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2025-01-10 10:49:44等離子顯示技術(shù): 等離子顯示技術(shù)是一種利用氣體放電原理顯示圖像的技術(shù)。它通過(guò)在兩塊玻璃板之間注入混合氣體，并施加電壓使氣體電離，產(chǎn)生紫外線激發(fā)熒光物質(zhì)發(fā)光，從而呈現(xiàn)出圖像。該技術(shù)具有色彩鮮艷、對(duì)比度高、視角寬、響應(yīng)速度快等優(yōu)點(diǎn)，適用于大屏幕高清顯示。然而，等離子顯示技術(shù)也存在能耗較高、制造成本相對(duì)較大等缺點(diǎn)。近年來(lái)，隨著LED等新型顯示技術(shù)的崛起，等離子顯示技術(shù)的發(fā)展受到了一定挑戰(zhàn)。

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等離子顯示技術(shù)文章

顯示技術(shù)的歷史回顧與未來(lái)展望：技術(shù)革新帶來(lái)的變革

在第一個(gè)專題中我們講述了光色測(cè)量原理，這次我們?cè)賮?lái)簡(jiǎn)單回顧一下顯示技術(shù)的發(fā)展歷史和趨勢(shì)。顯示技術(shù)是用于創(chuàng)建和呈現(xiàn)可視化信息的各種方法和系統(tǒng)的總稱。

北京卓立漢光儀器有限公司 208
2024-11-01
Micro-LED 陰極射線管等離子顯示技術(shù)
追溯顯示技術(shù)的演變與展望其未來(lái)潛力

在第一個(gè)專題中我們講述了光色測(cè)量原理，這次我們?cè)賮?lái)簡(jiǎn)單回顧一下顯示技術(shù)的發(fā)展歷史和趨勢(shì)。顯示技術(shù)是用于創(chuàng)建和呈現(xiàn)可視化信息的各種方法和系統(tǒng)的總稱。

北京先鋒泰坦科技有限公司 240
2024-11-04
等離子顯示技術(shù)Micro-LED 陰極射線管

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等離子顯示技術(shù)問(wèn)答

2022-01-19 16:22:22什么是低壓等離子技術(shù)？: 對(duì)于低壓等離子技術(shù)，氣體在真空中通過(guò)獲取能量從而被激發(fā)。等離子由高能離子、高能電子以及其它反應(yīng)粒子組成。由此，等離子材料表面可以被有效的改變。其等離子效應(yīng)可以分為以下三類·微砂噴射：材料表面通過(guò)離子轟擊被消減·化學(xué)反應(yīng)：材料表面與離子化的氣體產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)·紫外線放射：紫外射線將長(zhǎng)鏈破化合物分解通過(guò)改變工藝參數(shù)，如：壓力、發(fā)生器功率、工藝時(shí)間、氣體流量和氣體組成，可以獲得不同的等離子效果。如此便可在一道工序內(nèi)完成多種工藝效果。低壓等離子技術(shù)特點(diǎn)特別適用于處理2D或3D部件用于處理散裝材料批處理工藝Diener等離子表面處理技具有出類拔萃的等離子系統(tǒng)。Diener的產(chǎn)品線包含標(biāo)準(zhǔn)及特種設(shè)備，涵蓋所有等離子表面處理應(yīng)用領(lǐng)域。為您提供量身定制的解決方案,根據(jù)您的需求為您開(kāi)發(fā)設(shè)計(jì)及生產(chǎn)設(shè)備。上海爾迪儀器科技有限公司代理德國(guó)Diener的產(chǎn)品、大氣壓等離子清洗機(jī)，具有免費(fèi)的售前售后服務(wù)，響應(yīng)速度快，如有需要，可聯(lián)系上海爾迪儀器科技有限公司。

2021-11-16 17:20:18解說(shuō)等離子技術(shù)用于涂層: 用于涂層所有的工業(yè)材料、金屬、玻璃、陶瓷等離子聚合反應(yīng)單體被導(dǎo)入等離子反應(yīng)腔。等離子使氣體原子化并使其沉積在工藝部件的表面。應(yīng)用．疏水層的沉積．親水層的沉積．保護(hù)或絕緣層的沉積．防擴(kuò)散層適用部件．精密驅(qū)動(dòng)件．洗碗機(jī)．醫(yī)療器械．車大燈反射鏡．?dāng)z像頭．以及其他部件應(yīng)用領(lǐng)域．生物芯片制造．精密機(jī)械制造．洗碗機(jī)制造．醫(yī)療器械制造．傳感器工程．紡織業(yè)．鐘表制造業(yè)．以及其他應(yīng)用領(lǐng)域

2021-11-16 17:20:31等離子技術(shù)在材料表面的應(yīng)用: 若須改變材料表面，向您提高等離子解決方案等離子技術(shù)－盡皆可能等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過(guò)這項(xiàng)前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。這項(xiàng)技術(shù)可以應(yīng)用于多種領(lǐng)域，例如： ·精密清洗小部件及微小部件·表面激活人造材料（先于粘接、涂裝工藝等〉·蝕刻及部分去除不同材料的表面如： PTFE 、光刻膠、硅等·表面涂層如：類 PTFE 涂層、阻隔層、親水及疏水涂層、減阻涂層等等離子技術(shù)現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于各工業(yè)領(lǐng)域，并不斷向新的應(yīng)用領(lǐng)域延伸。等離子技術(shù) 相比于其它工藝，如火焰處理或濕法化學(xué)處理，等離子技術(shù)有著顯著優(yōu)勢(shì)：·許多表面性質(zhì)只能通過(guò)此工藝來(lái)獲得·通用適用工藝：在線應(yīng)用及全自動(dòng)化應(yīng)用·杰出的環(huán)保工藝·幾乎元須考慮材料的幾何外形，可以處理如：粉未、小部件、板材、絨頭織物、紡織品、軟管、空心件、印刷電路板等·被處理的部件不會(huì)發(fā)生機(jī)械形變·低溫工藝·低運(yùn)營(yíng)成本·高工藝可靠性及高操作安全性·高效工藝更多詳細(xì)資料，可聯(lián)系上海爾迪儀器科技有限公司

2023-03-14 12:04:54等離子去膠機(jī)（Plasma Cleaner）: 等離子去膠機(jī)（Plasma Cleaner）為何要去除光刻膠？在現(xiàn)代半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中，會(huì)大量使用光刻膠來(lái)將電路板圖圖形通過(guò)掩模版和光刻膠的感光與顯影，轉(zhuǎn)移到晶圓光刻膠上，從而在晶圓表面形成特定的光刻膠圖形，然后在光刻膠的保護(hù)下，對(duì)下層薄膜或晶圓基底完成進(jìn)行圖形刻蝕或離子注入，最后再將原有的光刻膠徹底去除。去膠是光刻工藝中的最后一步。在刻蝕/離子注入等圖形化工藝完成后，晶圓表面剩余光刻膠已完成圖形轉(zhuǎn)移和保護(hù)層的功能，通過(guò)去膠工藝進(jìn)行完全清除。光刻膠去除是微加工工藝過(guò)程中非常重要的環(huán)節(jié)，光刻膠是否徹底去除干凈、對(duì)樣片是否有造成損傷，都會(huì)直接影響后續(xù)集成電路芯片制造工藝效果。半導(dǎo)體光刻膠去除工藝有哪些？半導(dǎo)體光刻膠去除工藝，一般分成兩種，濕式去光刻膠和干式去光刻膠。濕式去膠又根據(jù)去膠介質(zhì)的差異，分為氧化去膠和溶劑去膠兩種類別。干式去膠適合大部分去膠工藝，去膠徹底且速度快，是現(xiàn)有去膠工藝中zui好的方式。一、等離子去膠機(jī)簡(jiǎn)述：氧等離子去膠是利用氧氣在微波發(fā)生器的作用下產(chǎn)生氧等離子體，具有活性的氧等離子體與有機(jī)聚合物發(fā)生氧化反應(yīng)，使有機(jī)聚合物被氧化成水蒸汽和二氧化碳等排除腔室，從而達(dá)到去除光刻膠的目的，這個(gè)過(guò)程我們有時(shí)候也稱之為灰化或者剝離。氧等離子去膠相比于濕法去膠工藝更為簡(jiǎn)單、適應(yīng)性更好，去膠過(guò)程純干法工藝，無(wú)液體或者有機(jī)溶劑參與。當(dāng)然我們需要注意的是，這里并不是說(shuō)氧等離子去膠工藝100%好于濕法去膠，同時(shí)也不是所有的光刻膠都適用于氧等離子去膠，以下幾種情形我們需要注意：① 部分穩(wěn)定性極高的光刻膠如SU-8、PI（聚酰亞胺），往往膠厚也比較大，純氧等離子體去膠速率也比較有限，為了保證快速去膠，往往還會(huì)在工藝氣體中增加氟基氣體增加去膠速率，因此不只是氧氣是反應(yīng)氣體，有時(shí)候我們也需要其他氣體參與；② 涂膠后形成類非晶態(tài)二氧化硅的HSQ光刻膠。由于其構(gòu)成并不是單純的碳?xì)溲酰允菬o(wú)法使用氧等離子去膠機(jī)來(lái)實(shí)現(xiàn)去膠；③ 當(dāng)我們的樣品中有其他需要保留的結(jié)構(gòu)層本身就是有機(jī)聚合物構(gòu)成的，在等離子去膠的過(guò)程中，這些需要保留的層也可能會(huì)在氧等離子下發(fā)生損傷；④ 樣品是由容易氧化的材料或者有易氧化的結(jié)構(gòu)層，氧等離子去膠過(guò)程，這些材料也會(huì)被氧化，如金屬AG、C、CR、Fe以及Al，非金屬的石墨烯等二維材料；市面上常見(jiàn)氧等離子去膠機(jī)按照頻率可分為微波等離子去膠機(jī)和射頻等離子去膠機(jī)兩種，微波等離子去膠機(jī)的工作頻率為2.45GHz，射頻等離子去膠機(jī)的工作頻率為13.5MHz，更高的頻率決定了等離子體擁有更高的離子濃度、更小的自偏壓，更高的離子濃度決定了去膠速度更快，效率更高；更低的自偏壓決定了其對(duì)襯底的刻蝕效應(yīng)更小，也意味著去膠過(guò)程中對(duì)襯底無(wú)損傷，而射頻等離子去膠機(jī)其工作原理與刻蝕機(jī)相似，結(jié)構(gòu)上更加簡(jiǎn)單。因此，在光電器件的加工中，去膠機(jī)的選擇更推薦使用損傷更小的微波等離子去膠機(jī)。二、等離子清洗去膠機(jī)的工作原理：氧氣是干式等離子體脫膠技術(shù)中的首要腐蝕氣體。它在真空等離子體脫膠機(jī)反應(yīng)室內(nèi)高頻和微波能的作用下，電離產(chǎn)生氧離子、自由氧原子O*、氧分子和電子混合的等離子體，其間氧化能力強(qiáng)的自由氧原子（約10-20%）在高頻電壓作用下與光刻膠膜發(fā)生反應(yīng)：O2→O*+O*，CxHy+O*→CO2↑+H2O↑。反應(yīng)后產(chǎn)生的CO2和H2O然后被抽走。三、等離子去膠機(jī)的優(yōu)勢(shì)：1、等離子清洗機(jī)的加工過(guò)程易于控制、可重復(fù)且易于自動(dòng)化；使用等離子掃膠機(jī)可以使得清洗效率獲得更大的提高。整個(gè)清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點(diǎn)2、等離子掃膠機(jī)清洗對(duì)象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序，可以提高整個(gè)工藝流水線的處理效率；3、等離子掃膠機(jī)使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對(duì)人體的傷害，同時(shí)也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對(duì)象的問(wèn)題；4、避免使用ODS有害溶劑，這樣清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法；5、等離子去膠機(jī)采用無(wú)線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同，等離子體的方向性不強(qiáng)，這使得它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過(guò)多考慮被清洗物體的形狀；6、等離子去膠機(jī)在完成清洗去污的同時(shí)，還可以改良材料本身的表面性能，如提高表面的潤(rùn)濕性能、改良膜的黏著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。四、等離子去膠的主要影響因素：頻率選擇：頻率越高，氧越易電離形成等離子體。頻率太高，以至電子振幅比其平均自由程還短，則電子與氣體分子碰撞幾率反而減少，使電離率降低。一般常用頻率為 13.56MHz及2.45GHZ 。功率影響：對(duì)于一定量的氣體，功率大，等離子體中的的活性粒子密度也大，去膠速度也快；但當(dāng)功率增大到一定值，反應(yīng)所能消耗的活性離子達(dá)到飽和，功率再大，去膠速度則無(wú)明顯增加。由于功率大，基片溫度高，所以應(yīng)根據(jù)工藝需要調(diào)節(jié)功率。真空度的選擇：適當(dāng)提高真空度，可使電子運(yùn)動(dòng)的平均自由程變大，因而從電場(chǎng)獲得的能量就大，有利電離。另外當(dāng)氧氣流量一定時(shí)，真空度越高，則氧的相對(duì)比例就大，產(chǎn)生的活性粒子濃度也就大。但若真空度過(guò)高，活性粒子濃度反而會(huì)減小。氧氣流量的影響：氧氣流量大，活性粒子密度大，去膠速率加快；但流量太大，則離子的復(fù)合幾率增大，電子運(yùn)動(dòng)的平均自由程縮短，電離強(qiáng)度反而下降。若反應(yīng)室壓力不變，流量增大，則被抽出的氣體量也增加，其中尚沒(méi)參加反應(yīng)的活性粒子抽出量也隨之增加，因此流量增加對(duì)去膠速率的影響也就不甚明顯。五、等離子去膠機(jī)的應(yīng)用：1、光刻膠的去除、剝離或灰化2、SU-8的去除/ 犧牲層的去除3、有機(jī)高分子聚合物的去除4、等離子去除殘膠/去浮渣/打底膜5、失效分析中的扁平化處理6、表面沾污清除和內(nèi)腐蝕（深腐蝕）應(yīng)用7、清洗微電子元件，電路板上的鉆孔或銅線框架8、剝離金屬化工藝前去除浮渣9、提高黏附性，消除鍵合問(wèn)題10、塑料的表面改型：O2處理以改進(jìn)涂覆性能11、產(chǎn)生親水或疏水表面