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2025-11-24 16:04:08無掩模光刻: 無掩模光刻是一種先進的半導體制造技術，它無需傳統(tǒng)光刻工藝中的物理掩模，而是利用直接寫入的方式，將圖案精確地刻在硅片上。該技術通過高精度激光或電子束等直接對硅片表面進行曝光，實現(xiàn)圖案的快速、靈活制作。無掩模光刻具有分辨率高、制作周期短、成本低等優(yōu)勢，在微納加工、集成電路制造等領域展現(xiàn)出廣泛應用前景，特別是在定制化和小批量生產中更具優(yōu)勢。

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無掩模光刻文章

微納加工領域的無掩模光刻技術研究

光刻作為一種精密微納表面加工技術，已廣泛應用于微電子學、二元光學、光子晶體、集成電路和納米技術等領域。極紫外光刻是人類所能達到的精度最Z高的復雜結構微加工技術之一，但是隨著微加工特征尺寸的不斷縮小

 托托科技（蘇州）有限公司 167
2025-10-11
無掩模光刻無掩模光刻技術無掩模光刻設備
DMD無掩模光刻系統(tǒng)在微納制造中的新進展

?微納制造作為現(xiàn)代高新技術產業(yè)的核心基石，正不斷向更高精度、更復雜三維結構及多功能集成的方向演進。在這一進程中，基于數字微鏡器件（DMD）的無掩模光刻技術，憑借其無掩模、高靈活性、低成本的顛覆性優(yōu)勢。

托托科技（蘇州）有限公司 156
2025-10-29
微納制造無掩模光刻 DMD無掩模光刻
一款低成本的科研型無掩模光刻系統(tǒng)UTA-1A

無掩膜光刻機 UTA 系列為縮小投影型無掩模曝光系統(tǒng)，核心融合 DLP 投影儀與金相顯微鏡技術，兼具高精度圖案投射與對位成像能力。設備價格遠低于傳統(tǒng)掩膜光刻的圖案投影曝光系統(tǒng)。

北京歐屹科技有限公司 63
2026-01-23
無掩膜光刻機 UTA 無掩模光刻系統(tǒng)低成本UTA 無掩模光刻系統(tǒng)
掩模與無掩模光刻：核心技術原理與適用場景全解析

光刻技術作為半導體制造與微納加工的核心工藝，其發(fā)展直接決定了集成電路的性能與集成度。在當今技術路線中，掩模光刻與無掩模光刻分別代表了高效率批量制造與高靈活性定制化生產的兩大方向。

托托科技（蘇州）有限公司 166
2025-11-24
無掩模光刻無掩模光刻機掩模版
輕松掌握光刻工藝：后烘

后烘，顧名思義，是在光刻膠曝光后，對光刻膠膜進行烘烤的過程。這一過程的主要目的是通過加熱，使光刻膠中的化學反應進一步進行，從而實現(xiàn)光刻膠的固化和圖案的清晰化。

托托科技（蘇州）有限公司 206
2025-05-26
無掩模光刻光刻工藝光刻機

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: 桌面臺式無掩模光刻系統(tǒng) 手動 PALET DDB-701-MS 筱曉光子; 國內上海; 面議; 筱曉（上海）光子技術有限公司
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: 小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng); 國外歐洲; 面議; 清砥量子科學儀器（北京）有限公司
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無掩模光刻問答

2023-06-14 16:49:45無掩膜直寫光刻系統(tǒng)助力二維材料異質結構電輸運性能研究，意大利: 期刊：ACS NanoIF：18.027文章鏈接: https://doi.org/10.1021/acsnano.1c09131 【引言】 MoS2是一種典型的二維材料，也是電子器件的重要組成部分。研究者發(fā)現(xiàn)，當MoS2與石墨烯接觸會產生van der Waals作用，使之具有良好的電學特性，可廣泛應用于各類柔性電子器件、光電器件、傳感器件的研究。然而，MoS2-石墨烯異質結構背后的電輸運機理尚不明確。這主要是因為傳統(tǒng)器件只有兩個接觸點，不能將MoS2-石墨烯異質結構產生的電學輸運特性與二維材料自身的電學特性所區(qū)分。此外，電荷轉移、應變、電荷在缺陷處被俘獲等因素也會對器件的電輸運性能產生影響，進一步提高了相關研究的難度。盡管已有很多文獻報道MoS2-石墨烯異質結構的電輸運性能，但這些研究主要基于理論計算，缺乏對MoS2-石墨烯異質結構的電輸運性能在場效應器件中的實驗研究。【成果簡介】 2021年，意大利比薩大學Ciampalini教授課題組利用小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3 制備出基于MoS2-石墨烯異質結構的多場效應管器件，在場效應管器件中直接測量了MoS2-石墨烯異質結構的電輸運特性。通過比較MoS2的跨導曲線和石墨烯的電流電壓特性，發(fā)現(xiàn)在n通道的跨導輸運被抑制，這一現(xiàn)象明顯不同于傳統(tǒng)對場效應的認知。借助第一性原理計算發(fā)現(xiàn)這一獨特的輸運抑制現(xiàn)象與硫空位相關。本文中所使用的小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3無需掩膜版，可在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。設備采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便，同時其還具備結構緊湊（70cm X 70cm X 70cm）、高直寫速度，高分辨率（XY：

2023-06-29 10:11:54無掩膜直寫光刻系統(tǒng)助力二維材料異質結構電輸運性能研究，意大利科學家揭秘其機理！: 期刊：ACS NanoIF：18.027文章鏈接: https://doi.org/10.1021/acsnano.1c09131引言MoS2是一種典型的二維材料，也是電子器件的重要組成部分。研究者發(fā)現(xiàn)，當MoS2與石墨烯接觸會產生van der Waals作用，使之具有良好的電學特性，可廣泛應用于各類柔性電子器件、光電器件、傳感器件的研究。然而，MoS2-石墨烯異質結構背后的電輸運機理尚不明確。這主要是因為傳統(tǒng)器件只有兩個接觸點，不能將MoS2-石墨烯異質結構產生的電學輸運特性與二維材料自身的電學特性所區(qū)分。此外，電荷轉移、應變、電荷在缺陷處被俘獲等因素也會對器件的電輸運性能產生影響，進一步提高了相關研究的難度。盡管已有很多文獻報道MoS2-石墨烯異質結構的電輸運性能，但這些研究主要基于理論計算，缺乏對MoS2-石墨烯異質結構的電輸運性能在場效應器件中的實驗研究。成果簡介2021年，意大利比薩大學Ciampalini教授課題組利用小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3 制備出基于MoS2-石墨烯異質結構的多場效應管器件，在場效應管器件中直接測量了MoS2-石墨烯異質結構的電輸運特性。通過比較MoS2的跨導曲線和石墨烯的電流電壓特性，發(fā)現(xiàn)在n通道的跨導輸運被抑制，這一現(xiàn)象明顯不同于傳統(tǒng)對場效應的認知。借助第一性原理計算發(fā)現(xiàn)這一獨特的輸運抑制現(xiàn)象與硫空位相關。本文中所使用的小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3無需掩膜版，可在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。設備采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便，同時其還具備結構緊湊（70cm X 70cm X 70cm）、高直寫速度，高分辨率（XY：

2021-11-29 11:06:02Tip 10000ul吸嘴無DNA酶無RNA酶無熱源吸頭: Tip 10000ul吸嘴無DNA酶無RNA酶無熱源吸頭，大口本生(天津)健康科技有限公司：http://www.bunsen17.com/ 本生生物供應：光度計，檢測儀，免疫儀，全系熒光定量PCR耗材，移液器，鉆石吸嘴，離心管，凍存管，培養(yǎng)皿，培養(yǎng)板，培養(yǎng)瓶，吸頭，儀器及手套，色譜耗材，針頭過濾器。產品名稱：Tip 10000ul吸嘴，無色，無DNA酶無RNA酶無熱源，袋裝非滅菌，大口產品規(guī)格：100支/包，10包/箱（1000支/箱）CG編號產品描述包裝規(guī)格通用型移液器吸嘴，BASIX加長吸嘴23-2033 Tip 10000ul吸嘴，無色，無DNA酶無RNA酶無熱源，袋裝非滅菌，大口 100支/包，10包/箱（1000支/箱）Tip 10000ul吸嘴無DNA酶無RNA酶無熱源吸頭適應客戶：醫(yī)院檢驗科PCR實驗室，實驗室；第三方檢測機構，科研院所，大專院校，制藥廠，試劑生產廠家，疾控，檢驗檢疫。

2022-07-23 13:08:19改用無目鏡體視顯微鏡的7大理由: 1.更大的頭部活動自由度從固定的頭部姿勢中獲得解放當使用傳統(tǒng)的體視顯微鏡時，使用者必須嚴格限制頭部的活動，否則瞳孔和目鏡之間錯位，無法看清楚放大后的圖像。由無目鏡光學技術擴大的出射光瞳，無目鏡體視顯微鏡令用戶從固定的頭部姿勢中獲得解放。操作人員可以任意左右移動頭部，緩解頭部固定姿勢所造成的壓力與疲勞，尤其是當用戶長時間使用顯微鏡時。 2.保持舒適的身體姿勢增強用戶舒適度從而提高產能顯微鏡觀測工作對操作者的骨骼提出了苛刻的要求。當操作人員感到不適或緊張時，觀測準確性和工作效率都會受到影響。傳統(tǒng)的顯微鏡操作人員必須保持一個不自然的、固定的身體姿勢，以確保他們的眼睛與目鏡保持一致。長時間保持一個固定姿勢會導致身體疲勞，并可能導致嚴重的頸部和背部問題，以及其他更多健康問題。一項記錄長期使用顯微鏡影響的研究發(fā)現(xiàn)，78%的傳統(tǒng)顯微鏡操作人員伴有頸部疲勞*。這是由于頭部長時間保持傾斜，比如與垂直方向成30度，導致了明顯的肌肉收縮、疲勞和疼痛。 3.操作目標物時不易失焦增強手眼協(xié)調并易于操作目標物在普通顯微鏡下使用工具或操作目標物時，手眼協(xié)調總是一個巨大挑戰(zhàn)。當使用傳統(tǒng)顯微鏡時，手眼協(xié)調有時很困難，因為眼睛和目鏡之間的距離很短，限制了周邊視覺。使用無目鏡顯微鏡系統(tǒng)的操作人員可以坐在離顯微鏡更遠的地方，允許更大的周邊視覺，因此提高了以更安全、更直觀的方式使用手和操作工具的能力。 4.減少眼部壓力及頭痛減少眼部壓力疲勞94%的顯微鏡使用者據報告有視力問題或眼部多重問題，包括頭痛和眼睛干澀等。有三個主要原因可以解釋為什么這么多顯微鏡使用者會有這種不適：數據來源:1. Thompson SK, Mason E, Dukes S，人體工程學和細胞技術學家：報告的肌肉骨骼不適。 Diagn Cytopathol.2003;29:364 – 367。 2. Garima Jain and Pushparaja Shetty，與經常使用顯微鏡有關的職業(yè)關切:《國際職業(yè)醫(yī)學與環(huán)境衛(wèi)生雜志》2014;27(4):591-598。 3. Fritzsche et al.; licensee BioMed Central Ltd. 2012。 5.可佩戴眼鏡及護目鏡視距及其如何影響佩戴眼鏡的操作者眼鏡佩戴者在使用傳統(tǒng)目鏡顯微鏡時可能會遇到困難，無法獲得清晰無阻的視野。這是因為每只眼睛都必須對準目鏡形成圖像的位置。這個點被稱為“出射光瞳”，通常直徑在3毫米到5毫米之間，并不比正常光線下的瞳孔直徑大多少。當出射光瞳完全覆蓋眼睛瞳孔并毫無阻礙地保持在該位置時，才可以獲得清晰的觀察圖像。大多數顯微鏡用戶需要直接接觸顯微鏡目鏡，以保持正確的觀察位置和保持圖像在視線內。戴眼鏡的用戶，當他們的眼睛不能足夠接近出射光瞳位置時，問題就出現(xiàn)了。這種情況下，圖像聚焦，但視野受到限制，很難保持出射光瞳覆蓋（或位于）瞳孔直徑。此外，用戶位置的輕微偏移可能導致視野中產生陰影。視距是操作員需要保持的與目鏡之間的距離，以便使出射光瞳與自己的瞳孔對齊。出射光瞳越小，則為了清晰看到圖像所需要保持的距離越小。需要佩戴眼鏡的操作人員，至少需要18 – 20毫米的視距區(qū)域，以方便佩戴眼鏡。無目鏡體視顯微鏡擴大了出射光瞳直徑，達38毫米。視距越大，留給佩戴眼鏡或護目鏡的空間就越大。 6.減少交叉感染將健康和安全作為優(yōu)先事項如今，越來越多的公司把員工的健康和安全作為優(yōu)先考慮的問題。與目鏡顯微鏡相比，無目鏡顯微鏡具有顯著的健康益處。除了符合人機工學的優(yōu)點外，無目鏡體視顯微鏡在最大限度減少交叉污染方面也有明顯的優(yōu)勢：使用者的眼睛與儀器設備沒有接觸，大大降低了共用設備帶來的感染風險，佩戴防護目鏡或面罩也不會限制使用及操作。適用于多用戶之間共享使用，無目鏡顯微鏡系統(tǒng)僅需最小的調整，近乎無接觸式的操作，確保員工在工作場所的健康安全，而不會影響觀測檢查工作進程和生產率。由于無目鏡顯微鏡有更長的視距，它們可以用于在層流柜中觀測敏感材料，以防止污染。7.具有成本效益的解決方案考慮真正的擁有成本在考慮體視顯微鏡時，光學、放大、照明和人體工程學等技術的進步最有可能影響決定。其他還需要考慮的是高質量顯微鏡帶來的好處，以及購買低質量顯微鏡如何影響時間和成本。質量差成本高。一般而言，一個公司因浪費、返工和保修造成的損失平均為10%。如果質量標準不提高，制造商的聲譽就會受損。當由于供應鏈材料質量不佳而未能在截止日期前完成生產，或由于員工健康狀況而導致生產延誤時，公司也可能發(fā)生虧損。由于工人必須長時間保持眼鏡盯著同一位置，他們經常會感到眼睛疲勞、頭痛和眼睛不適，需要多次休息來緩解，這占用了工作時間。無目鏡顯微鏡提供了一個理想解決方案，提高用戶的舒適度，這將大大提高產能和生產率。從長遠來看，一個不太昂貴的顯微鏡的“真正成本”，可能會更貴。沒有必要買比所需更多更花哨的東西，然而，重要的是要提前思考，考慮業(yè)務可能會如何變化和增長，以及一些無形的東西，比如如果不能提供高質量產品時，用于修復聲譽的成本。