術研究了FeGe樣品中的磁渦旋結(jié)構。更多細節(jié)請參考：Using NV-Center Optically Detected Magnetic Resonance (ODMR) as a Probe for Local Magnetic Dynamics in Transition Metals6. 掃描探針量子探測器(例如：掃描磁力顯微鏡)    將一個NV色心固定在掃描探針顯微鏡的探針末端?？梢酝ㄟ^在針尖上“粘貼”納米金剛石，或采用納米壓印與O2刻蝕技術將塊體金剛石加工成再用N-14注入來實現(xiàn)NV色心，現(xiàn)在甚至已經(jīng)有商業(yè)化的針尖。采用共聚焦顯微鏡將激發(fā)光聚焦在掃描探針的NV色心上。實驗中樣品的準確掃描是通過attocube公司的低溫納米精度位移臺進行。這樣便可實現(xiàn)對樣品表面的納米級精度大范圍成像測量。該技術理論上可以對多種與NV色心熒光相關的特性進行高精度顯微學測量。圖一、掃描探針顯微鏡示意圖     Jayich課題組 (UCSB)運用這一技術在BaFe2(As0.7P0.3)2 超導材料的轉(zhuǎn)變溫度附近（30K）成功觀測到了旋渦。這一技術在研究材料低溫下的新奇性質(zhì)方面前景廣闊。更多細節(jié)請參考：Scanned probe imaging of nanoscale magnetism at cryogenic temperatures with a single-spin quantum sensor.7. 基于NV色心顯微鏡對疇壁跳變的納米級成像與控制    磁力線中的疇壁可能對未來的自旋電子器件是有用的，因此其納米尺度的表征是邁向?qū)嵱没闹匾徊健Ｕ绶▏茖W家Vincent Jaques在《科學》雜志上所展示的那樣，基于AFM/CFM的NVZX顯微鏡可以對1 nm厚的鐵磁納米線中的疇壁進行成像，以及單個疇壁釘扎位置之間的跳躍。同時，研究還表明，由于高的局部激光功率，疇壁可以通過局部加熱誘導跳躍而沿導線移動。對實驗結(jié)果起關鍵作用的是德國attocube公司的低溫納米位移臺，其能夠?qū)崿F(xiàn)低溫下納米精度的樣品位移、傾角、旋轉(zhuǎn)和掃描等功能。更多詳情請點擊:Tetienne et al ., Science 344, 1366(2014)圖一、實驗裝置示意圖 
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2022-04-24 16:42:23納米多孔氧化鋁
本品為化學法合成的白色球形粉末，無重金屬、 無放射性元素。物理指標①晶相 γ相②AI2O3含量 ≥99.9③ 介孔 0.38④ 原晶粒度 50-60納米化學指標①本品用于噴墨打印紙的涂層， 為紙張?zhí)岣吖鉂?。②増加涂料的耐磨性，具有助流?提高上粉率、防結(jié)塊等特點應用范圍①導熱硅膠②電子灌封膠③粉末涂料公眾號搜索粉體圈，聯(lián)系報價。聯(lián)系方式：400-869-9320轉(zhuǎn)8990更多信息進入店鋪查看：https://www.360powder.com/shop.html?shop_id=1727
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2023-04-20 09:37:22BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta
BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀——背向 + 90°散射粒度 + Zeta 電位三合一型儀 器 簡 介BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及Zeta電位分析儀是BeNano 90+BeNano 180+BeNano Zeta 三合一的頂 級光學檢測系統(tǒng)。該系統(tǒng)中集成了背向 +90°動態(tài)光散射 DLS、電泳光散射 ELS和靜態(tài)光散射技術 SLS，可以準確的檢測顆粒的粒徑及粒徑分布，Zeta 電位，高分子和蛋白體系的分子量信息等參數(shù)，可廣泛的應用于化學、化工、生物、制藥、食品、材料等領域的基礎研究和質(zhì)量分析與控制。指標與性能Index＆performance粒徑測試原理：動態(tài)光散射技術粒徑范圍：0.3 nm – 15 μm樣品量：3 μL - 1 mL檢測角度：173°+90°+12°分析算法：Cumulants、通用模式、CONTIN、NNLSZeta電位測試原理：相位分析光散射技術檢測角度：12°Zeta范圍：無實際限制電泳遷移率范圍：> ±20 μ.cm/V.s電導率范圍：0 - 260 mS/cmZeta測試粒徑范圍：2 nm – 110 μm分子量測試分子量范圍：342 Da – 2 x 107 Da微流變測試頻率范圍：0.2 – 1.3 x 107 rad/s測試能力：均方位移、復數(shù)模量、彈性模量、粘性模量、蠕變?nèi)崃空扯群驼酃饴蕼y試粘度范圍：0.01 cp – 100 cp折光率范圍：1.3-1.6趨勢測試模式：時間和溫度系統(tǒng)參數(shù)溫控范圍：-15° C - 110° C+/- 0.1°C冷凝控制：干燥空氣或者氮氣標準激光光源：50 mW 高性能固體激光器， 671 nm相關器：最快25 ns采樣，最多 4000 通道，1011 動態(tài)線性范圍檢測器：APD （高性能雪崩光電二極管）光強控制：0.0001% - 100%，手動或自動軟件中文和英文符合21CFR Part 11原理圖儀器檢測檢測參數(shù)顆粒體系的光強、體積、面積和數(shù)量分布顆粒體系的 Zeta 電位及其分布分子量分布系數(shù) PD.I擴散系數(shù) D流體力學直徑 D H顆粒間相互作用力因子 k D溶液粘度檢測技術動態(tài)光散射電泳光散射靜態(tài)光散射
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2023-04-25 09:25:28Nicomp? 在線粒度儀用于納米藥物粒度監(jiān)測
在過去的幾十年中，納米醫(yī)學研究發(fā)展迅速，大部分重 點放在藥物輸送上。納米顆粒具有降低毒性和副作用等優(yōu)點，控制這些納米粒子的大小至關重要。Nicomp系列的大部分粒度測量是在實驗室進行的，但現(xiàn)在已經(jīng)有在生產(chǎn)線中進行粒度測量的產(chǎn)品——Nicomp? 在線粒度儀。本應用說明介紹了 Bind Therapeutics（輝瑞于 2016 年收購的資產(chǎn)）開展的開創(chuàng)性工作，將Nicomp? 在線動態(tài)光散射測量納入其 Accurins? 納米粒子候選藥物的制造過程。引言BIND Therapeutics, Inc. 是一家生物制藥公司，開發(fā)稱為 Accurins（見圖 1）的靶向納米粒子技術，用于治 療癌癥和其他具有大量未滿足醫(yī)療需求的嚴重疾病。通過結(jié)合控釋聚合物系統(tǒng)、靶向和遞送大量治 療藥物的能力，Bind 正在為一類新型靶向治 療開發(fā)一個納米技術支持的平臺。圖 1. BIND Accurins 技術Accurins 通常是 80-120 nm 的顆粒，由具有活性藥物成分 (API) 核心的聚丙交酯聚乙二醇 (PLA-PEG) 共聚物組成。共聚物的 PLA 部分為包封疏水性 API 提供了一個可生物降解的、相對疏水的核心。聚合物的親水性聚乙二醇酯部分期望覆蓋在顆粒的表面，使它們能夠逃避網(wǎng)狀內(nèi)皮系統(tǒng)(RES)吞噬細胞的調(diào)理和從血液循環(huán)中移除。80-120 nm 的大小非常適合通過滲漏的脈管系統(tǒng)（增強的通透性和滯留性，或 EPR 效應）積聚在腫瘤部位，同時避免被脾 臟過濾。80-120 nm也是適合所需理化特性的尺寸，可保持高載藥量、控制釋放和加工能力，包括最 終無菌過濾和凍干的能力。Accurins 是通過納米乳液工藝制造的，該工藝使用高壓均化來剪切分散在不混溶水相中的有機液滴?？刂埔旱纬叽鐚τ诖_定藥品的最 終尺寸分布十分重要。許多因素會影響液滴大小，包括原材料屬性、顆粒配方、均質(zhì)機機械性能、水相組成和工藝參數(shù)。該批次開始生產(chǎn)后，均質(zhì)器壓力是最容易控制來調(diào)節(jié)尺寸的過程。BIND 014 是一種 Accurin，開發(fā)用于將多西紫杉醇遞送至實體瘤和癌細胞，表達前列腺特異性膜抗原 (PSMA)。這里描述的所有實驗都是針對 BIND-014 Accurins。在線動態(tài)光散射動態(tài)光散射 (DLS) 可用于測量亞微米顆粒尺寸，DLS 的工作原理是小顆粒通過布朗運動在流體中隨機移動。系統(tǒng)檢測到布朗運動引起的平移擴散，然后用于求解 Stokes-Einstein 方程以確定粒子大?。ǚ匠?1）。其中： D = 擴散系數(shù) kB = 波爾茲曼常數(shù) η = 粘度 R = 粒子半徑Nicomp DLS 已在實驗室中成功使用數(shù)十年，Nicomp?在線粒度儀也已有了實際應用。Entegris （Nicomp粒度儀生產(chǎn)商）現(xiàn)在已在客戶制造業(yè)務中安裝了多個系統(tǒng)，用于在生產(chǎn)運行期間跟蹤顆粒大小。在線系統(tǒng)從過程中取出樣品，稀釋樣品以避免多重散射效應，測量樣品，然后重復該過程（見圖 2）。完整的測量周期約為 2 分鐘，為監(jiān)控制造操作的工藝工程師提供連續(xù)的粒度信息。圖 2. DLS 系統(tǒng)簡圖，帶自動稀釋實驗細節(jié)Entegris Nicomp?在線 DLS 系統(tǒng)安裝在高壓均質(zhì)器的下游，其設置使其能夠每約 2 分鐘從工藝流中獲取乳液樣品。設置 DLS 的射流系統(tǒng)，使乳液樣品以與下游 Accurin 過程類似的方式在水中稀釋，并在流通池中自動稀釋至產(chǎn)生理想光散射強度（~300 kCt/秒）的濃度。此處描述了三個批次： 一個批次由 11 個過程樣品和可變壓力制成，在整個均質(zhì)化過程中，以建立壓力大小相關性。在工藝條件略有不同的情況下生產(chǎn)的批次導致前兩個工藝樣品的尺寸略小于目標尺寸。調(diào)整壓力后，尺寸恢復到最 后四個樣品的目標值。臨床規(guī)模開發(fā)批次在以約 5 分鐘的間隔采集的八個樣本期間展示穩(wěn)定的尺寸讀數(shù)，確認壓力設定點是合適的。結(jié)果第 一個實驗（圖 3 和圖 4）的結(jié)果顯示了我們預期的壓力與尺寸的關系。從趨勢線曲線擬合可以看出，尺寸對壓力的響應為每 1,000 psig 約 9 nm。圖 3. 均質(zhì)機壓力與粒徑圖 4. 壓力與平均尺寸的相關性第二個實驗的初始尺寸讀數(shù)低于目標尺寸約 5–7 nm，因此進行了壓力調(diào)整（降低 1,000 psig）。在稍后的時間點，平均粒徑按預期增加了 ~5–10 nm。圖 5. 均質(zhì)器壓力與粒徑最后一組數(shù)據(jù)來自使用在線分級器的第 一個臨床規(guī)模實驗。盡管 BIND 有程序在尺寸超出我們的目標范圍時根據(jù)需要調(diào)整壓力，但沒有必要這樣做。所有八次測量都非常接近 100 nm 目標。圖 6. 批處理運行期間的平均大小結(jié)論Nicomp? 在線 DLS 系統(tǒng)被集成到 Accurin 制造過程中，用于確定最佳條件并確保在整個批次中粒徑在所需規(guī)格范圍內(nèi)。進行在線測量可減少進行工藝更改與獲取評估更改是否產(chǎn)生預期效果所需的粒度數(shù)據(jù)之間的滯后時間。此外，與將樣品帶到實驗室進行離線批量分析相比，在線分析可以更好地監(jiān)控產(chǎn)品質(zhì)量。在線 DLS 是一種有價值的過程分析技術。
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2022-07-14 15:06:51淺談掃描俄歇納米探針
簡介        掃描俄歇納米探針，又稱俄歇電子能譜（Auger Electron Spectroscopy，簡稱AES）是一種表面科學和材料科學的分析技術。根據(jù)分析俄歇電子的基本特性得到材料表面元素成分（部分化學態(tài)）定性或定量信息?？梢詫{米級形貌進行觀察和成分表征。近年來，隨著超高真空和能譜檢測技術的發(fā)展，掃描俄歇納米探針作為一種極為有效的表面分析工具，為探索和研究表面現(xiàn)象的理論和工藝問題，做出了巨大貢獻，日益受到科研工作者的普遍重視。俄歇電子能譜常常應用在包括半導體芯片成分表征等方向發(fā)展歷史        近年來，固體表面分析方法獲得了迅速的發(fā)展，它是目前分析化學領域中最活躍的分支之一。它的發(fā)展與催化研究、材料科學和微型電子器件研制等有關領域內(nèi)迫切需要了解各種固體表面現(xiàn)象密切相關。各種表面分析方法的建立又為這些領域的研究創(chuàng)造了很有利的條件。在表面組分分析方法中，除化學分析用光電子能譜以外，俄歇電子能譜是最重要的一種。目前它已廣泛地應用于化學、物理、半導體、電子、冶金等有關研究領域中。        俄歇現(xiàn)象于1925年由P.Auger發(fā)現(xiàn)。28 年以后，J.J.Lander從二次電子能量分布曲線中第一次辨認出俄歇電子譜線， 但是由于俄歇電子譜線強度低，它常常被淹沒在非彈性散射電子的背景中，所以檢測它比較困難。        1968年，L.A.Harris 提出了一種“相敏檢測”方法，大大改善了信噪比，使俄歇信號的檢測成為可能。以后隨著能量分析器的完善,使俄歇譜儀達到了可以實用的階段。         1969年圓筒形電子能量分析器應用于AES, 進一步提高了分析的速度和靈敏度。        1970年通過掃描細聚焦電子束,實現(xiàn)了表面組分的兩維分布的分析(所得圖像稱俄歇圖)，出現(xiàn)了掃描俄歇微探針儀器。        1972年，R.W.Palmberg利用離子濺射，將表面逐層剝離，獲得了元素的深度分析，實現(xiàn)了三維分析。至此，俄歇譜儀的基本格局已經(jīng)確定， AES已迅速地發(fā)展成為強有力的固體表面化學分析方法，開始被廣泛使用。基本原理        俄歇電子是由于原子中的電子被激發(fā)而產(chǎn)生的次級電子。當原子內(nèi)殼層的電子被激發(fā)形成一個空穴時，電子從外殼層躍遷到內(nèi)殼層的空穴并釋放出光子能量；這種光子能量被另一個電子吸收，導致其從原子激發(fā)出來。這個被激發(fā)的電子就是俄歇電子。這個過程被稱為俄歇效應。Auger electron emission        入射電子束和物質(zhì)作用，可以激發(fā)出原子的內(nèi)層電子。外層電子向內(nèi)層躍遷過程中所釋放的能量，可能以X光的形式放出，即產(chǎn)生特征X射線，也可能又使核外另一電子激發(fā)成為自由電子，這種自由電子就是俄歇電子。對于一個原子來說,激發(fā)態(tài)原子在釋放能量時只能進行一種發(fā)射：特征X射線或俄歇電子。原子序數(shù)大的元素，特征X射線的發(fā)射幾率較大，原子序數(shù)小的元素，俄歇電子發(fā)射幾率較大，當原子序數(shù)為33時，兩種發(fā)射幾率大致相等。因此，俄歇電子能譜適用于輕元素的分析。        如果電子束將某原子K層電子激發(fā)為自由電子，L層電子躍遷到K層，釋放的能量又將L層的另一個電子激發(fā)為俄歇電子，這個俄歇電子就稱為KLL俄歇電子。同樣，LMM俄歇電子是L層電子被激發(fā)，M層電子填充到L層，釋放的能量又使另一個M層電子激發(fā)所形成的俄歇電子。        只要測定出俄歇電子的能量，對照現(xiàn)有的俄歇電子能量圖表，即可確定樣品表面的成份。由于一次電子束能量遠高于原子內(nèi)層軌道的能量，可以激發(fā)出多個內(nèi)層電子，會產(chǎn)生多種俄歇躍遷，因此,在俄歇電子能譜圖上會有多組俄歇峰，雖然使定性分析變得復雜，但依靠多個俄歇峰,會使得定性分析準確度很高，可以進行除氫氦之外的多元素一次定性分析。同時,還可以利用俄歇電子的強度和樣品中原子濃度的線性關系,進行元素的半定量分析,俄歇電子能譜法是一種靈敏度很高的表面分析方法。其信息深度為5nm以內(nèi),檢出限可達到0.1%atom。是一種很有用的分析方法。系統(tǒng)組成        AES主要由超高真空系統(tǒng)、肖特基場發(fā)射電子槍、CMA同軸式筒鏡能量分析器、五軸樣品臺、離子槍等組成。以ULVAC-PHI的PHI 710舉例，其核心分析能力為25 kV肖特基熱場發(fā)射電子源，與筒鏡式電子能量分析器CMA同軸。伴隨著這一核心技術是閃爍二次電子探測器、 高性能低電壓浮式氬濺射離子槍、高精度自動的五軸樣品臺和PHI創(chuàng)新的儀器控制和數(shù)據(jù)處理軟件包：SmartSoft AES ? 和 MultiPak ?。并且，目前ULVAC-PHI的PHI 710可以擴展冷脆斷樣品臺、EDS、EBSD、BSE、FIB等技術，深受廣大用戶認可。PHI710激發(fā)源，分析器和探測器結(jié)構示意圖：        為滿足當今納米材料的應用需求，PHI 710提供了最高穩(wěn)定性的 AES 成像平臺。隔聲罩、 低噪聲電子系統(tǒng)、 穩(wěn)定的樣品臺和可靠的成像匹配軟件可實現(xiàn) AES對納米級形貌特征的成像和采譜。        真正的超高真空（UHV）可保證分析過程中樣品不受污染，可進行明確、準確的表面表征。測試腔室的真空是由差分離子泵和鈦升華泵（TSP）抽氣實現(xiàn)的。肖特基場發(fā)射源有獨立的抽氣系統(tǒng)以確保發(fā)射源壽命。最新的磁懸浮渦輪分子泵技術用于系統(tǒng)粗抽，樣品引入室抽真空，和差分濺射離子槍抽氣。為了連接其他分析技術，如EBSD、 FIB、 EDS 和BSE，標配是一個多技術測試腔體。         PHI 710 是由安裝在一個帶有 Microsoft Windows ? 操作系統(tǒng)的專用 PC 里的PHI SmartSoft-AES 儀器操作軟件來控制的。所有PHI電子光譜產(chǎn)品都包括執(zhí)行行業(yè)標準的 PHI MultiPak 數(shù)據(jù)處理軟件用于獲取數(shù)據(jù)的最大信息。710 可應用互聯(lián)網(wǎng)，使用標準的通信協(xié)議進行遠程操作。AES的應用        掃描俄歇納米探針可分析原材料（粉末顆粒，片材等）表面組成，晶粒觀察，金相分布，晶間晶界偏析，又可以分析材料表面缺陷如納米尺度的顆粒物、磨痕、污染、腐蝕、摻雜、吸附等，還具備深度剖析功能表征鈍化層，包覆層，摻雜深度，納米級多層膜層結(jié)構等。AES的分析深度4-50 ?，二次電子成像的空間分辨可達 3納米，成分分布像可達8納米，分析材料表面元素組成 （Li ~ U），是真正的納米級表面成分分析設備?？蓾M足合金、催化、半導體、能源電池材料、電子器件等材料和產(chǎn)品的分析需求。AES 應用的幾種例子，從左到右為半導體FIB-cut，鋰電陰極向陶瓷斷面分析小結(jié)本文小編粗淺的介紹了俄歇電子能譜AES的一些基礎知識，后續(xù)我們還會提供更有價值的知識和信息，希望大家持續(xù)關注“表面分析家”！
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