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2025-01-10 17:05:18微納光纖制作: 微納光纖制作是將傳統(tǒng)光纖微型化、納米化的過程，通過化學(xué)腐蝕、熔融拉錐或激光加工等方法，將光纖直徑縮小至微米或納米尺度。這種光纖具有優(yōu)異的導(dǎo)光性能、強的倏逝場效應(yīng)及良好的機械柔韌性，適用于高靈敏度傳感、非線性光學(xué)、光通信及生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。其制作方法多樣，需根據(jù)具體應(yīng)用需求選擇合適的技術(shù)路徑。

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微納光纖制作資訊

微納光纖制作-筱曉光子實驗小分享④

光源為微納光纖制作過程中提供穩(wěn)定的光功率，拉錐機功率計通過顯示器監(jiān)控微納光纖拉制過程中的功率衰減與模式耦合。

筱曉（上海）光子技術(shù)有限公司 537
2022-09-18
微納光纖制作
微納光纖制作平臺IPCS-5000-ST型全功能光纖拉錐機

微納光纖是一種直徑接近或小于傳輸光波長的波導(dǎo)，由物理拉伸方法制得，具有表面光滑、直徑均勻性好、機械性能高、強光場約束、強倏逝場、表面場增強應(yīng)及反常波導(dǎo)色散等特性

 筱曉（上海）光子技術(shù)有限公司 937
2022-09-07
微納光纖制作平臺 IPCS-5000-ST型全功能光纖拉錐機

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: 微納光纖定制加工; 國外亞洲; 面議; 筱曉（上海）光子技術(shù)有限公司
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: 微光纖板(FOP) J5743; 國外亞洲; 面議; 濱松光子學(xué)商貿(mào)（中國）有限公司
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: 微光纖板(FOP) J3182-74; 國外亞洲; 面議; 濱松光子學(xué)商貿(mào)（中國）有限公司
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: 微光纖板(FOP) J3182-73; 國外亞洲; 面議; 濱松光子學(xué)商貿(mào)（中國）有限公司
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微納光纖制作問答

2023-02-05 09:13:27納克微束祝您元宵節(jié)快樂！: 萬家燈火，歡樂元宵！納克微束祝大家好夢皆圓！

2023-02-01 14:56:12蔡司激光共聚焦顯微鏡-微納器件的表征分析: 對微納器件進行表征時，常關(guān)注的便是器件的表面形貌和三維尺寸信息，比如粗糙度、深度、體積等，這些都是評價微納加工工藝的重要指標。然而，在進行表面三維的分析工作中，我們可能常遇到這樣的苦惱：　　光學(xué)明場無法直接定位到亞微米級缺陷結(jié)構(gòu)!　　樣品結(jié)構(gòu)太復(fù)雜，微弱信號無法捕獲，難以準確測量尺度信息!　　三維接觸式測量經(jīng)常會損傷柔軟樣品，導(dǎo)致測試結(jié)果不準確!　　今天，友碩小編將從下面幾個角度來看看蔡司激光共聚焦顯微鏡如何幫助你更好地解決這些問題。　　失效分析：多尺度多維度原位分析!　　器件表面往往存在一些特殊的結(jié)構(gòu)或缺陷，比如亞微米尺度的劃痕，這些特征難以在光學(xué)明場下被直接觀察到。C-DIC(圓微分干涉)觀察模式可以讓樣品表面亞微米尺度的微小起伏都可以呈現(xiàn)出浮雕效果，幫助我們快速定位并開展下一步的分析工作?！　　?不同觀察方式下晶圓表面缺陷　　在定位到感興趣區(qū)域后，可以直接切換到共聚焦模式，進行表面三維形貌掃描，并進行尺寸測量及分析，無需轉(zhuǎn)移樣品即可完成樣品多尺度多維度的表征?！　　簿劢谷S圖像及深度測量　　對于某些樣品，暗場和熒光模式也是一種很好定位方法，表面起伏的結(jié)構(gòu)在暗場下尤其明顯，如藍寶石這類能發(fā)熒光的晶圓，利用熒光成像也能幫助我們快速地定位到失效結(jié)構(gòu)。甚至，共聚焦還可以和電鏡或者雙束電鏡(FIB)(點擊查看)實現(xiàn)原位關(guān)聯(lián)，在共聚焦顯微鏡下進行定位后轉(zhuǎn)移樣品到電鏡下進行更高分辨的表征分析?！　∩罟杩涛g：結(jié)構(gòu)深，信號弱，蔡司激光共聚焦顯微鏡有辦法!　　深硅刻蝕的樣品通常為窄而深的溝壑結(jié)構(gòu)。接觸式測量(如臺階儀)無法接觸到溝壑底部測得信息，而由于結(jié)構(gòu)特殊造成了反射光信號損失，常規(guī)白光干涉或者顯微明場無法捕獲底面的微弱信號。因此，不得不對樣品進行裂片分析，這不僅破壞了樣品，而且還使分析流程復(fù)雜化。　　西湖大學(xué)張先鋒老師用蔡司激光共聚焦顯微鏡對深163.905 μm，寬3.734μm的刻蝕坑進行成像，高靈敏探測器、大功率激光及Z Brightness Correction技術(shù)可以幫助成功檢測到底部的微弱信號，完成大深寬比(近50：1)樣品的三維形貌表征與測量，輕松實現(xiàn)無損檢測分析。

2023-06-08 17:52:34邀請函｜飛納電鏡邀您參加微納科技與先進材料創(chuàng)新大會 2023: 復(fù)納INVITATION微納科技與先進材料創(chuàng)新大會（2023）將于 6 月 10 日 - 12 日在重慶舉辦。本次會議旨在凝聚優(yōu)勢力量、加強納米科學(xué)與微納制造技術(shù)的基礎(chǔ)研究與應(yīng)用研究，促進多學(xué)科交叉融合，促進先進材料產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展。時間：2023 年 6 月 10 日 - 12 日地點：重慶兩江云頂大酒店復(fù)納科技展位號：7 號新興的微納材料在電子、通信和物聯(lián)網(wǎng)、能源存儲、化工和燃料生產(chǎn)、醫(yī)療保健、藥物輸送等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。納米材料的性質(zhì)與其組成和表面形貌有很大的關(guān)系，復(fù)納科技擁有一系列高精尖的分析檢測儀器與先進的解決方案，可以對納米材料進行分析表征和改性。歡迎各位老師同行蒞臨【7】號展位，和我們一起探討交流！莊思濛復(fù)納科技產(chǎn)品經(jīng)理報告時間：6月12日 16:05-16:25本次會議中，復(fù)納科技產(chǎn)品經(jīng)理莊思濛將在“微納技術(shù)在新能源電池領(lǐng)域中的應(yīng)用技術(shù)”分會場帶來《電池粉末原子層沉積包覆改性及原位電鏡表征方案》的主題報告。1、Phenom-飛納臺式掃描電鏡飛納臺式掃描電鏡操作簡單，效率高，成像質(zhì)量高，其優(yōu)異的低真空模式可實現(xiàn)無需噴金直接觀察不導(dǎo)電樣品。最新的第二代場發(fā)射掃描電鏡 Phenom Pharos G2 分辨率優(yōu)于 1.5nm，是分辨率最高的臺式掃描電鏡，是納米材料表征的強有力工具。Phenom Pharos G2飛納臺式場發(fā)射掃描電鏡Phenom XL G2飛納臺式掃描電鏡大樣品室卓越版Phenom ProX飛納臺式掃描電鏡能譜一體機2、Forge Nano-原子層沉積系統(tǒng)ALD 原子層沉積技術(shù)已被證明可用于多種組分以及納米結(jié)構(gòu)的制備，包括單原子 / 團簇催化劑、鋰電材料表面包覆等等。Forge Nano 設(shè)備基于 ALD 工藝可實現(xiàn)從毫克到千噸級的粉末包覆處理量，能夠有效提高電池化學(xué)性能與安全性。3、DENSsolutions-TEM 原位實驗方案DENS 產(chǎn)品可以為 TEM 樣品施加外界刺激，實現(xiàn)在 TEM 中引入氣、液、熱、電等多種條件，捕捉 TEM 樣品在真實環(huán)境下的動態(tài)現(xiàn)象。目前提供的四種原位實驗方案：Wildfire TEM 原位加熱方案、Lightning TEM 原位熱電方案、Climate TEM 原位氣相加熱方案和 Stream TEM 原位液相加熱 / 加電方案。Wildfire 原位加熱樣品桿Lightning 原位熱電樣品桿Lightning 原位熱電樣品桿Stream 原位液相加熱/加電樣品桿Climate 原位氣相加熱樣品桿4、VSParticle-全自動納米研究平臺VSParticle 設(shè)備采用火花燒蝕制備納米顆粒的技術(shù)，可對產(chǎn)生的顆粒進行粒徑的控制，從而獲得不同粒徑中位值的單分散納米氣溶膠。此外該技術(shù)也能用于進行快速打印以及粉末表面的納米沉積。歡迎各位老師蒞臨展位與我們探討交流，我們將隨時為您提供專業(yè)的解答與支持，現(xiàn)場也有精美小禮品相送噢！

2023-05-31 13:03:22客戶成就 |基于光纖的貝塞爾光發(fā)生器制作: 貝塞爾光束從其被發(fā)現(xiàn)開始，由于其比光學(xué)中典型的高斯光束具有特殊的優(yōu)勢，擁有獨特的無衍射和自恢復(fù)特性，引起了科學(xué)界極大的興趣。這些特性也就意味著光束在被物體部分阻擋后可進行自我重建。由于這些獨特性，貝塞爾光束在光學(xué)鑷子、顯微鏡、光譜學(xué)和通信應(yīng)用方面有很大的潛力。然而由于其依賴于空間光元件，并且在滿足定制光束參數(shù)的需要方面受到限制，因此在實際的科學(xué)實驗中要產(chǎn)生貝塞爾光束是十分具有挑戰(zhàn)性的。如今，借助于Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)可直接在光纖上打印新型光子結(jié)構(gòu)，使其產(chǎn)生零階和渦流貝塞爾光束。在光纖上打印微納光子結(jié)構(gòu)以產(chǎn)生零階和渦旋貝塞爾光束貝塞爾光束的特殊性使其成為各種光學(xué)應(yīng)用（例如通信、光誘捕和成像等）最佳選擇。如果你看到貝塞爾光束的橫截面，你會發(fā)現(xiàn)一組同心圓或圓環(huán)，與典型的高斯光束相比，光束的最內(nèi)圈可以在更長的延伸范圍內(nèi)保持聚焦。即使貝塞爾光束被一個物體部分阻擋，光束在穿過該物體后能夠進行自我重建。然而，要將圓形光束轉(zhuǎn)化為若干環(huán)形，需要特殊的光學(xué)器件，如錐狀折射材料axicon或全息光束整形方法。為了克服這些方法所需的空間光元件的限制，基于光纖的貝塞爾光束發(fā)生器應(yīng)運而生。但是，當涉及到調(diào)整光束參數(shù)時，這些基于光纖的解決方案卻是有限的，并且只提供零階貝塞爾光束的生成。來自沙特阿拉伯阿卜杜拉國王科技大學(xué)的科學(xué)家們開發(fā)了一種新的方法來制造一個由堆疊的微光元件組成的光子結(jié)構(gòu)。他們將該結(jié)構(gòu)直接3D打印在光纖面上，以實現(xiàn)從光纖生成零階和渦流貝塞爾光束。基于光纖的貝塞爾光束發(fā)生器的設(shè)計由三個元素組成，用于對齊單模光纖輸出的高斯樣光束，并將其轉(zhuǎn)化為貝塞爾光束。這些微光學(xué)元件是使用Nanoscribe的2PP打印技術(shù)在光纖面上一次性3D打印出來的。圖片來自于：KAUST新型解決方案-光纖上打印3D結(jié)構(gòu)科學(xué)家們使用雙光子聚合高分辨率三維打印技術(shù)，為從光纖中直接產(chǎn)生零階和高階貝塞爾光束，并與光纖的核心對齊提供了有效的解決方案并。同時，Nanoscribe的IP-Dip光刻膠提供了生產(chǎn)光子晶體光纖設(shè)計所需的高空間分辨率，以便操縱光束。全新微納加工方案使得打印的微光學(xué)元件具有較低的表面粗糙度。三維打印的微光學(xué)元件顯示了光束轉(zhuǎn)換的高效率和低傳輸損耗?；?PP原理三維打印技術(shù)能夠打印先進的任意形狀的復(fù)雜3D微光學(xué)元件，如貝塞爾光束發(fā)生器。該基于光纖的光子結(jié)構(gòu)由三個微光學(xué)元件組成，它們相互對準并與底層光纖面相連接，并可實現(xiàn)單個元件的無縫集成。2PP技術(shù)可實現(xiàn)按需定制光學(xué)參數(shù)來調(diào)整光子結(jié)構(gòu)設(shè)計。因此，這種復(fù)合光子結(jié)構(gòu)的快速原型設(shè)計使得在根據(jù)具體應(yīng)用進行改變設(shè)計時，可以實現(xiàn)快速的設(shè)計迭代周期。得益于2PP三維打印技術(shù)的靈活性，定制打印的貝塞爾光束發(fā)生器可以應(yīng)用于內(nèi)窺鏡，光學(xué)相干斷層掃描、基于光纖的光學(xué)捕集和微操縱等領(lǐng)域。SEM特寫圖顯示了基于光纖的3D打印貝塞爾光束發(fā)生器，該結(jié)構(gòu)帶有螺旋相位板的光子晶體設(shè)計和帶有支撐結(jié)構(gòu)的微透鏡。靈感來自于KAUST的設(shè)計。由Nanoscribe制作A2PL技術(shù)實現(xiàn)納米精度三維對準在光纖上打印光子結(jié)構(gòu)來生成貝塞爾光束需要打印精確對準光纖光軸的微光學(xué)元件。新一代的Quantum X對準系統(tǒng)可以比其他Nanoscribe基于2PP技術(shù)的3D打印系統(tǒng)在達到更高形狀精度的同時，更快、更簡便、更精確地完成這項任務(wù)。這是因為Quantum X align是基于最先進的平臺，并具有專利的對準雙光子光刻技術(shù)A2PL?。因此，優(yōu)化的硬件和軟件使得在光纖上以亞微米的精度打印復(fù)雜的3D微光學(xué)元件成為了可能。項目團隊阿卜杜拉國王科技大學(xué)-生物和環(huán)境科學(xué)工程系阿卜杜拉國王科技大學(xué)-計算機，電氣和數(shù)學(xué)科學(xué)與工程系原文文獻3D-printed fiber-based zeroth- and high-order Bessel beam generator https://opg.optica.org/optica/fulltext.cfm?uri=optica-9-6-645&id=476826

2025-09-30 16:45:21微庫侖儀是什么: 微庫侖儀是一種精密的電學(xué)測量儀器，廣泛應(yīng)用于電子學(xué)、電氣工程、物理學(xué)等多個領(lǐng)域，尤其是在測量微小電荷量和電荷分布方面具有重要意義。隨著科技的不斷進步，微庫侖儀在高精度實驗和科研工作中扮演著愈加重要的角色。本篇文章將詳細介紹微庫侖儀的定義、工作原理、主要應(yīng)用及其發(fā)展趨勢，旨在幫助讀者全面了解這一專業(yè)儀器的功能及其在實際應(yīng)用中的重要性。微庫侖儀的定義與原理微庫侖儀，顧名思義，是用于測量微小電荷量的儀器。它的單位“庫侖”（C）是電荷量的標準單位，而微庫侖儀則主要用于測量微庫侖級別的電荷。微庫侖儀能夠精確地測定電荷量，通常用于研究微小電荷的分布、靜電現(xiàn)象以及電氣組件的性能測試。微庫侖儀的工作原理基于靜電力學(xué)的基本原理。它通過測量電荷在電場中所產(chǎn)生的靜電力，然后轉(zhuǎn)換為電荷的具體數(shù)值。微庫侖儀通常由電容器、傳感器、電源以及顯示裝置等組成。通過調(diào)節(jié)電容器的電場強度，儀器能夠測量電荷量的變化，從而實現(xiàn)對微小電荷的精確測量。微庫侖儀的主要應(yīng)用領(lǐng)域微庫侖儀的應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛，主要體現(xiàn)在以下幾個方面：靜電學(xué)研究：微庫侖儀是靜電學(xué)實驗中不可或缺的工具，它能夠準確地測量微小的電荷變化，為靜電力學(xué)的研究提供數(shù)據(jù)支持。例如，在研究帶電物體之間的靜電力時，微庫侖儀可以幫助科學(xué)家測量電荷的分布情況，進而驗證相關(guān)理論。電氣工程測試：在電子元器件的生產(chǎn)和測試過程中，微庫侖儀用于檢查電容、絕緣電阻、電荷泄漏等電氣性能。這對于確保電子產(chǎn)品的穩(wěn)定性和可靠性至關(guān)重要。電池技術(shù)：微庫侖儀在電池研發(fā)中也有重要應(yīng)用，尤其是在鋰電池、超級電容器等高性能電池的測試中。它可以用于測量電池在充放電過程中的電荷變化，幫助工程師優(yōu)化電池的設(shè)計和性能。氣體放電研究：在高壓電氣設(shè)備中，氣體放電現(xiàn)象常常伴隨微小電荷的變化。微庫侖儀可以精確測量這些電荷，幫助研究人員分析氣體放電的性質(zhì)和規(guī)律。納米技術(shù)領(lǐng)域：隨著納米技術(shù)的快速發(fā)展，微庫侖儀在納米材料的電學(xué)性質(zhì)測試中也發(fā)揮了重要作用。它能夠幫助研究人員分析納米材料的電荷特性及其在不同條件下的變化，從而推動納米技術(shù)的發(fā)展。微庫侖儀的發(fā)展與前景隨著科技的進步，微庫侖儀的技術(shù)不斷革新，其應(yīng)用領(lǐng)域也逐步擴展。傳統(tǒng)的微庫侖儀主要依賴于手動操作和機械裝置，隨著數(shù)字化和自動化技術(shù)的發(fā)展，現(xiàn)代微庫侖儀不僅在測量精度上有了顯著提高，還具備了更加智能化的功能。例如，現(xiàn)代微庫侖儀可以與計算機系統(tǒng)連接，實時記錄和分析測量數(shù)據(jù)，甚至實現(xiàn)遠程監(jiān)控和數(shù)據(jù)共享。這對于需要高精度、長時間跟蹤電荷變化的研究具有重要意義。新型微庫侖儀還具備更高的測量精度和更廣泛的測量范圍，能夠滿足日益增長的科研需求。隨著微庫侖儀技術(shù)的不斷發(fā)展，它在電子設(shè)備、能源技術(shù)、環(huán)境保護等多個領(lǐng)域的應(yīng)用前景愈加廣闊。未來，微庫侖儀將進一步推動高精度測量技術(shù)的發(fā)展，特別是在微納米尺度上的應(yīng)用將成為其新的發(fā)展方向。總結(jié) 微庫侖儀是一種高精度的電荷測量工具，憑借其精密的測量原理和廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，在科研、工程和技術(shù)領(lǐng)域中發(fā)揮著重要作用。隨著技術(shù)的不斷進步，微庫侖儀將不斷優(yōu)化其測量性能，并在更多新興領(lǐng)域中找到應(yīng)用。對于從事相關(guān)科研和工程的專業(yè)人士而言，深入了解微庫侖儀的工作原理與發(fā)展趨勢，將為未來的技術(shù)創(chuàng)新提供寶貴的參考依據(jù)。