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美國KRI
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- 1978年Kaufman博士在美國創(chuàng)立Kaufman & Robinson,Inc公司，研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源Gridded和霍爾離子源Gridless。美國考夫曼離子源歷經(jīng)幾十年改良及發(fā)展已取得多項專利。 離子源廣泛用于離子清洗 PC，離子蝕刻IBE，輔助鍍膜 IBAD，離子濺射沉積IBSD領(lǐng)域。
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