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2025-01-21 09:30:33高能離子注入機
高能離子注入機是一種先進的科學儀器,主要用于半導(dǎo)體材料的改性處理。它通過加速高能離子并將其注入到半導(dǎo)體材料中,從而改變材料的電學、光學及磁學等性質(zhì)。這種技術(shù)廣泛應(yīng)用于集成電路制造、太陽能電池生產(chǎn)以及材料科學研究等領(lǐng)域。高能離子注入機具有精確控制離子能量、劑量和注入角度的能力,是實現(xiàn)材料微觀結(jié)構(gòu)調(diào)控和性能優(yōu)化的重要工具。其高精度和靈活性使其成為現(xiàn)代科技發(fā)展中不可或缺的一部分。

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2023-04-18 18:06:45Spex 應(yīng)用分享 | 高能球磨法制備納米晶氧化陶瓷
#SPEX 8000M MIXER/MILL?球磨儀!#SPEX MIXER/MILL? 8000系列高能球磨儀可將堅硬或易碎樣品粉碎至可分析細度,部分樣品研磨精度可達納米級別。采用獨 家專 利的∞式三維立體運動模式研磨,360°立體無死角,非正反轉(zhuǎn)方式,可以在最 短的時間內(nèi)向樣品輸送最  高的機械能量,為目前世界上所有球磨儀中能量最 高、速度最 快的球磨機。SPEX以其在球磨機研發(fā)和生產(chǎn)超過60年的經(jīng)驗以及在球磨機創(chuàng)新領(lǐng)域所做出的突出貢獻,成為美國球磨機行業(yè)標準的制定者。       SPEX高能球磨儀可用于巖石、礦物、金屬合金、陶瓷、催化劑、玻璃、沙子、水泥、爐渣、醫(yī)藥、植物和動物組織、谷物、種子、油漆和油墨、電子、RoHS樣品等分析用樣品研磨。 下文將介紹SPEX高能球磨儀用于分析納米晶體材料中的顆粒尺寸效應(yīng)。該應(yīng)用源自: S. Indris, D. Bork, P. Heitjans, J. Mater. Synth. Process 8, 245 (2000),經(jīng)漢諾威大學物理化學和電化學研究所P.Heitjans教授同意。高能球磨法制備納米晶氧化陶瓷SPEX 高能球磨儀分析納米晶體材料中的顆粒尺寸效應(yīng)需要一種可以調(diào)節(jié)顆粒尺寸的技術(shù)。在本研究中,使用球磨機(8000M Mixer/Mill?, SPEX SamplePrep;配備有氧化鋁和氧化鋯小瓶)。球磨特別適合這項任務(wù),因為它易于使用,并允許研磨相對大量的材料以及各種不同的材料。分析介質(zhì)為:Li2O、LiNbO3、LiBO2、B2O3、TiO2和Li2O:B2O3混合物。通過研磨時間測定平均粒徑,隨后通過X射線衍射(XRD)和透射電子顯微鏡(TEM)進行分析。選擇含鋰材料是因為它們作為固體電解質(zhì)的潛在用途。TiO2在用作光催化劑方面是令人感興趣的。對于吸濕性材料,在氬氣氣氛中填充氧化鋁研磨瓶并將其放入密封的不銹鋼容器中。顆粒大小不同的氧化物表現(xiàn)出不同的研磨特性,但最小粒徑約為在研磨8至10小時后獲得20nm.通過XRD分析和TEM數(shù)據(jù)確定顆粒尺寸。差示掃描量熱法(DSC)表明,納米晶樣品是亞穩(wěn)態(tài)的,加熱導(dǎo)致顆粒生長。在燒結(jié)過程中,當要生產(chǎn)固體致密陶瓷時,要考慮到這一點。其他研究小組先前的研究表明,兩步燒結(jié)特別適合在第二步中使用較低的溫度。通過兩種方法分析,TiO2在研磨過程中發(fā)生了部分相變。當進行球磨時,包含另外雜質(zhì)的金紅石以較小粒徑的純金紅石(不含雜質(zhì))形式獲得?;瘜W反應(yīng)陶瓷組分的混合和隨后的壓制產(chǎn)生具有多個不同邊界層的材料。這種不同界面的晶格可以通過改變顆粒尺寸來改變。在分析Li2O∶B2O3的50∶50混合物的過程中,檢測到由于該化學-機械過程引起的化學變化。在短時間后,用XRD分析僅檢測到原始化合物的譜線,而在4小時后出現(xiàn)新的譜線。新形成的產(chǎn)物是Li2B4O7。這表明反應(yīng)的最 終產(chǎn)物并不取決于混合物的組成,而是取決于邊界層的條件。結(jié)論Spex 8200行星球磨機通過機械運動研磨樣品,沿一個方向旋轉(zhuǎn)震擊器,而平臺(太陽輪)沿相反方向旋轉(zhuǎn)。機械磨具以2:1的比例進行,使容器相對于太陽輪的每一次旋轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)兩次。當容器移動時,相對離心力被傳遞到磨球上,使磨球以圓周運動的方式相互移動,并抵靠容器壁,從而研磨樣品。
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2020-03-10 15:39:59安徽歌博A500型氦質(zhì)譜檢漏儀應(yīng)用于離子注入機檢漏
       離子注入機是集成電路制造前工序中的關(guān)鍵設(shè)備,離子注入是對半導(dǎo)體表面附近區(qū)域進行摻雜的技術(shù),其目的是改變半導(dǎo)體的載流子濃度和導(dǎo)電類型。離子注入與常規(guī)熱摻雜工藝相比可對注入劑量、注入角度、注入深度、橫向擴散等方面進行精確的控制,克服了常規(guī)工藝的限制,提高了電路的集成度、開啟速度、成品率和壽命,降低了成本和功耗。離子注入機廣泛用于摻雜工藝,可以滿足淺結(jié)、低溫和精確控制等要求,已成為集成電路制造工藝中必不可少的關(guān)鍵裝備。          離子注入機通常由離子源、離子引入和質(zhì)量分析器、加速管、掃描系統(tǒng)和工藝腔等組成。離子源是把需要注入的元素氣態(tài)粒子電離成離子,決定要注入離子的種類和束流強度。離子源直流放電或高頻放電產(chǎn)生的電子作為轟擊粒子,當外來電子的能量高于原子的電離電位時,通過碰撞使元素發(fā)生電離。碰撞后除了原始電子外,還出現(xiàn)正電子和二次電子。正離子進入質(zhì)量分析器選出需要的離子,再經(jīng)過加速器獲得較高能量,由四級透鏡聚焦后進入靶室,進行離子注入。        作為高真空設(shè)備,其出廠、安裝、維護都離不開氦質(zhì)譜檢漏儀。由于半導(dǎo)體行業(yè)生產(chǎn)需要高潔凈度,通常離子注入機設(shè)備都是選用干泵型的氦質(zhì)譜檢漏儀來滿足設(shè)備的出廠安裝以及維護需要,主要采用負壓噴氦法來查找設(shè)備可疑泄漏點。       安徽歌博科技生產(chǎn)的干泵型氦質(zhì)譜檢漏儀廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體設(shè)備檢漏行業(yè),如圖所示即為安徽歌博A500型氦質(zhì)譜檢漏儀在為某實驗室的離子注入機設(shè)備檢漏。安徽歌博科技氦質(zhì)譜檢漏儀憑借便捷的操控,zhuo越的性能, 以及高靈敏超穩(wěn)定等優(yōu)點被業(yè)內(nèi)工程人員廣泛認可,已建立長期合作關(guān)系。
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