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為你推薦

產(chǎn)品特點(diǎn)：

提供Z廣泛的參數(shù)和工況模擬靈活性，用于精確和全面表征CMP過程及相關(guān)耗材

產(chǎn)品詳情：

產(chǎn)品介紹：

TriboLab CMP

TriboLab CMP 利用其前身產(chǎn)品（Bruker CP-4）超過 20 年的 CMP 領(lǐng)域?qū)I(yè)知識(shí)，為業(yè)界領(lǐng)先的 TriboLab 平臺(tái)帶來了一套完整的功能。基于本套設(shè)備產(chǎn)生的高精度和高可重復(fù)性使得在整個(gè) CMP 流程中能夠進(jìn)行高效的鑒別、檢查和連續(xù)功能測試。TriboLab CMP 是市場上唯一能夠提供廣泛的拋光壓力（0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、聲發(fā)射和表面溫度測量的工藝開發(fā)工具，可準(zhǔn)確、完整地描述 CMP 工藝和耗材。

無與倫比

小規(guī)模研發(fā)系統(tǒng)中的 ROI

此臺(tái)式工具可再現(xiàn)全尺寸晶圓拋光工藝條件，而無需在生產(chǎn)設(shè)備上停機(jī)。

靈活

參數(shù)控制

允許量身定制的測試，以加快材料開發(fā)，并精確優(yōu)化流程。

專家

應(yīng)用和支持

我們與大型安裝基地合作多年，為您的實(shí)驗(yàn)室提供專業(yè)知識(shí)。

特征

用于 CMP 的小型研發(fā)規(guī)模專業(yè)系統(tǒng)

布魯克的TriboLab CMP工藝和材料表征系統(tǒng)是專為晶圓拋光工藝而設(shè)計(jì)，是具有可靠、靈活和高效的臺(tái)式設(shè)備。

重現(xiàn)全尺寸晶圓拋光工藝條件，無需在生產(chǎn)設(shè)備上停機(jī)
提供無與倫比的測量可重復(fù)性和細(xì)節(jié)檢測
允許在小樣品上進(jìn)行測試，比全晶圓測試節(jié)省大量成本

板載診斷系統(tǒng)可以更好地了解拋光過程

比市場上任何其他系統(tǒng)提供更多的瞬態(tài)拋光過程的參數(shù)
從接觸拋光盤開始直至整個(gè)測試過程都能收集數(shù)據(jù)
通過更完整、更詳細(xì)的數(shù)據(jù)實(shí)現(xiàn)早期流程開發(fā)決策

在 TriboLab CMP 測試儀上測試調(diào)節(jié)盤。測試標(biāo)識(shí)兩組拋光盤。摩擦系數(shù)測試與拋光盤磨損相關(guān)。

具有靈活的樣品類型、尺寸和安裝配置

拋光任何平面材料，幾乎能使用任何修正盤，任何拋光液，和任何拋光墊
輕松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圓
可同時(shí)安裝多個(gè)樣品，測試更靈活

特里博實(shí)驗(yàn)室 CMP 墊示意圖

用于拋光盤測試的 CMP 測試儀的示意圖。

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